日本的東京農工大學與日本酸素控股株式會社CSE（下文簡稱“日本酸素”）開發出了新一代功率半導體氧化鎵的低成本制法。

利用氣體供應原料，在基板上制造晶體，可以減少設備的維護頻率，也可以降低運營成本。

日本酸素正在將制作設備商用化，以便隨時向客戶供貨。

這種作方法屬于“有機金屬化學氣相沉積（MOCVD）法”，通過在密閉裝置內充滿氣體狀原料，在基板上制造出氧化鎵的晶體。該方法與現有的“氫化物氣相外延（HVPE）法”相比，可以制作更高頻率器件。

據悉，氧化鎵的耐壓性超過SiC和GaN這兩種材料，其可以在降低電力轉換時的損耗。氧化鎵有望用于純電動汽車（EV）、白色家電及光伏發電等領域。

氧化鎵晶體除了可以用于制造功率元件，還可以制作“高電子遷移率晶體管（HEMT）”，供通訊設備使用。并且，其彌補了傳統的氫化物氣相外延法，難以與高電子遷移率晶體管所需的鋁進行混晶的缺點。

與原先的方法相比，東京農工大等團隊通過MOCVD方法，將氧化鎵晶體的生長速度提高至每小時約16微米，速度提升了16倍。東京農工大學教授熊谷義直表示：“MOCVD方法與HVPE方法屬于并列關系”。

目前，已經有幾家企業實現了實用化，根據富士經濟提供的數據顯示，到2023年氧化鎵市場可達到470億日元（折合人民幣約23億元）。