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芯片制造的成本和工藝流程分析

濾波器 ? 來源:材料匯 ? 2023-09-10 09:32 ? 次閱讀

摘要

芯片制造的成本和工藝流程,包括前端制造過程、后端實現、普通、熱或超熱裝配線的制造選擇、監測解決方案以及成本分析。同時,對兩種解決方案進行了評價,認為ProteanTecs更好。建議在總預算中撥出至少5%的成本用于工藝改進和健康監測。

詳情

芯片設計完成后,進行tape-out驗證,將數據上傳到云端或通過服務器復制數據,發送給代工廠進行制造。代工廠會按照設計規則進行物理驗證,再進行布局與原理圖的比對,生成掩膜進行制造??蛻艨梢赃x擇普通、熱或超熱裝配線進行制造,時間和成本有所不同。

1.在芯片設計完成后,進行tape-out驗證,將數據上傳到云端或通過服務器復制數據,發送給代工廠進行制造。tape-out是將數據傳輸到掩膜所在的磁帶上,傳統上是將磁帶交給代工廠進行制造。現在,雖然數據是通過云端傳輸,但仍然稱之為tape-out。

2.代工廠會按照設計規則進行物理驗證,確保符合代工廠的PDK規則,例如TSMC七納米PDK規則。代工廠會再次驗證檢查,以確保所有設計規則都符合要求。如果掩膜生成時存在設計規則違反,可能會損壞整個芯片。

3.LVS是布局與原理圖的比對驗證,用于檢查設計中是否存在短路或開路等問題。如果芯片存在這樣的問題,整個功能都可能會被破壞,芯片將無法正常工作。代工廠會進行LVS比對驗證,以確保芯片沒有這些問題。

4.客戶可以選擇普通、熱或超熱裝配線進行制造。裝配線決定了制造的時間和成本。普通裝配線用于大多數情況,制造七納米芯片需要12至14周。熱裝配線和超熱裝配線可以在較短的時間內制造芯片,但成本更高、容量更小。

5.代工廠將根據設計生成掩膜,并使用12英寸、8英寸、6英寸等不同大小的晶圓進行制造。掩膜生成是制造過程中的一個關鍵步驟。

6.制造過程類似于任何制造過程。在完成所有驗證后,晶圓將進入制造系統,然后進行不同的工藝流程。時間和步驟的數量取決于技術節點。客戶可以根據產品要求選擇不同的裝配線。

7.客戶需要知道使用什么類型的裝配線。大部分時間使用普通裝配線,需要12至14周的時間制造七納米芯片。熱裝配線和超熱裝配線可以縮短制造時間,但成本更高,容量更小。普通裝配線通常有80%至90%的產能。

8.客戶可以根據產品要求選擇不同的裝配線。雖然熱和超熱裝配線可以縮短制造時間,但成本更高,容量更小。制造時間的長短取決于技術節點和步驟的數量。

客戶選擇普通裝配線,需12至14周,芯片生產需要進行前端制造過程,包括沉積、光刻、刻蝕、電離和清洗等步驟。設計驗證需要滿足性能、功能和架構等三個主要標準,滿足標準后繼續進行后端實現,包括靜態時序分析等步驟。若設計和工具穩健,則生產概率高達95%,甚至在性能未達標時,也可通過降頻等方式實現生產。針對汽車、醫療、國防等應用,有60%至70%的生產概率需要使用監測組件。

1.客戶選擇普通裝配線,生產周期需要12至14周。芯片生產需要進行前端制造過程,包括沉積、光刻、刻蝕、電離和清洗等步驟,最終進行封裝。

2.設計驗證需要滿足性能、功能和架構等三個主要標準。首先需要滿足功能標準,然后進行設計驗證,驗證設計的芯片是否能夠正常工作。如果芯片能夠正常工作,則進行后端實現,包括靜態時序分析等步驟。

3.后端實現包括靜態時序分析等步驟。如果設計穩健,工具穩健,則生產概率高達95%。在性能未達標的情況下,也可通過降頻等方式實現生產。如果設計不符合邏輯需求,就無法生產。

4.針對汽車、醫療、國防等應用,有60%至70%的生產概率需要使用監測組件。應用不同,監測概率也不同。在某些應用中,需要對芯片進行監測以確保其正常工作。

5.監測組件包括proteanTecs和其他工具。在制造過程中,需要使用某些步驟以獲得合適的規格。對于某些應用,如醫療、汽車和國防等,需要對芯片進行監測。

6.監測概率并非在所有情況下都是100%。對于一些消費類產品、CPU、GPU等芯片,只有20%至30%的情況需要使用監測解決方案。

7.一些情況下,即使性能未達標,也可以通過降頻等方式實現生產。如果設計穩健,工具穩健,則生產概率高達95%。

8.性能、功耗等可在一定程度上妥協,但最重要的是滿足功能需求,如果邏輯需求不符合,則無法生產。如果存在較大的錯誤或驗證無法完成,則無法生產,需先解決問題,才能進行大規模生產。

未來,監測解決方案不僅能監測芯片和系統的健康狀況,還可協助制造過程并借助AI/ML等高級系統進行學習,提高整體制造能力,優化流程并提高系統產量。使用proteanTecs解決方案可提高生產效率,設計周期可縮短15%-20%,生產成本可降低20%。在設計一枚使用五納米技術的高性能計算芯片時,團隊需耗資300萬至500萬美元,制造一塊晶圓成本為14000至17000美元,一般制造成本在2000萬至2500萬美元。制造過程中需要進行多個步驟,如沉積等,且整個流程在外包代工廠完成。

