目前為止，在日常生活中使用的每一個電氣和電子設(shè)備中，都是由利用半導體器件制造工藝制造的集成電路組成。電子電路是在由純半導體材料(例如硅和其他半導體化合物)組成的晶片上創(chuàng)建的，其中包括光刻和化學工藝的多個步驟。
2022-09-22 16:04:44
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隨著半導體產(chǎn)業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片制程工藝已從90nm、65nm、45nm、32nm、22nm、14nm升級到到現(xiàn)在比較主流的10nm、7nm，而最近據(jù)媒體報道，半導體的3nm工藝研發(fā)制作也啟動
2019-12-10 14:38:41
表現(xiàn)依舊存在較大的改進空間。從2019年底到2020年初，業(yè)內(nèi)也召開了多次與半導體制造業(yè)相關(guān)的行業(yè)會議，對2020年和以后的半導體工藝進展速度和方向進行了一些預(yù)判。今天本文就綜合各大會議的消息和廠商披露
2020-07-07 11:38:14
半導體發(fā)展至今，無論是從結(jié)構(gòu)和加工技術(shù)多方面都發(fā)生了很多的改進，如同Gordon E. Moore老大哥預(yù)測的一樣，半導體器件的規(guī)格在不斷的縮小，芯片的集成度也在不斷提升，工藝制程從90nm
2020-12-10 06:55:40
業(yè)界對哪種半導體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-07-05 08:13:58
業(yè)界對哪種半導體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-08-20 08:01:20
半導體芯片制造技術(shù)英文版教材，需要的聯(lián)系我吧。太大了，穿不上來。
2011-10-26 10:01:25
半導體制冷—— 2 1 世紀的綠色“冷源”唐春暉（上海理工大學光學與電子信息工程學院，上海 200093）摘要：基于節(jié)能和環(huán)保已是當今一切科技發(fā)展進步的基本要求，對半導體制冷技術(shù)原理以及應(yīng)用情況做了
2010-04-02 10:14:56
大家有沒有用過半導體制冷的，我現(xiàn)在選了一種制冷片，72W的，我要對一個2.5W的熱負載空間（100x100x100mm）降溫，用了兩片，在環(huán)溫60度時熱負載所處的空間只降到30度，我采用的時泡沫膠
2012-08-15 20:07:10
半導體制冷的機理主要是電荷載體在不同的材料中處于不同的能量級，在外電場的作用下，電荷載體從高能級的材料向低能級的材料運動時，便會釋放出多余的能量。
2020-04-03 09:02:14
半導體制冷片控制板開發(fā)技術(shù)需要用到的功能模塊有哪些？有知道的朋友嗎？展開講講？
2022-05-22 18:26:09
半導體制冷片是利用半導體材料的Peltier效應(yīng)而制作的電子元件，當直流電通過兩種不同半導體材料串聯(lián)成的電偶時，在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量，可以實現(xiàn)制冷的目的。它是一種產(chǎn)生負熱阻的制冷技術(shù)，其特點是無運動部件，可靠性也比較高。半導體制冷片的工作原理是什么？半導體制冷片有哪些優(yōu)缺點？
2021-02-24 09:24:02
的積體電路所組成，我們的晶圓要通過氧化層成長、微影技術(shù)、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴散、離子植入及薄膜沉積等技術(shù)，所須制程多達二百至三百個步驟。半導體制程的繁雜性是為了確保每一個元器件的電性參數(shù)和性能，那么他的原理又是
2018-11-08 11:10:34
在制造半導體器件時，為什么先將導電性能介于導體和絕緣體之間的硅或鍺制成本征半導體，使之導電性極差，然后再用擴散工藝在本征半導體中摻入雜質(zhì)形成N型半導體或P型半導體改善其導電性？
2012-07-11 20:23:15
半導體制造技術(shù)經(jīng)典教程（英文版）
2014-03-06 16:19:35
