ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿(mǎn)足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元。媒體稱(chēng)，臺(tái)積電采購(gòu)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過(guò)30臺(tái)，三星累計(jì)采購(gòu)的EUV光刻機(jī)不到20臺(tái)。

圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備——光刻機(jī)，一直不缺話題。

比如，一臺(tái)EUV光刻機(jī)賣(mài)多少錢(qián)？誰(shuí)買(mǎi)走了這些EUV光刻機(jī)？大陸廠商還能買(mǎi)到光刻機(jī)嗎？為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部？

上面這幾個(gè)問(wèn)題，其實(shí)可以在ASML和臺(tái)積電最新發(fā)布的三季報(bào)及業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)中找到部分答案。兩家公司的地位無(wú)需多言，前者是全球頂級(jí)光刻機(jī)龍頭，后者是全球芯片制造龍頭。

關(guān)于售價(jià)，ASML總裁兼首席執(zhí)行官彼得·韋尼克（Peter Wennink）10月14日介紹公司三季度業(yè)績(jī)情況時(shí)間接給出了答案。他表示，“我們第三季度的新增訂單達(dá)到29億歐元，其中5.95億歐元來(lái)自4臺(tái)EUV設(shè)備。”簡(jiǎn)單換算一下，一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元。

這是什么概念？2019年，A股還有1462家上市公司的營(yíng)業(yè)收入低于11.74億元。換句話說(shuō)，ASML每年賣(mài)一臺(tái)EUV光刻機(jī)，收入就可完勝A股的1/3公司。

售價(jià)這么高，ASML根本不愁買(mǎi)家，公司愁的是產(chǎn)能跟不上需求。

ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿(mǎn)足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。

據(jù)了解，EUV光刻機(jī)不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精細(xì)圖形，沒(méi)有超純水和晶圓接觸，在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、光學(xué)鄰近效應(yīng)矯正的復(fù)雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優(yōu)勢(shì)。

ASML的EUV光刻機(jī)也在推陳出新。公司10月14日還公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)效率，計(jì)劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。

芯片大廠爭(zhēng)購(gòu)

ASML的EUV光刻機(jī)在2016年正式上市，主要供應(yīng)給英特爾、臺(tái)積電和三星這三家大客戶(hù)。其EUV光刻機(jī)出貨量一直在增加，從2016年的5臺(tái)上升到2019年的26臺(tái)。

目前，臺(tái)積電已將可量產(chǎn)的工藝推到5nm，大幅領(lǐng)先英特爾和三星；同時(shí)，按照計(jì)劃，公司3nm工藝將在明年試產(chǎn)，2022年下半年正式量產(chǎn)。重要的是，客戶(hù)對(duì)其7nm工藝和5nm工藝的需求十分強(qiáng)勁，這兩項(xiàng)工藝的收入占比在三季度已達(dá)43%。因此，臺(tái)積電對(duì)EUV光刻機(jī)的需求無(wú)疑也是最強(qiáng)勁的。

圖片來(lái)源：臺(tái)積電三季報(bào)

近期有媒體報(bào)道，由于先進(jìn)工藝推進(jìn)順利和訂單擴(kuò)大，臺(tái)積電將加大EUV光刻機(jī)的采購(gòu)力度，預(yù)計(jì)到2021年底采購(gòu)量至55臺(tái)左右。臺(tái)積電方面回復(fù)中國(guó)證券報(bào)記者采訪時(shí)表示，公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞。前述媒體援引半導(dǎo)體供應(yīng)鏈消息稱(chēng)，臺(tái)積電采購(gòu)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過(guò)30臺(tái)，三星累計(jì)采購(gòu)的EUV光刻機(jī)不到20臺(tái)。

在ASML發(fā)布2020年第三季度財(cái)報(bào)當(dāng)天，首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森（Roger Dassen）接受視頻采訪時(shí)被問(wèn)及美國(guó)的半導(dǎo)體出口禁令對(duì)ASML的業(yè)務(wù)有何種影響，達(dá)森回應(yīng)稱(chēng)，他們注意到了美方的禁令，也意識(shí)到了禁令對(duì)中國(guó)客戶(hù)的影響。

隨后達(dá)森對(duì)ASML的光刻機(jī)出口問(wèn)題作出了解釋?zhuān)f(shuō)：“如果要解釋一下美國(guó)的規(guī)定對(duì)ASML有什么影響的話，對(duì)于的中國(guó)客戶(hù)，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機(jī)，無(wú)需任何出口許可。”

