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中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收

DPVg_AI_era ? 來源:lq ? 2018-12-06 09:50 ? 次閱讀

可能我們太想要中國芯了!雖然***確實可以制造芯片,但此次中科院研制的***并不能光刻芯片。中科院專家表示,若用于芯片需要攻克一系列技術難題,距離還很遙遠。

11月29日,中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收。消息傳著傳著,就成了謠言——《國產***偉大突破,國產芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖,彎道超車》《厲害了我的國,新式***將打破“芯片荒”》……

筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗收會,寫了報道,還算熟悉,無法茍同一些漫無邊際的瞎扯。

中科院研制的這種***不能(像一些網(wǎng)媒說的)用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現(xiàn)較高的分辨率,用于一些特殊制造場景,很經濟。

先解釋下:***不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復的圖案,都可以用光刻——就像照相,圖像投在感光底片上,蝕掉一部分。半個多世紀前,美國人用這個原理“印刷”電路,從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。

為了節(jié)能和省硅料,芯片越做越小,逼得***越做越極端。線條細到一定程度,投影就模糊了。要清晰投影,線條粗細不能低于光波長的一半。頂尖***用波長13.5納米的極紫外光源,好刻10納米以下的線條。

但穩(wěn)定的、大功率的極紫外光源很難造,一個得3000萬元人民幣。要求工作環(huán)境嚴苛,配合的光學機械部件又極端精密,所以荷蘭的ASML公司獨家壟斷極紫外***,創(chuàng)造了“一臺賣一億美金”的神話。

十幾年前,國際上開始對表面等離子體(surfaceplasma,SP)光刻法感興趣。中科院光電所從2003年開始研究,是較早出成果的一個團隊。所謂SP,光電所的科學家楊勇向筆者解釋:拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸,界面上有一些亂蹦的電子;光投影在金屬上,這些電子就有序地震蕩,產生波長幾十納米的電磁波,可用來光刻。

但這種電磁波很弱,所以光刻膠得湊近了,才能刻出來。且加工精度與ASML的***沒法比??處资{米級的芯片是沒法用SP***的,至少以現(xiàn)在的技術不能。

項目副總設計師胡松研究員介紹超分辨光刻裝備研制項目攻關情況(供圖:中科院科技攝影聯(lián)盟)

驗收會上也有記者問:該光刻設備能不能刻芯片,打破國外壟斷?光電所專家回答說,用于芯片需要攻克一系列技術難題,距離還很遙遠。

總之,中科院的22納米分辨率***跟ASML壟斷的***不是一回事,說前者彎道超車,就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。

各家媒體第一時間報出的信息,就我看到的還算中規(guī)中矩。但后來網(wǎng)媒添枝加葉,搞到離譜。

有些傳播者為吸引眼球、賺錢,最愛制造“自嗨文”和“嚇尿體”。聽到國產科技成就先往大里吹,驢吹成馬,馬吹成駱駝,好賣個駱駝價。

這種“科技報道”是滿足虛榮心的偽新聞。行家聽了眉頭一緊,避之大吉。也難怪許多科學家怕上新聞。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:科技日報:國產22納米光刻機治不了咱們的“芯”??!

文章出處:【微信號:AI_era,微信公眾號:新智元】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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