們的投入中，80%的開支會用于先進產(chǎn)能擴增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先進封裝及特殊制程。而先進工藝中所用到的EUV極紫外光刻機，一臺設(shè)備的單價就可以達到1.2億美元，可見半導體
2020-02-27 10:42:16
是各種半導體晶體管技術(shù)發(fā)展豐收的時期。第一個晶體管用鍺半導體材料。第一個制造硅晶體管的是德州儀器公司。20世紀60年代——改進工藝此階段，半導體制造商重點在工藝技術(shù)的改進，致力于提高集成電路性能
2020-09-02 18:02:47
噪聲、空氣噪聲和微振動也是特殊的污染物。還有一點值得注意的就是：半導體工廠內(nèi)會有大量的酸性氣體（這些氣體來自于晶圓的蝕刻、清洗等過程），其次由于半導體制造的過程中會需要大量使用光阻液、顯影液等等，這些
2020-09-24 15:17:16
光源，可使曝光波長降到13.5nm，這不僅使光刻技術(shù)得以擴展到32nm工藝以下，更主要的是，它使納米級時代的半導體制造流程更加簡化，生產(chǎn)周期得以縮短。賽迪智庫半導體研究所副所長林雨就此向《中國電
2017-11-14 16:24:44
今日（5月6日）消息，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片。核心指標方面，IBM稱該2nm芯片的晶體管密度（MTr/mm2，每平方...
2021-07-20 06:51:04
廠的應(yīng)用。 2 SPC技術(shù)概述 早期的半導體制造企業(yè)為保證產(chǎn)品質(zhì)量，基本上以工藝檢測和產(chǎn)品檢驗為主要手段進行產(chǎn)品的質(zhì)量監(jiān)控，很明顯這是一種事后檢測的方法，隨著各類使用半導體元器件的電子產(chǎn)品的質(zhì)量需求的提高
2018-08-29 10:28:14
XX nm制造工藝是什么概念？為什么說7nm是物理極限？
2021-10-20 07:15:43
`《半導體制造工藝》學習筆記`
2012-08-20 19:40:32
`書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：IC制造工藝編號：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下工藝
2021-07-08 13:13:06
`書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：超大規(guī)模集成電路制造技術(shù)簡介編號：JFSJ-21-076作者：炬豐科技概括VLSI制造中使用的材料材料根據(jù)其導電特性可分為三大類：絕緣體導體半導體
2021-07-09 10:26:01
哪種半導體工藝最適合某一指定應(yīng)用？對此，業(yè)界存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-08-02 08:23:59
1、GaAs半導體材料可以分為元素半導體和化合物半導體兩大類，元素半導體指硅、鍺單一元素形成的半導體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7 倍，非常適合
2019-07-29 07:16:49
從7nm到5nm，半導體制程芯片的制造工藝常常用XXnm來表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工藝。所謂的XXnm指的是集成電路的MOSFET晶體管柵極
2021-07-29 07:19:33
我想用單片機開發(fā)板做個熱療儀，開發(fā)板是某寶上買的那種，有兩個猜想：一個用半導體制冷片發(fā)熱，一個用電熱片。但我不會中間要不要接個DA轉(zhuǎn)換器還是繼電器什么的，查過一些資料，如果用半導體制冷片用PWM控制
2017-11-22 14:15:40
想用半導體制冷片制作小冰箱，需要用到大功率電源，半導體制冷片，還有散熱系統(tǒng)，單片機控制系統(tǒng)，能調(diào)溫度，還能顯示溫度，具體的思路已經(jīng)有了，想問問你們有沒好點的意見，能盡量提高點效率還有溫度調(diào)節(jié)的精度
2020-08-27 08:07:58
{:1:}想了解半導體制造相關(guān)知識
2012-02-12 11:15:05
問個菜的問題:半導體(或集成電路)工藝 來個人講講 半導體工藝 集成電路工藝 硅工藝 CMOS工藝的概念和區(qū)別以及聯(lián)系吧。查了一下：集成電路工藝（integrated