1.未來,監測解決方案不僅能監測芯片和系統的健康狀況,還可協助制造過程并借助AI/ML等高級系統進行學習,提高整體制造能力,優化流程并提高系統產量。

2.使用proteanTecs解決方案可提高生產效率,設計周期可縮短15%-20%,生產成本可降低20%。

3.proteanTecs解決方案可協助制造過程,優化流程并提高系統產量。

4.使用proteanTecs解決方案可縮短設計周期15%-20%,提高效率20%。

5.使用proteanTecs解決方案可降低生產成本20%。

6.設計一枚使用五納米技術的高性能計算芯片時,團隊需耗資300萬至500萬美元。

7.制造一塊晶圓的成本為14000至17000美元,一般制造成本在2000萬至2500萬美元。

8.制造過程中需要進行多個步驟,如沉積等,且整個流程在外包代工廠完成。

制造過程包括關鍵步驟,如沉積、光刻、蝕刻和離子注入等。首先,使用硅晶片,并對其進行切割,然后進行薄膜沉積。接下來,通過光刻工藝,用ASML DUV,EUV等設備在光敏樹脂上繪制圖案。然后,使用不同的檢測工具來檢查圖案是否符合規格。接著,進行蝕刻,消除降解的光刻膠以顯示所需的圖案。最后,進行離子注入,對晶片進行清洗和CMP。這些步驟有800到1200個,需要8-12周才能完成。處理后的晶片有一定的良率,不良的芯片需要廢棄。

1.沉積是制造工藝的第一步,使用硅晶片進行薄膜沉積。

2.光刻是制造工藝的第二步,使用光敏樹脂和不同的化學物質,通過光刻工藝在硅晶片上繪制圖案。

3.制造工藝中使用ASML DUV和EUV等設備來進行光刻,保證圖案精度。

4.為了確保所繪制的圖案符合規格,制造工藝中使用不同的檢測工具進行檢測。

5.蝕刻是制造工藝的一個關鍵步驟,通過消除降解的光刻膠來顯示所需的圖案。

6.離子注入是制造工藝的一個步驟,通過以正負離子轟擊晶片來對其進行處理。

7.制造工藝中需要對晶片進行清洗和CMP,以確保表面平整和無雜質。

8.處理后的晶片有一定的良率,不良的芯片需要廢棄。

一塊五納米的芯片需要花費約16000美元,而如果是28納米的話,成本大約在5000到6000美元左右?,F代化的工藝非常昂貴,因此先進工藝的成本很高。遺留的工藝成本會更少,因為工藝步驟更少,更簡單?;趹?,如果需要集成健康監測系統,那么需要考慮許可費用、設計費用和制造方面的延遲等成本。因此,最終產品的成本也會受到影響。在總預算中,如果涉及到工藝改進和健康監測,不僅在設計方面,在制造和使用過程中的成本都會增加,建議在預算中撥出至少5%的成本。目前我使用過兩種解決方案,ProteanTecs和Synopsys,我認為ProteanTecs更好,給8分。因為Synopsys主要是在設計方面和PVT監測系統,所以我會給5到6分,他們需要在系統監測和實際使用方面做出更多的努力。

1.一塊五納米的芯片需要花費約16000美元,而如果是28納米的話,成本大約在5000到6000美元左右。較先進的工藝會更加昂貴,因此先進工藝的成本很高。相比之下,遺留的工藝成本會更少,因為工藝步驟更少,更簡單。

2.基于應用,如果需要集成健康監測系統,需要考慮許可費用、設計費用和制造方面的延遲等成本。因此,最終產品的成本也會受到影響。在總預算中,如果涉及到工藝改進和健康監測,不僅在設計方面,在制造和使用過程中的成本都會增加,建議在預算中撥出至少5%的成本。

3.健康監測可以用于芯片的使用過程中。例如,在汽車中使用的芯片,即使使用了一年后,您也可以監測芯片的健康狀態。這可以讓您知道是否需要進行任何修復或更換等操作。

4.我使用過兩種解決方案,ProteanTecs和Synopsys。我認為ProteanTecs更好,給8分。因為Synopsys主要是在設計方面和PVT監測系統,所以我會給5到6分,他們需要在系統監測和實際使用方面做出更多的努力。

5.五納米技術的成本非常高,大約需要花費16000美元。七納米技術的成本在10000到11000美元左右,16納米技術的成本可能在6000美元左右,而28納米技術的成本在4000到5000美元之間。

6.工藝改進會增加成本。因為需要進行許可費用、設計費用和制造方面的延遲等成本。但是,工藝改進可以提高設計和系統的效率,也可以在使用過程中減少故障率。

7.遺留節點工藝成本相對較少,因為工藝步驟更少,更簡單。例如,28納米技術的成本在5000到6000美元之間,比五納米技術的成本低得多。

8.如果涉及到工藝改進和健康監測,在總預算中建議撥出至少5%的成本,因為工藝改進和健康監測可以提高設計和系統的效率,同時也可以在使用過程中減少故障率。

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原文標題:芯片制造的成本和工藝流程分析

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