我國在芯片領(lǐng)域確實在不斷的進步，但這是這種進步和國際的最好水平，還是存在一定的差異。特別是在光刻機領(lǐng)域，我們的光刻機目前主要是90nm的光刻機，而上海微電子雖然可能突破28nm的光刻機，但是目前并沒有任何的消息或者任何的官方內(nèi)容，我們所有的猜測都是一些只言片語的新聞所堆積出來的材料。

中國在半導(dǎo)體領(lǐng)域的劣勢被無限放大，缺乏核心技術(shù)的支持，也讓國內(nèi)芯片企業(yè)走得越來越乏力，為了解決這樣的困境，目前國家不斷加大半導(dǎo)體領(lǐng)域的扶持力度，也制定了2025年實現(xiàn)70%芯片國產(chǎn)化的目標。

目前國內(nèi)很多科技企業(yè)也開始從事半導(dǎo)體領(lǐng)域技術(shù)的研發(fā)，僅僅在2020年新增的半導(dǎo)體企業(yè)就多達兩萬家，高端的芯片直接決定著未來科技的走向，在眾多企業(yè)和研究所的努力之下，目前已經(jīng)取得了很多技術(shù)的突破，在最重要的光刻機的研發(fā)上，也有了重大的突破。

中國半導(dǎo)體的三個好消息接連傳來：

清華大學(xué)研發(fā)出了可用于EUV光刻機的光源

可編程硅基光量子計算芯片

科技部強調(diào)聚焦半導(dǎo)體技術(shù)、強化人才的培養(yǎng)

繼華為公司之后，中國芯片取得了重大突破：在安全芯片領(lǐng)域取得了全球領(lǐng)先地位。

中國質(zhì)量萬里行，圈聊科技，LeoGo科技綜合整理

責(zé)任編輯：李倩