2009-09-16 11:51:34
的市場占有率。未來隨著化合物半導體制造工藝的進一步提升，在邏輯應(yīng)用方面取代傳統(tǒng)硅材料，從而等效延續(xù)摩爾定律成為了化合物半導體更為長遠的發(fā)展趨勢。 作為化合物半導體最主要的應(yīng)用市場，射頻器件市場經(jīng)歷了
2019-06-13 04:20:24
到了二十世紀五十年代隨著半導體材料的迅猛發(fā)展，熱電制冷器才逐漸從實驗室走向工程實踐，在國防、工業(yè)、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療和日常生活等領(lǐng)域獲得應(yīng)用，大到可以做核潛艇的空調(diào)，小到可以用來冷卻紅外線探測器的探頭，因此通常又把熱電制冷器稱為半導體制冷器。
2013-11-29 09:26:38
芯片制造-半導體工藝制程實用教程學習筆記[/hide]
2009-11-18 11:44:51
半導體制作工藝CH
2017-10-18 10:19:47
47 本文首先介紹了半導體制造工藝流程及其需要的設(shè)備和材料，其次闡述了IC晶圓生產(chǎn)線的7個主要生產(chǎn)區(qū)域及所需設(shè)備和材料，最后詳細的介紹了半導體制造工藝，具體的跟隨小編一起來了解一下。
2018-05-23 17:32:3169224 
本文首先介紹了半導體制造工藝流程及其需要的設(shè)備和材料，其次闡述了IC晶圓生產(chǎn)線的7個主要生產(chǎn)區(qū)域及所需設(shè)備和材料，最后詳細的介紹了半導體制造工藝，具體的跟隨小編一起來了解一下。 一、半導體制造
2018-09-04 14:03:026592 本文檔的主要內(nèi)容詳細介紹的是半導體制造技術(shù)之半導體的材料特性詳細資料免費下載
2018-11-08 11:05:3077 本文檔的主要內(nèi)容詳細介紹的是半導體制造工藝教程的詳細資料免費下載主要內(nèi)容包括了：1.1 引言 1.2基本半導體元器件結(jié)構(gòu) 1.3半導體器件工藝的發(fā)展歷史 1.4集成電路制造階段 1.5半導體制造企業(yè) 1.6基本的半導體材料 1.7 半導體制造中使用的化學品 1.8芯片制造的生產(chǎn)環(huán)境
2018-11-19 08:00:00200 本文檔的主要內(nèi)容詳細介紹的是半導體制造教程之工藝晶體的生長資料概述
一、襯底材料的類型1.元素半導體 Si、Ge…。2. 化合物半導體 GaAs、SiC 、GaN…
2018-11-19 08:00:0040 上海——3月20-22日，全球領(lǐng)先的半導體制造設(shè)備及服務(wù)供應(yīng)商泛林集團攜旗下前沿半導體制造工藝與技術(shù)亮相SEMICON China 2019，并分享其對半導體行業(yè)發(fā)展的深刻見解與洞察。作為中國半導體
2019-03-21 16:57:463815 重點是7nm、5nm工藝的半導體制造裝備。
2019-04-29 10:54:353027 半導體工藝上，近年來幾大巨頭都紛紛出殺招。Intel終于進入了10nm的工藝時代，同時宣布在后年轉(zhuǎn)入7nm，
2019-06-16 09:42:514287 
如今5nm才剛剛起步，臺積電的技術(shù)儲備就已經(jīng)緊張到了2nm，并朝著1nm邁進。根據(jù)最新報道，臺積電已經(jīng)在2nm工藝上取得一項重大的內(nèi)部突破，雖未披露細節(jié)，但是據(jù)此樂觀預(yù)計，2nm工藝有望在2023
2020-11-26 10:48:092546 
MEMS工藝——半導體制造技術(shù)說明。
2021-04-08 09:30:41237 據(jù)國外媒體報道，當?shù)貢r間周四，IBM發(fā)布了全球首個2nm芯片制造技術(shù)。 在當前的半導體環(huán)境下，這件事意義確實重大，因為最近幾年領(lǐng)導先進工藝的是臺積電，IBM首發(fā)2nm工藝給美國公司贏回了面子。 性能
2021-05-10 14:38:142295 作為半導體工業(yè)中的核心，芯片制造是最關(guān)鍵也是最難的，進入10nm節(jié)點之后全球現(xiàn)在也就是臺積電、Intel、三星三家公司選擇繼續(xù)玩下去。表面來看Intel的進度是最慢的，然而其他兩家的工藝“水分
2021-07-15 09:36:391679 
