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低壓GaN器件,為什么還未被廣泛應(yīng)用

lPCU_elecfans ? 來(lái)源:未知 ? 2022-12-13 07:10 ? 次閱讀
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)從消費(fèi)電子電源產(chǎn)品開(kāi)始,GaN拉開(kāi)了巨大市場(chǎng)發(fā)展空間的序幕,并逐漸往數(shù)據(jù)中心、汽車OBC甚至主驅(qū)逆變器等領(lǐng)域滲透。主流應(yīng)用的650V GaN HEMT在充電頭、以及數(shù)據(jù)中心電源上已經(jīng)開(kāi)始被廣泛應(yīng)用。
而隨著數(shù)據(jù)中心單機(jī)架的功率不斷提高,數(shù)據(jù)中心的次級(jí)端,機(jī)架的配電系統(tǒng)設(shè)計(jì)電壓從12V往48V升級(jí)。與此同時(shí),數(shù)據(jù)中心配電系統(tǒng)的DC-DC中,低壓的GaN器件,比如40V和100V規(guī)格的GaN在這些系統(tǒng)中越來(lái)越受到重視。
今年,OPPO在智能手機(jī)端也首次將低壓GaN器件應(yīng)用到手機(jī)內(nèi)部,用于快速充電的電路中。按照OPPO的說(shuō)法,一顆GaN開(kāi)關(guān)管可以代替以往方案中使用的兩顆硅基MOSFET,能夠減少體積,并由于GaN器件阻抗相比硅器件更低,在熱管理上也有更好的表現(xiàn),降低充電路徑上的熱量消耗,降低充電溫升,提升充電性能。
所以,低壓GaN器件有沒(méi)有機(jī)會(huì)取代更多硅基器件,比如在消費(fèi)電子產(chǎn)品內(nèi)的負(fù)載點(diǎn)POL轉(zhuǎn)換器中替代更多低壓的硅基器件?
如果從GaN器件的角度來(lái)看,目前市面上有多家廠商都推出了100V、40V甚至更低電壓的GaN器件。比如英諾賽科、EPC、GaNSystems等,其中EPC甚至有15V的GaN產(chǎn)品供應(yīng)。
EPC在2016年推出了一款型號(hào)為EPC2040的GaN功率晶體管,擊穿電壓為15V,在5V驅(qū)動(dòng)電壓下導(dǎo)通電阻為30mΩ,工作溫度支持-40℃~150℃,可以應(yīng)用于自動(dòng)駕駛激光雷達(dá)等場(chǎng)景。
今年5月國(guó)內(nèi)GaN器件龍頭英諾賽科在IEEE功率半導(dǎo)體器件國(guó)際研討會(huì)(ISPSD)上展示了其15V GaN HEMT的研究進(jìn)展,據(jù)介紹,他們這款15V GaN HEMT在5 V V in / 1.5~4 V V out的轉(zhuǎn)換比下,采用半橋配置的GaN HEMTs制作的降壓轉(zhuǎn)換器在10 MHz下的效率超過(guò)90%。當(dāng)開(kāi)關(guān)頻率增加到30 MHz時(shí),轉(zhuǎn)換器仍然保持80%以上的效率。
然而現(xiàn)實(shí)可能沒(méi)有想象中美好,英諾賽科在會(huì)議上還提到,盡管業(yè)界在低壓GaN HEMT方面做出了巨大努力,電源開(kāi)關(guān)通常已經(jīng)低于40V,努力向消費(fèi)電子產(chǎn)品的應(yīng)用推進(jìn)。但與硅器件相比,低壓GaN HEMT在消費(fèi)電子產(chǎn)品上的廣泛應(yīng)用還面臨很大挑戰(zhàn)。
在技術(shù)層面上,隨著GaN器件的尺寸縮小,接觸電阻和寄生電容的比例會(huì)大幅上升,閾值電壓下降,導(dǎo)致導(dǎo)通錯(cuò)誤的風(fēng)險(xiǎn)提高,關(guān)斷狀態(tài)泄露電流增加,以致于靜態(tài)損耗和動(dòng)態(tài)損耗不穩(wěn)定。英諾賽科認(rèn)為,這些問(wèn)題都影響了GaN HEMT在小體積的消費(fèi)電子產(chǎn)品上廣泛應(yīng)用的可能。
另一方面,有業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為,在100V以下的低壓領(lǐng)域,GaN相比硅有開(kāi)關(guān)損耗和功率密度的優(yōu)勢(shì),但目前低壓的硅基器件已經(jīng)做得足夠好,成本上的巨大優(yōu)勢(shì)是GaN難以逼近的。除非是一些特殊的應(yīng)用中,對(duì)開(kāi)關(guān)頻率要求較高,比如前面提到OPPO在手機(jī)快充電路中用一顆GaN開(kāi)關(guān)管替代以往兩顆硅基MOSFET的操作。
無(wú)論如何,業(yè)界對(duì)低壓GaN器件的研究還在繼續(xù),不少研究團(tuán)隊(duì)都在這個(gè)方向努力,比如德國(guó)Fraunhofer IAF研究所的科學(xué)家在PCIM2021上發(fā)表過(guò)關(guān)于緊湊型低壓GaN HEMT設(shè)計(jì)的論文。或許隨著成本的持續(xù)降低,以及快充等需求的持續(xù)升級(jí),低壓GaN器件會(huì)有取代硅的一天。

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