2025年3月27、28日，在上海舉辦的國際集成電路展覽會暨研討會（IIC Shanghai 2025）上，本土EDA企業英諾達攜其創新技術成果亮相，并憑借在低功耗設計領域的突破性貢獻，榮獲“2025年中國IC設計成就獎——年度技術突破EDA公司獎”。

算法驅動早期功耗優化，ERPE填補國內空白

在中國IC領袖峰會論壇上，英諾達EDA研發副總裁李英夢博士發表了題為《算法驅動早期功耗優化——加速后摩爾時代芯片能效躍遷》的演講，詳細介紹了國內首款RTL功耗優化EDA工具——EnFortius凝鋒RPE（ERPE）。該工具通過內建核心算法，在設計早期階段即可精準識別功耗優化關鍵點，顯著降低后期迭代成本，助力芯片設計實現能效目標。

李英夢博士表示：“ERPE的推出標志著國產EDA工具在低功耗設計領域的重要突破。其核心優勢在于將功耗分析與優化前移至RTL階段，為設計團隊提供切實可行的優化建議，從而縮短開發周期并提升芯片競爭力。”

今年，英諾達再度榮登電子工程專輯評定的TOP 10 EDA公司榜單，并憑借卓越的技術實力一舉摘得年度技術突破EDA公司獎。ERPE產品的創新突破，源于英諾達在低功耗與靜態驗證工具領域的持續深耕，以及40余項發明專利支撐的核心技術。公司通過自主研發的EDA解決方案，為芯片設計的左移和能效提升提供關鍵支持，推動國產EDA技術從“可用”向“好用”躍進。

關于IIC Shanghai

作為國內集成電路領域最具影響力的年度盛會之一，IIC Shanghai聚焦全球半導體技術趨勢與產業生態，匯聚產業鏈上下游企業，展示尖端產品與解決方案，為行業搭建交流合作平臺。

關于英諾達

英諾達（成都）電子科技有限公司是一家由行業頂尖資深人士創立的本土EDA企業，公司堅持以客戶需求為導向，幫助客戶實現價值最大化，為中國半導體產業提供卓越的EDA解決方案。公司的長期目標是通過EDA工具的研發和上云實踐，參與國產EDA完整工具鏈布局并探索適合中國國情的工業軟件上云的路徑與模式，賦能半導體產業高質量發展。公司的主營業務包括：EDA軟件研發、IC設計云解決方案以及IC設計服務。