近日，臺積電2nm工藝fab20工廠獲批，最快到2024年下半年可實現(xiàn)量產(chǎn)的消息令半導體業(yè)界炸開了鍋。那么2nm意味著什么？它到底能給業(yè)界帶來怎樣的改變？
2022-01-05 10:01:573099 的半導體芯片的結(jié)構(gòu)也變得復(fù)雜，包括從微粉化一邊倒到三維化，半導體制造工藝也變得多樣化。其中使用的材料也被迫發(fā)生變化，用于制造的半導體器件和材料的技術(shù)革新還沒有停止。為了解決作為半導體制造工藝之一的CMP
2022-03-21 13:39:083886 
VLSI制造過程中，晶圓清洗球定義的重要性日益突出。這是當晶片表面存在的金屬、粒子等污染物對設(shè)備的性能和產(chǎn)量(yield)產(chǎn)生深遠影響時的門。在典型的半導體制造工藝中，清潔工藝在工藝前后反復(fù)進行
2022-03-22 14:13:163580 
為了減小對臺積電的依賴，美日雙方開始聯(lián)手研發(fā)半導體技術(shù)，近日據(jù)報道稱，日本計劃最早在2025年啟動半導體制造基地，并與美國聯(lián)手生產(chǎn)2nm制程技術(shù)。 目前全球半導體加工領(lǐng)域最先進的企業(yè)是中國臺灣
2022-06-16 14:43:131445 據(jù)外媒報道，臺積電正在研發(fā)先進的2nm制程工藝，在北美技術(shù)論壇上，臺積電也是首次宣布，它們的目標是在2025年實現(xiàn)2nm芯片量產(chǎn)。
2022-06-22 16:39:011596 IBM首發(fā)2nm芯片技術(shù)，芯片對于很多行業(yè)來說都十分重要，他們將成為世界上第一款采用2nm納米片技術(shù)的芯片，在半導體設(shè)計和工藝方面取得突破性進展，也給芯片制造業(yè)提供了一個更高的業(yè)界標桿。
2022-06-24 09:15:032730 早在2021年5月份美國的IBM公司就成功研制出2nm芯片的制造技術(shù)，2nm芯片的產(chǎn)生也預(yù)示著半導體行業(yè)朝著一個更高的水平發(fā)展。
2022-06-24 11:59:421728 目前，IBM已成功研制出全球首款采用2nm工藝的芯片，意味著IBM在半導體設(shè)計和芯片制造工藝上實現(xiàn)了實質(zhì)性的突破，這些年，IBM從未停止對芯片技術(shù)的研發(fā)，而此次推出的2nm芯片為世界首創(chuàng)，正式表明全世界首顆2nm芯片出世。
2022-06-24 17:20:042928 知名IT巨頭IBM制造全球第一顆基于GAA的2nm芯片，在半導體設(shè)計上實現(xiàn)了突破。與主流7nm芯片相比，預(yù)計2nm芯片將實現(xiàn)性能提高45%或降低75%的功耗。
2022-06-27 09:25:351445 IBM宣布制造出全球首款以2nm工藝打造的半導體芯片。該芯片與目前主流的7nm工藝相比，在同等電力消耗下，性能提升45％、能耗降低75％。
2022-06-27 09:45:591578 IBM于紐約時間5月6日在其官網(wǎng)宣布制造出世界上第一顆2nm芯片，揭開了半導體設(shè)計和工藝方面的突破。
2022-06-27 10:04:141849 IBM宣布了一條可以轟炸整個科技圈的消息，成功研發(fā)出了全球首款2nm EUV工藝的半導體芯片。
2022-06-28 15:44:561322 臺積電首度推出采用GAAFET技術(shù)的2nm制程工藝，將于2025年量產(chǎn)，其采用FinFlex技術(shù)的3nm制程工藝將于2022年內(nèi)量產(chǎn)。
2022-07-04 18:13:312636 去年5月，IBM成功制造出世界上首顆2nm制程的半導體芯片。
2022-07-05 13:22:581027 在全球先進半導體工藝中，臺積電、三星都有2nm工藝計劃，美國也能靠Intel實現(xiàn)2nm及以下的工藝，日本作為曾經(jīng)的半導體第一已經(jīng)沒有了先進工藝生產(chǎn)能力，這也是他們要努力補上的，現(xiàn)在要聯(lián)手美國實現(xiàn)目標
2022-11-08 11:19:10710 半導體制程不斷微縮，面臨物理極限，全球2nm先進制程戰(zhàn)爭已全面開啟。繼臺積電、三星、IBM加碼2nm后，日本新成立芯片公司Rapidus，并曾表示最早在2025年在日本建立2nm半導體制造基地。作為
