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標簽 > 蝕刻
最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,特別在半導體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
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干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用
碳化硅(SiC)作為一種高性能材料,在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其中,基于等離子體的干法蝕刻在SiC的圖案化及電子器件制造中...
與亞微米工藝類似,側(cè)墻工藝是指形成環(huán)繞多晶硅的氧化介質(zhì)層,從而保護LDD 結(jié)構(gòu),防止重摻雜的源漏離子注入到LDD結(jié)構(gòu)的擴展區(qū)。側(cè)墻是由兩個主要工藝步驟形...
蝕刻的歷史方法是使用濕法蝕刻劑的浸泡技術(shù)。該程序類似于前氧化清潔沖洗干燥過程和沉浸顯影。晶圓被浸入蝕刻劑罐中一段時間,轉(zhuǎn)移到?jīng)_洗站去除酸,然后轉(zhuǎn)移到最終...
傳統(tǒng)的2D視覺技術(shù)已經(jīng)無法滿足高精度的印刷電路板(PCB)外觀檢測。3D成像技術(shù)則以其獨特的優(yōu)勢,輕松地在視野范圍內(nèi)構(gòu)建目標物的狀態(tài),無論是斷差還是孔徑...
干式蝕刻是為對光阻上的圖案忠實地進行高精密加工的過程,故選擇材料層與光阻層的蝕刻速率差(選擇比)較大、且能夠確保蝕刻的非等向性(主要隨材料層的厚度方向進...
2024-04-18 標簽:蝕刻 766 0
一般高效單晶硅電池采用化學腐蝕制絨技術(shù),制得絨面的反射率可達到10%以下。目前較為先進的制絨技術(shù)是反應(yīng)等離子蝕刻技術(shù)(RIE),該技術(shù)的優(yōu)點是和晶硅的晶...
硅雙通道光纖低溫等離子體蝕刻控制與SiGe表面成分調(diào)制
在過去的幾年中,MOSFET結(jié)構(gòu)從平面結(jié)構(gòu)改變?yōu)轹捫徒Y(jié)構(gòu)(FinFETs ),這改善了短溝道效應(yīng),并導致更高的驅(qū)動電流泄漏。然而,隨著柵極長度減小到小于...
各種疊層結(jié)構(gòu)的PCB圖內(nèi)部架構(gòu)設(shè)計
今天畫了幾張多層PCB電路板內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖,用立體圖形展示各種疊層結(jié)構(gòu)的PCB圖內(nèi)部架構(gòu)。
阻抗的計算是相對比較繁瑣的,但我們可以總結(jié)一些經(jīng)驗值幫助提高計算效率。對于常用的 FR4,50ohm 的微帶線,線寬一般等于介質(zhì)厚度的 2 倍;50oh...
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