SPM光刻工藝的研究報告

在這篇文章中，我們華林科納演示了在鈦薄膜上形成納米尺度陽極氧化物的設備，以及在接觸或半接觸模式下使用NTMDT公司的求解器PROTM AFM對其進行表征。

2022-02-08 標簽：電極光刻光刻機 1876 0

用于***照明均勻化的微柱面鏡陣列設計

在投影光刻機照明系統中，均勻照明是保證加工出的線條線寬均勻一致的一項重要技術。通常，用于光刻機照明系統的勻光元件有積分棒、衍射光學元件和微透鏡陣列。積分...

2023-05-17 標簽：照明系統光學設計光刻機 1812 0

半導體工藝裝備現狀及發展趨勢

集成電路前道工藝及對應設備主要分八大類，包括光刻（光刻機）、刻蝕（刻蝕機）、薄膜生長（PVD-物理氣相沉積、CVD-化學氣相沉積等薄膜設備）、擴散（擴散...

2023-05-30 標簽：集成電路半導體工藝 1809 0

一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術

? 集成電路作為現代信息技術的核心與基石，其發展一直遵循著Intel創始人之一戈登·摩爾提出的摩爾定律：價格不變時，約每隔18-24個月，集成度增加一倍...

2024-11-22 標簽：集成電路光刻機 1784 0

如何評估CPU硬件效率？CPU硬件運行效率介紹

提到CPU性能，大部分同學想到的都是CPU利用率，這個指標確實應該首先被關注。但是除了利用率之外，還有很容易被人忽視的指標，就是指令的運行效率。

2023-05-17 標簽：寄存器PMC光刻機 1694 0

納米壓印，終于走向臺前？

納米壓印技術，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術。該技術將設計并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術...

2023-05-19 標簽：晶體管納米光刻機 1653 0

光源掩模協同優化的原理與應用

由于SMO優化的結果是要應用到整塊芯片上去的，而對所有的圖形進行SMO是極為耗時的，因此，我們需要使用關鍵圖形篩選技術提前將重復或者冗余的圖形剔除，以保...

2023-08-01 標簽：摩爾定律芯片制造光刻機 1585 0

幾種新興存儲器的技術對比

根據存儲與計算的距離遠近，將廣義存算一體的技術方案分為三大類，分別是近存計算 (Processing Near Memory，PNM)、存內處理(Pro...

2023-06-09 標簽：存儲器光刻機EUV 1584 0

請問ARTPI是怎樣使用軟件I2C讀取mpu6050的？

喜報！我國第一臺28nm光刻機，交付時間已定！

2023-08-02 標簽：傳感器連接器光刻機 1544 0

浸沒式光刻，拯救摩爾定律

2000年代初，芯片行業一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術。

2023-08-23 標簽：編碼器晶圓交換機 1432 0

光刻工藝的基本步驟 ***的整體結構圖

光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認為其物理極限在0.25，...

2023-12-18 標簽：集成電路摩爾定律光刻機 1409 0

淺談不同階段光刻機工作方式

在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數...

2024-03-08 標簽：芯片制造光刻光刻機 1395 0

步進式***在碲鎘汞紅外芯片工藝中的應用以及取得的效果

光刻是制備碲鎘汞紅外探測器芯片過程中非常關鍵的工藝。

2023-06-18 標簽：晶圓紅外探測器光刻機 1316 0

光刻對準原理與精度控制

中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設...

2023-06-26 標簽：集成電路光刻機光刻技術 1314 0

計算光刻技術有多重要？計算光刻如何改變2nm芯片制造？

光刻是在晶圓上創建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。

2023-04-25 標簽：gpu芯片制造光刻 1263 0

EUV反射鏡的鍍膜工藝：如何選擇合適的鍍膜機

對基板移動進行仔細管理和將基板支架的機械公差降至最低，實現無與倫比的厚度均勻性濺射工藝的卓越穩定性和極高水平的層厚度精度。

2024-02-21 標簽：光譜反射鏡鍍膜機 1258 0