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      標簽　>　光刻機

      光刻機

      +關(guān)注30人關(guān)注

      文章：1102個 瀏覽：47515次 帖子：5個

      光刻機技術(shù)

      芯片產(chǎn)業(yè)中的光刻機是怎么雕刻出遠遠小于自己波長的線寬的？

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      具體地說是利用某種Copolymer，比如PMMA-PS，在滿足一定分子比和物理條件的形況下，PMMA跑到一邊，PS跑到另一邊，形成很有序的交錯結(jié)構(gòu)，再...

      2018-04-27 標簽：芯片半導(dǎo)體光刻機 1.6萬 0

      一文解析***工作原理圖

      節(jié)點的尺寸數(shù)值基本上和晶體管的長寬成正比關(guān)系，每一個節(jié)點基本上是前一個節(jié)點的0.7倍。這樣以來，由于0.7X0.7=0.49，所以每一代工藝節(jié)點上晶體管...

      2023-03-02 標簽：集成電路晶體管光刻機 1.5萬 0

      ***誰發(fā)明出來的 ***有多難制造

      光刻機的制造是一項復(fù)雜而精密的工藝，需要高度專業(yè)化的技術(shù)和設(shè)備。它涉及到許多關(guān)鍵的工藝步驟和組件，如光學(xué)系統(tǒng)、曝光光源、掩模制作等。

      2023-07-04 標簽：集成電路光學(xué)系統(tǒng)光刻機 1.4萬 0

      提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機的發(fā)展情況

      提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機的發(fā)展情況

      作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況...

      2020-08-28 標簽：光刻機 1.3萬 1

      什么是*** ***實現(xiàn)真的很難嗎

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      **什么是光刻機** 光刻-Photolithography，也叫做光刻技術(shù)或者是UV光刻技術(shù)，利用光纖（準確的來說波長極短的不可見光）將幾何圖案從光...

      2023-02-20 標簽：芯片光刻機光刻技術(shù) 1.3萬 0

      國產(chǎn)***EUV與DUV的分類

      DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithogr...

      2023-03-20 標簽：光刻機EUVDUV 1.3萬 0

      套刻誤差的含義、產(chǎn)生原因以及和對準誤差的區(qū)別

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      光刻機的工作過程是這樣的：逐一曝光完硅片上所有的場（field），亦即分步，然后更換硅片，直至曝光完所有的硅片；當對硅片進行工藝處理結(jié)束后，更換掩模，接...

      2018-01-18 標簽：晶圓硅片光刻機 1.3萬 0

      EDA技術(shù)的核心 常見EDA軟件工具有哪些？

      EDA技術(shù)的核心是將電子設(shè)計自動化，實現(xiàn)快速、準確、方便的電路設(shè)計和仿真，以提高電路設(shè)計的效率和可靠性。通過提高EDA技術(shù)的運用水平，可以縮短電路設(shè)計周...

      2023-04-19 標簽：eda光刻機電子設(shè)計自動化 1.2萬 0

      光刻工藝的8個基本步驟 光刻機結(jié)構(gòu)及工作原理

      摩爾定律 Intel創(chuàng)始人之一摩爾1964年提出，大約每隔12個月： 1）。芯片能力增加一倍、芯片價格降低- -倍; 2）。廣大用戶的福音、行業(yè)人...

      2022-08-29 標簽：光刻光刻機 1.1萬 0

      刻蝕機是干什么用的 刻蝕機和光刻機的區(qū)別

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      刻蝕機的刻蝕過程和傳統(tǒng)的雕刻類似，先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內(nèi)，通過化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...

      2024-03-11 標簽：芯片制造光刻光刻機 1.1萬 0

      造晶圓需要哪些半導(dǎo)體設(shè)備

      眾所周知，半導(dǎo)體作為最重要的產(chǎn)業(yè)之一，每年為全球貢獻近五千億美金的產(chǎn)值，可以毫不夸張的說，半導(dǎo)體技術(shù)無處不在。

      2018-12-25 標簽：半導(dǎo)體晶圓光刻機 1.1萬 0

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      光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過...

      2020-10-09 標簽：光刻機ASML 1.0萬 0

      芯片制造之光刻工藝詳細流程圖

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      2023-06-09 標簽：芯片制造光刻機EUV 1.0萬 0

      關(guān)于半導(dǎo)體制程/工藝/生產(chǎn)的性能分析和介紹

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      說完了 FinFET，我們還有最后一個后綴，就是昨天報道中的 LPP、LPE 了，其實這些指的都是同一代工藝中的不同種類，比如 LPE（Low Powe...

      2019-09-03 標簽：半導(dǎo)體晶體管光刻機 9815 0

      簡單梳理芯片制造的基本步驟

      從光刻機出來后還要經(jīng)歷曝光后的烘焙，簡稱后烘。這一步的目的是通過加熱讓光刻膠中的光化學(xué)反應(yīng)充分完成，可以彌補曝光強度不足的問題。

      2023-02-16 標簽：芯片芯片制造光刻機 9691 0

      超級全面！一文看懂***：MEMS傳感器及芯片制造的最核心設(shè)備

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      文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設(shè)備，市場規(guī)模全球第二 ·一超兩強壟斷市場，大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機：...

      2023-06-19 標簽：傳感器mems光刻機 9611 0

      ***詳解

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      光刻（Photolithography） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“...

      2023-05-17 標簽：集成電路微電子光刻機 9079 0

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