但他隨后也補(bǔ)充稱(chēng)，如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國(guó)出口的，那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

達(dá)森表示，ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶(hù)繼續(xù)提供服務(wù)和支持。

根據(jù)公開(kāi)的財(cái)報(bào)電話會(huì)議錄音，韋尼克也在會(huì)議上確認(rèn)了這一點(diǎn)。韋尼克稱(chēng)，根據(jù)當(dāng)前美國(guó)的規(guī)定，直接從荷蘭向中國(guó)出口的DUV光刻機(jī)不受影響。

但達(dá)森和韋尼克都強(qiáng)調(diào)的是DUV光刻機(jī)出口，并未提到更先進(jìn)的EUV（極紫外）光刻機(jī)。彭博社14日在報(bào)道中也強(qiáng)調(diào)，DUV的規(guī)則不適用于EUV光刻機(jī)。ASML必須獲得許可證才有可能向中國(guó)企業(yè)出口EUV光刻機(jī)。但荷蘭政府已經(jīng)暫緩了EUV光刻機(jī)出口許可，一直到現(xiàn)在都沒(méi)有批準(zhǔn)。

“盡管被夾在中美之間，ASML仍積極努力”

EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)有什么不同？

那就是中低端與高端的區(qū)別。

根據(jù)曝光源的不同，光刻機(jī)分為EUV型（極深紫外線）、DUV型（深紫外線）。從制程范圍來(lái)看，DUV基本上只能做到25nm，而EUV能滿(mǎn)足10nm以下的晶圓制造需求。

有網(wǎng)友直呼：DUV光刻機(jī)是二等品，自然不用受限。

EUV光刻機(jī)則是實(shí)現(xiàn)7nm的關(guān)鍵設(shè)備，如果中國(guó)大陸無(wú)法引入ASML的EUV光刻機(jī)，則意味著大陸將止步于7nm工藝。

目前中芯國(guó)際訂購(gòu)了一臺(tái)EUV。價(jià)格貴，但不是只買(mǎi)一臺(tái)的唯一原因，而是買(mǎi)多了，現(xiàn)在真用不上。

有微電子博士解析，就這一臺(tái)，還是著眼于兩三代技術(shù)節(jié)點(diǎn)之后的產(chǎn)品研發(fā)（14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm）。必須要用EUV的，是5nm以及以下，直到7nm，DUV都?jí)蛴谩?/p>

三星，英特爾和臺(tái)積電瘋搶EUV，是因?yàn)樗麄兡壳熬鸵谩Ｈ呛团_(tái)積電都已經(jīng)開(kāi)始攻堅(jiān)3nm了。而中芯國(guó)際，在logic device領(lǐng)域，確實(shí)還是第二梯隊(duì)的，下一代和下下代研發(fā)，都不是非EUV不可，DUV完全夠用。需要多沉下心來(lái)多琢磨光刻工藝。

根據(jù)ASML發(fā)布的財(cái)報(bào)，2020年第三季度ASML光刻機(jī)凈銷(xiāo)售額達(dá)31億歐元，中國(guó)大陸市場(chǎng)的營(yíng)收占到21%。第三季度ASML總計(jì)凈銷(xiāo)售額達(dá)到約40億歐元，凈收入近11億歐元。值得一提的是，EUV光刻機(jī)的收入占比極高，貢獻(xiàn)了66%的光刻機(jī)銷(xiāo)售額。

今年5月，ASML與無(wú)錫高新區(qū)簽署了戰(zhàn)略合作協(xié)議，在無(wú)錫高新區(qū)內(nèi)擴(kuò)建升級(jí)阿斯麥光刻設(shè)備技術(shù)服務(wù)（無(wú)錫）基地。此前，ASML已在北京、上海、深圳、無(wú)錫等地開(kāi)設(shè)分公司，為客戶(hù)提供服務(wù)和咨詢(xún)，其中深圳是其在亞洲最大的軟件研發(fā)中心。

ASML壟斷著全球光刻機(jī)市場(chǎng)，但核心資本仍握在美國(guó)手里。所以，雖然消息是好消息，但現(xiàn)實(shí)情況可能是，DUV可解燃眉之急，自研之路仍要走。

責(zé)任編輯：xj原文標(biāo)題：光刻機(jī)可以賣(mài)給中國(guó)？

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