文|James
集微網消息,光刻機被業界譽為集成電路產業皇冠上的明珠,其研發的技術門檻和資金門檻非常高,全球光刻機主要制造廠商主要包括荷蘭的 ASML、日本的 Nikon、日本的 Cannon、美國的 Ultratech 以及中國的上海微電子。隨著工藝制程的演進和分辨率的可靠性等要求越來越高,光刻機制造難度也越來越大,對配套的精密光學器件也提出了更高的要求。
近年來,受益于本土半導體產業爆發,不少光學領域公司已初具規模,其中就包括南京茂萊光學科技股份有限公司(簡稱“茂萊光學”)。筆者發現,近日,從股轉系統摘牌3年的茂萊光學申請科創板IPO已獲受理。憑借在精密光學器件方面的持續研發投入,茂萊光學已成功進入上海微電子的供應體系,實現了光刻機核心光學器件的部分國產替代。
進入上海微電子供應體系
在半導體檢測中,高精度的光學成像系統有助于避免制造損失的指數式增長。以缺陷檢測為例,晶圓特征尺寸的不斷減小會造成更多微小的缺陷,這些表面缺陷是提高良率的主要障礙,表面缺陷檢測使用的設備主要是掃描電子顯微鏡和光學顯微鏡,由此可見,高精度的光學成像系統在半導體檢測過程中意義重大。
據招股書披露,茂萊光學的主要產品包括精密光學器件、高端光學鏡頭和先進光學系統三大類業務,覆蓋深紫外DUV、可見光到遠紅外全譜段。茂萊光學在半導體方面的業務主要有半導體光學透鏡、大視場大數值孔徑顯微物鏡和高精度快速半導體制造工藝缺陷檢測光學系統。
據悉,半導體光學透鏡用于半導體光刻機光學系統中耦合、中繼照明模塊,是光刻機實現光線均勻性的關鍵模塊;大視場大數值孔徑顯微物鏡系列主要功能為利用光線使被檢物體一次成像,是半導體檢測系統中的核心光學鏡頭;此外,高精度快速半導體制造工藝缺陷檢測光學系統主要用于半導體裝備晶圓檢測,可提升有效視場范圍和提高檢測速度。
據了解,茂萊半導體領域核心客戶是上海微電子,后者是國內技術領先的光刻機研制生產單位,目前已量產的光刻機有三款,其中性能最好的是90nm光刻機,在先進光刻機產品方面形成了系列化和量產化,實現了光刻機海外市場的銷售突破。
與此同時,上海微電子的發展也帶動了茂萊光學的業績增長。2017-2019年,茂萊光學實現營業收入分別為1.52億元、1.84億元及2.22億元,復合增長率達20.82%。值得一提的是,2019年,茂萊光學高端光學鏡頭收入較2018年度增長25.78%。
由上表可知,大視場大數值孔徑顯微物鏡系列產品收入同比增長136.79%,主要由于半導體檢測物鏡系列產品收入增長,茂萊光學2018年相應樣品研發成功,2019年其新增訂單實現大幅增長,收入同比增長554.69萬元。
此外,茂萊光學先進光學系統業務也實現了高速增長。2018年度,茂萊光學先進光學系統業務收入較2017年度增長59.95%,主要是由于高精度快速半導體制造工藝缺陷檢測光學系統于當期完成樣品驗收,實現銷售收入71.72萬元;2019年度,高精度快速半導體制造工藝缺陷檢測光學系統收入同比增長329.41萬元,產品進入批量生產階段。
持續高研發投入加速國產替代進程
茂萊光學之所以能在半導體領域取得快速突破,與其持續高研發投入的推動密不可分。據悉,茂萊光學高度重視研發投入及專業人才的引進和培養,從研發人員的薪酬占研發費用的比例可見一斑。
從招股書來看,2017年至2020年Q1,茂萊光學各期研發費用分別為1,506.60萬元、1,763.95萬元、2,413.34萬元和823.10萬元,其中,職工薪酬占研發費用的比例分別為57.12%、65.21%、67.96%和52.84%,呈逐年走高趨勢。
2018年度及2019年度,茂萊光學研發費用分別同比增長17.08%和36.81%,茂萊光學解釋稱,主要由于持續構建優秀的研發團隊,加大研發投入力度以滿足客戶定制化需求。從前文分析來看,研發團隊增加與2018、2019年半導體領域產品研發進度相契合。
據招股書顯示,茂萊光學研發費用占營業收入比重分別為9.91%、9.60%、10.88%及21.27%。最近三年及一期累計研發投入占比為10.91%,茂萊光學報告期內各期研發費用率均高于平均水平。
持續高研發投入也為茂萊光學帶來回報,茂萊光學在光刻機前端照明用光學器件已處于國內領先地位。據悉,該產品口徑接近200mm,可實現紫光鍍膜和測量要求。此外,茂萊光學宣稱研制的高精度快速半導體制造工藝缺陷檢測光學系統處于國際先進,并實現了進口替代。
核心技術產業化也幫助茂萊光學實現了業績穩定增長。據招股書顯示,2017年至2020年Q1,茂萊光學核心技術形成的營業收入分別為1.14億元、1.43億元、1.89億元及 0.34億元,保持逐年增長的良好趨勢。此外,擁有已形成主營業務收入的發明專利共計 6 項。
據中國光學光電子行業協會發布的數據顯示,2019年中國光學元器件市場規模為1,300億元,較2018年增長85.71%。國內光學元器件市場正迎來風口,茂萊光學憑借高研發投入并推動核心技術在半導體等多個戰略性行業實現產業化,不僅成為推動半導體前道晶圓和后道封裝檢測技術進步的光學引擎,還在光刻機的核心光學器件實現國產替代。
整體來看,茂萊光學是行業稀缺標的,目前該公司已掌握了精密光學拋光等尖端制造技術,在圖像算法諸多方面持續積累,不斷突破紫外光學加工和鍍膜、大口徑高精度透鏡加工等各類加工和檢測技術,促進大口徑干涉系統、光刻機光學系統、半導體封裝檢測系統、車載激光雷達等高端鏡頭和系統的國產化。除了在半導體業務順利開拓,持續的高研發投入,讓其在AR/VR、自動駕駛等領域,成功進入了美國的Microsoft、Facebook、Mack Technologies以及Alphabet旗下自動駕駛平臺等眾多國際品牌的供應鏈體系,具有較大的成長空間。
原文標題:【IPO價值觀】供貨上海微電子,茂萊光學實現光刻機核心光學器件國產替代!
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