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芯片先進封裝里的RDL

半導體芯科技SiSC ? 來源:半導體芯科技SiSC ? 作者:半導體芯科技SiS ? 2024-09-20 16:29 ? 次閱讀

文章來源:學習那些事

原文作者:新手求學

RDL是一層布線金屬互連層,可將I/O重新分配到芯片的不同位置。

Redistribution layer(RDL)是將半導體封裝的一部分電連接到另一部分的銅金屬互連。RDL以線寬和間距來衡量,線寬和間距指的是金屬布線的寬度和間距。高端 RDL的線寬可能為2μm甚至更小。
RDL是一層布線金屬互連層,可將I/O重新分配到芯片的不同位置,并可以更輕松地將Bump添加到芯片上。
RDL是由Cu和絕緣層構成的布線層,用于Fan-Out、2.5D、3D等封裝。
為什么要用到RDL呢?
RDL優化了I/O焊盤的放置,這些焊盤原本位于芯片四周。通過RDL將這些焊盤重新定位到芯片布局中更有利的位置。
比如在Fan-In封裝里,處理細間距以及多I/O數量時遇到了很大的困難,為突破這種限制,Fan-out封裝出現了,最大的區別就是運用RDL延展出芯片制定焊盤。

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圖1 Fan-In Package(綠色為芯片)

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圖2 Fan-Out Package(綠色為芯片)

通過圖1和圖2的對比可以看出,圖2的優勢在于I/O數量可以延伸到芯片以外,增加了更多的I/O數量,這一優勢的功勞就是RDL的使用,當然Fan Out的成功不僅僅只是RDL的使用。Fan Out封裝可以集成多個芯片,運用RDL實現功能上的互連,具體RDL的布局實物圖見圖3.

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圖3 Fan-Out Package

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圖4 RDL的Interposer使用

所以RDL的作用猶如它的翻譯一樣,叫重分布層或再布線層。就是通過重新布線來實現焊盤及線路的最佳使用,以實現更緊湊的封裝設計。

【近期會議】

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審核編輯 黃宇

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