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      標簽　>　光刻機

      光刻機

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      ASML***發展歷程 ***核心系統設計流程

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      光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試...

      2023-06-15 標簽：芯片制造光刻機EUV 4190 0

      光刻技術的原理及發展前景分析

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      光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形...

      2023-04-25 標簽：芯片電子元件光刻 3999 0

      半導體制造之光刻工藝講解

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      2023-12-04 標簽：半導體光刻機半導體制造 3928 0

      濕法去膠液的種類有哪些？去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

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      光刻技術通過光刻膠將圖案成功轉移到硅片上，但是在相關制程結束后就需要完全除去光刻膠，那么這個時候去膠液就發揮了作用，那么去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

      2023-09-06 標簽：晶圓光刻機光刻技術 3888 0

      光刻機的基本原理和核心技術

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      雖然DUVL機器可以通過多重曝光技術將線寬縮小到7-5納米，但如果要獲得更小的線寬，DUVL已經達到了極限。采用EUV作為光源的極紫外光刻（EUVL）成...

      2024-04-25 標簽：光源晶體管光刻機 3788 0

      國產***能否拯救中國半導體行業？

      6年以作者的認知我是認為不太可能達成，但就當他可能吧，6年后我們才能擁有28nm全打通的國產蝕刻設備，與網路上鋪天蓋地的蝕刻我們已能做到5nm是不是有如...

      2023-01-17 標簽：光刻機量子計算 3747 0

      一文讀懂讀透 半導體行業設備

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      刻蝕設備的重要性僅次于光刻機。而隨著NAND閃存進入3D、4D時代，要求刻蝕技術實現更高的深寬比，刻蝕設備的投資占比顯著提升，從25%提至50%。

      2023-05-22 標簽：晶圓光刻機半導體設備 3740 0

      ***平行光源應用及性能參數

      ***平行光源應用及性能參數

      光刻機用UV光源，其通過特殊光學設計發射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外線通過掩膜掩孔對集成電路高精密線路完成蝕刻曝光顯影的工作。

      2023-05-11 標簽：led集成電路光刻機 3688 0

      半導體制造之光刻原理、工藝流程

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      光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化...

      2023-10-09 標簽：電路圖光刻光刻機 3653 0

      中國半導體產業發展的利器——IP核

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      2020-09-22 標簽：半導體IP核光刻機 3385 0

      淺談ASML EUV光刻機路線圖

      目前主力出貨的TWINSCAN NXE: 3600D套刻精度為1.1nm，曝光速度30 mJ/cm2，每小時曝光160片晶圓，年產量為140萬片。

      2022-12-21 標簽：光刻機EUV 3381 0

      一文解析UCIe技術細節

      UCIe[4]是一種開放的行業標準互連，為異構芯片間提供了高帶寬、低延遲、高電源效率和高性價比的封裝內連接，以滿足整個計算系統的需求。

      2022-10-10 標簽：封裝光刻機異構芯片 3064 0

      芯片封裝為什么要用到*** 封裝***與芯片***的區別

      在芯片制造過程中，光刻機用于在硅片上形成光刻膠圖形，作為制造電路的模板。光刻機使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠，并通過投影光學系統將圖形投射到硅片...

      2023-09-12 標簽：芯片制造芯片封裝光學系統 2832 0

      淺談半導體設備高精密陶瓷關鍵部件的技術

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      對于芯片制造來講，光刻是一個必不可少的環節，可以說，沒有光刻機，就沒有現代芯片產業。在集成電路制造過程中，光刻工藝的費用約占制造成本的1/3 左右，耗費...

      2024-01-31 標簽：芯片制造CMP光刻機 2651 0

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      光刻機需要采用全反射光學元件，掩模需要采用反射式結構。 這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領域的顛覆性技術。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰，...

      2023-06-07 標簽：光刻機光刻技術EUV 2587 0

      ***的簡易工作原理圖 掩模版都有哪些種類？

      光刻掩模版，別稱“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”，一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形，實現對光線的遮擋或透過功能，是微電子光刻工...

      2023-02-13 標簽：集成電路光刻機 2469 0

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      偏振集成探測器具有體積小、重量輕、結構緊湊，并且無需圖像配準對動態目標同時同地同源探測與識別的優勢。

      2023-08-15 標簽：探測器紅外傳感器光刻機 2435 0

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      UV光刻機一般可以分為5種，即：接觸式光刻機，接近式光刻機，掃描投影式光刻機

      2023-09-19 標簽：半導體晶圓光刻機 2317 0

      光刻機的工作原理和分類

      ? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占...

      2024-11-24 標簽：芯片制造光刻機EUV 2139 0

      光刻機的常見類型解析

      光刻機的常見類型解析

      光刻機有很多種類型，但有時也很難用類型進行分類來區別設備，因為有些分類僅是在某一分類下的分類。

      2024-04-10 標簽：攝像機晶體管光刻機 2043 0

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