光刻機

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光刻機技術(shù)

半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測環(huán)節(jié)，可細分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備）和封裝、測試設(shè)備（后道設(shè)備)。其中，前道設(shè)備主要有光刻機、刻蝕機、薄膜沉積...

2023-12-27 標(biāo)簽：集成電路芯片制造光刻機 809 0

全面解析***結(jié)構(gòu)及工作原理

光刻與光刻機 ?對準(zhǔn)和曝光在光刻機(Lithography Tool)內(nèi)進行。 ?其它工藝在涂膠顯影機(Track)上進行。光刻機結(jié)...

2023-12-19 標(biāo)簽：控制系統(tǒng)IC設(shè)計測量系統(tǒng) 730 0

光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認(rèn)為其物理極限在0.25，...

2023-12-18 標(biāo)簽：集成電路摩爾定律光刻機 1408 0

半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖...

2023-12-04 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機半導(dǎo)體制造 3924 0

全球主要晶圓廠制程節(jié)點技術(shù)路線圖

雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機，它的精度決定了制程的精度。光刻機的運作原理是先把設(shè)計好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光...

2023-11-24 標(biāo)簽：臺積電晶體管光刻機 6481 0

什么是納米壓印技術(shù)？能否取代***？

納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌饪坦に嚕亲钣邢Ｍ〈鷺O紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機，進行了大規(guī)模生產(chǎn)，并取...

2023-11-08 標(biāo)簽：芯片晶體管光刻機 1466 0

***重要的光學(xué)元件設(shè)計要點

光刻機中的投影物鏡一般由凸透鏡、凹透鏡和棱鏡等一系列透鏡組成，其作用是將光源發(fā)出的光束進行聚焦和投射。在光刻機中，投影物鏡將掩模版上的電路圖案縮小到一定...

2023-11-01 標(biāo)簽：晶圓光源光刻機 661 0

半導(dǎo)體制造之光刻原理、工藝流程

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化...

2023-10-09 標(biāo)簽：電路圖光刻光刻機 3653 0

仔細剖析一下五種UV***的區(qū)別及應(yīng)用場景

UV光刻機一般可以分為5種，即：接觸式光刻機，接近式光刻機，掃描投影式光刻機

2023-09-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓光刻機 2316 0

EUV薄膜容錯成本高成芯片良率的關(guān)鍵

近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。

2023-09-14 標(biāo)簽：單芯片 cpu芯片光刻機 1229 0

芯片封裝為什么要用到*** 封裝***與芯片***的區(qū)別

在芯片制造過程中，光刻機用于在硅片上形成光刻膠圖形，作為制造電路的模板。光刻機使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠，并通過投影光學(xué)系統(tǒng)將圖形投射到硅片...

2023-09-12 標(biāo)簽：芯片制造芯片封裝光學(xué)系統(tǒng) 2832 0

濕法去膠液的種類有哪些？去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

光刻技術(shù)通過光刻膠將圖案成功轉(zhuǎn)移到硅片上，但是在相關(guān)制程結(jié)束后就需要完全除去光刻膠，那么這個時候去膠液就發(fā)揮了作用，那么去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

2023-09-06 標(biāo)簽：晶圓光刻機光刻技術(shù) 3883 0

下一代超精密激光加工解決案例

光的功能有多強大？下面先看看國內(nèi)權(quán)威媒體對先進激光技術(shù)應(yīng)用的一則新聞報道！

2023-09-01 標(biāo)簽：激光器光刻機多模光纖 658 0

光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)的基本知識

在上一節(jié)計算光學(xué)小講堂中，我們學(xué)習(xí)了光源掩模協(xié)同優(yōu)化（source mask co-optimization, SMO）的相關(guān)知識。這一節(jié)我們將主要探索...

2023-09-01 標(biāo)簽：OPC 光學(xué)系統(tǒng)光刻機 5914 0

如何簡化光刻膠圖形化過程呢？

摻雜少量鉑元素的鎳硅化物的穩(wěn)定性也不盡相同，還與物質(zhì)的具體結(jié)構(gòu)有關(guān)，舉個例子來說，NiPtSi，比NiSi要穩(wěn)定。

2023-08-27 標(biāo)簽：接觸器 CMP 光刻機 1036 0

氦質(zhì)譜檢漏儀電子束***檢漏

上海伯東客戶某光刻機生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和...

2023-06-02 標(biāo)簽：光刻機檢漏氦質(zhì)譜檢漏儀 896 0

銅電鍍應(yīng)用廣泛光伏方案多元化

電鍍技術(shù)應(yīng)用廣泛。電鍍技術(shù)是現(xiàn)代微電子制造中的重要技術(shù)，廣泛應(yīng)用于PCB制造、IC封裝等領(lǐng)域

2023-08-24 標(biāo)簽：轉(zhuǎn)換器 IC封裝電解液 1079 0

浸沒式光刻，拯救摩爾定律

2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。

2023-08-23 標(biāo)簽：編碼器晶圓交換機 1432 0

偏振集成紅外光電探測器研究進展與應(yīng)用

偏振集成探測器具有體積小、重量輕、結(jié)構(gòu)緊湊，并且無需圖像配準(zhǔn)對動態(tài)目標(biāo)同時同地同源探測與識別的優(yōu)勢。

2023-08-15 標(biāo)簽：探測器紅外傳感器光刻機 2435 0

請問ARTPI是怎樣使用軟件I2C讀取mpu6050的？

喜報！我國第一臺28nm光刻機，交付時間已定！

2023-08-02 標(biāo)簽：傳感器連接器光刻機 1544 0

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