2022-11-15 11:10:35919 在半導體制造，是一個不斷向前快速發(fā)展推進的領(lǐng)域。我們通常聽到的從14nm技術(shù)到7 nm技術(shù)指的就是的工藝技術(shù)節(jié)點的進步。
2022-11-25 15:47:182578 半導體產(chǎn)業(yè)中，制造工工程被稱為工藝（Process），理由是什么？雖然沒有明確的答案，但與其說加工尺寸微小（目前是nm制程），不如說制造過程無法用肉眼看到所致。
2023-02-21 09:57:242993 針對半導體制造工藝的UV-LED光源需求，虹科提供高功率的紫外光源解決方案，可適配步進器和掩膜版設(shè)備，更換傳統(tǒng)工具中的傳統(tǒng)燈箱，實現(xiàn)高質(zhì)量的半導體質(zhì)量控制。
2023-03-29 10:35:41712 
半導體行業(yè)借助紫外光譜范圍（i 線：365 nm、h線：405 nm和g線：436 nm）中的高功率輻射在各種光刻、曝光和顯影工藝中創(chuàng)建復(fù)雜的微觀結(jié)構(gòu)
2023-04-24 11:23:281481 半導體器件的制造流程包含數(shù)個截然不同的精密步驟。無論是前道工藝還是后道工藝，半導體制造設(shè)備的電源都非常重要。
2023-05-19 15:39:04479 
結(jié) 構(gòu)。 得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢和成本優(yōu)勢，半導體制造領(lǐng)域正在擺脫長期以來的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù)，進而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出，最高 輸出功率可達80W ，具有長壽命和成本優(yōu)勢，無需額外冷卻時間，即開即用，取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)
2023-04-20 09:32:24412 
結(jié) 構(gòu)。 得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢和成本優(yōu)勢，半導體制造領(lǐng)域正在擺脫長期以來的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù)，進而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出，最高 輸出功率可達80W ，具有長壽命和成本優(yōu)勢，無需額外冷卻時間，即開即用，取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)
2023-05-16 09:54:17533 在半導體制造過程中，每個半導體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分，它關(guān)系到半導體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術(shù)難點多，操作復(fù)雜。
2023-07-11 11:25:552902 
半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541223 
半導體制造是現(xiàn)代微電子技術(shù)的核心，涉及一系列精細、復(fù)雜的工藝步驟。下面我們將詳細解析半導體制造的八大關(guān)鍵步驟：
2023-09-22 09:05:191720 
N2，也就是2nm，將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)，預(yù)計2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。 2nm芯片是指采用了2nm制程工藝所制造出來的芯片，制程工藝的節(jié)點尺寸表示芯片上元件的最小尺寸。這意味著芯片上的晶體管和其他電子元件的尺寸可以達到2納米級別。 2nm芯片手機
2023-10-19 17:06:18799 如今，半導體制造工藝快速發(fā)展，每一代新技術(shù)都在減小集成電路(IC)上各層特征的間距和尺寸。晶圓上高密度的電路需要更高的精度以及高度脆弱的先進制造工藝。
2023-12-25 14:50:47174
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