目前,推動半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的方式主要有兩種,一個(gè)是尺寸縮小,另一個(gè)是硅片直徑增大。由于硅片直徑增大涉及整條生產(chǎn)線設(shè)備的更換,因此目前主要發(fā)展路線是尺寸的縮小。除此之外,利用成熟特色工藝及第三代半導(dǎo)體材料改進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)品的性能也被企業(yè)大量采用,這將開辟摩爾定律的另一片新的天地。
據(jù)悉,臺積電3納米工廠已經(jīng)通過環(huán)境評測,依據(jù)原定時(shí)程,全球第一座3納米工廠,可望在2020年動工,最快2022年年底量產(chǎn)。此外,由于三星在臺積電之前搶先公布它的3納米將采用環(huán)柵FinFET的納米片結(jié)構(gòu),兩家3納米制程戰(zhàn)爭一觸即發(fā)。另有消息報(bào)道,臺積電仍沿用升級版的FinFET架構(gòu),可能采用遷移率更高的材料,而非環(huán)柵納米片結(jié)構(gòu)。
兩家在不同的工藝與架構(gòu)問題方面各自大作文章,其中的關(guān)鍵是要找出性能瓶頸之所在,然后以最具成本效益的方式使用最佳工具來分別解決這些瓶頸。無論是I/O、內(nèi)存接口還是過熱的邏輯塊,系統(tǒng)的運(yùn)行速度都只能與該系統(tǒng)中最慢的組件一致。
其實(shí),先進(jìn)封裝也是解決方案之一。在某些情況下,前道工藝的每一節(jié)點(diǎn)的進(jìn)步都可能需要一個(gè)完全不同的體系結(jié)構(gòu)與之配合。它可能是更多的軟硬件協(xié)同設(shè)計(jì),與整個(gè)設(shè)計(jì)優(yōu)化為一個(gè)系統(tǒng)。如果有一種一致的方法來描述這些設(shè)備并將它們連接在一起,那么釆用chiplet等方法可以更節(jié)省時(shí)間。
目前至少有六種主流的芯片/小芯片組合方式,還有更多的正在進(jìn)行中,不難想象每個(gè)芯片供應(yīng)商會根據(jù)價(jià)格、功耗、性能甚至地區(qū)標(biāo)準(zhǔn)快速地提供定制解決方案。因此,雖然應(yīng)用于高性能計(jì)算(HPC)及5G開發(fā)的芯片可能需要最新的2nm制程,但是與它配套的可能是16nm的SerDes、28nm電源模塊和40nm安全芯片等,同時(shí)它們將集成在一體。
本文整合自:賢集網(wǎng)、Taylor
責(zé)任編輯:符乾江
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