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標簽 > 光刻機
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光刻機是芯片制造最為重要的設備之一。目前,ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術,但是上海微電子經過17年的努力,才造出90...
用于集成電路制造的光刻機有兩種:半導體光刻機和光學(光刻)光刻機。下面將分別介紹這兩種光刻機的相關知識。半導體光刻機是根據芯片制造的工藝和設備來劃分的,...
是的!光刻機本身的原理,其實和相機非常相似,同學們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相。機。相機的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過相機的...
2022-11-21 標簽:光刻機 7904 0
光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上,通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程:涂膠、對準和曝光以及光...
用于Chiplet 3D系統的硅光Interposer工藝架構介紹
這篇文章簡要介紹CEA-Leti發布用于Chiplet 3D系統的硅光Interposer工藝架構,包括硅光前端工藝 (FEOL)、TSV middle...
半導體設備位于整個半導體產業鏈的上游,在新建晶圓廠中半導體設備支出的占比普遍達到 80%。一條晶圓制造新建產線的資本支出占比如下:廠房 20%、晶圓制造...
以硅晶片為例,硅從石英砂里提煉出來,在高溫下,碳和里面的二氧化硅發生化學反應只能得到純度約為98%的純硅,這對于微電子器件來說不夠純,因為半導體材料的電...
EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術,簡單來說,就是以極紫外光作“刀”,對芯片上的晶圓進行雕刻,讓芯片上的電路變成人...
利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。
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