一文詳解光刻機的工作原理

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。

2020-10-16 標簽：光刻機 31.4萬 1

一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造

在半導體芯片制造設備中，投資最大、也是最為關鍵的是光刻機，光刻機同時也是精度與難度最高、技術最為密集、進步最快的一種系統性工程設備。光學光刻技術與其它光...

2018-04-10 標簽：光刻機asml 21.1萬 0

看懂光刻機:光刻工藝流程詳解

光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現...

2018-04-08 標簽：半導體器件光刻機半導體芯片 16.7萬 0

光刻機結構組成及工作原理

本文以光刻機為中心，主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結構組成、光刻機的性能指標、光刻機的工藝流程及工作原理。

2017-12-19 標簽：光刻機 16.4萬 0

一文解析刻蝕機和光刻機的原理及區別

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、...

2018-04-10 標簽：光刻機 13.3萬 0

一文弄懂半導體掩膜版制造工藝及流程

微電子制造過程中的圖形轉移母版掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是圖形設計和工藝技術等...

2024-01-06 標簽：集成電路液晶顯示器光刻機 3.4萬 0

光刻機被譽為半導體工業皇冠上的明珠,什么是光刻？

2019-01-08 標簽：光刻機半導體芯片 2.5萬 0

芯片本質是什么 芯片制作為什么那么難

2022-04-19 標簽：芯片晶圓光刻機 2.3萬 0

光刻機制造難度有多大？

據cnBeta、環球網、快科技等多家媒體證實，近日長江存儲從荷蘭阿斯麥（ASML）公司訂購的一臺光刻機已抵達武漢。這臺光刻機價值高達7200萬美元，約合...

2018-11-22 標簽：光刻機 2.1萬 0

說一說光刻機的那些事兒

一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗、烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。最初的工序是用光來制作一個掩模版，然后在硅片表...

2018-05-03 標簽：光刻機精密儀器 2.0萬 0

ASML光刻機的工作原理，光刻機制造難度有多大？

2019-05-15 標簽：控制器光刻機ASML 1.9萬 0

光刻機的背景技術和工作原理及專利分析的詳細資料說明

2019-06-16 標簽：芯片MOSFET光刻機 1.6萬 0