1月29日,據韓國媒體報道,荷蘭半導體制造設備企業ASML 25日(當地時間)表示,可以繼續向中國出口深紫外線(DUV)曝光設備。
當天,首席執行官彼得·溫克寧表示,目前政府層面尚無新的出口限制措施,“我們可以繼續(向中國)發貨DUV設備”。
DUV曝光設備是ASML獨家生產的極紫外線(EUV)曝光設備的舊款型號,雖然不是尖端設備,但在智能手機和電動汽車、電腦等領域使用的半導體制造中使用較多。
美國去年10月為牽制中國半導體崛起,宣布對中國實施尖端半導體和半導體制造設備出口限制措施,拜登政府隨后要求荷蘭、日本、韓國等所謂半導體強國參與出口管制。
據悉,拜登總統17日在白宮會見荷蘭首相馬克·呂特時,也直接討論了對華半導體出口管制。
雖然當時對話的具體內容尚未公開,但有推測認為,荷蘭政府可能沒有要求對DUV設備進行出口管制,因為已經限制了對華出口EUV設備。
中國大陸是繼臺灣省和韓國之后的第三大ASML客戶,據悉,以2021年為準,占ASML全年銷售額的14.7%。
維尼克樂觀地表示,今年暗淡的經濟前景和不斷積累的半導體庫存令人擔憂,但同時客戶期待經濟條件在今年年底前好轉,中國的經濟復蘇有望實現,“這意味著需求可能會繼續保持高位”。
當天,ASML公布了去年第四季度凈利潤18.2億歐元,超過了專家的預測(17億歐元)。這一數字比前一年的17.7億歐元有所增加。第四季度的銷售額為64.3億歐元,也超過了專家預測的63.8億歐元。季度毛利比一年前的54.2%有所減少,為51.5%。
2022年全年凈利潤為56.2億歐元,較前一年的58.8億歐元有所下降。全年凈銷售額為212億歐元,比一年前的186.1億歐元有所增加。
審核編輯 :李倩
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原文標題:ASML:仍可向中國銷售DUV光刻機!
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