光刻機是集成電路制造的關鍵核心設備，為了在更小的物理空間集成更多的電子元件，單個電路的物理尺寸越來越小，主流光刻機在硅片上投射的光刻電路分辨率達到50-90nm。
2016-12-13 02:04:11
12251 本文主要對接觸式三維測量和非接觸式三維測量進行了介紹。著重介紹了光學三維測量技術的各種實現方法及原理。最后對目前光學三維測量的應用進行了簡單介紹。
2022-07-13 10:09:283507 壓印光刻是許多新興應用的關鍵技術，例如微光學、增強現實、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:071257 
關于紅外雨量計（光學雨量傳感器）的紅外光學測量技術 紅外雨量計是一種常用的雨量測量設備，它通過紅外光學測量技術來測量雨量。紅外光學測量技術是指利用光學原理和儀器對物體的紅外輻射進行測量、分析和處理
2023-08-11 14:50:30804 
雙光子光刻技術能夠精確制備三維結構，并將其精準集成在光電芯片上，能夠在光纖-芯片以及芯片-芯片之間，構建大帶寬、低損耗的光信號鏈路，實現光信號的高效互連，降低封裝過程的對準精度，給光學芯片的封裝過程帶來了全新的機遇。
2023-11-06 14:36:30487 
隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應對光刻圖案的影響左圖是理想的光強分布，由于光的衍射效應，實際的光強分布如右圖所示。當光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產生明顯的衍射效應。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
。 為什么需要EUV光刻？ EUV的優勢之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替傳統的多重曝光技術將大大減少沉積、蝕刻和測量的步驟。目前EUV技術主要運用在邏輯工藝制程中，這導致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
文章編號：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作為微電子技術核心的集成電路制造技術是電子工業的基礎，其發展更新的速度是其他產業無法企及的。在集成電路制作過程中，光刻是其關鍵工藝[1
2018-08-23 11:56:31
光學3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術，結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等快速、準確測量物體表面的形狀和輪廓的檢測儀器。它利用光學投射原理，通過光學傳感器對物體表面進行掃描，并根據反射光的信息來
2023-08-21 13:41:46
` 隨著傳感器技術、計算機應用技術、超大規模集成電路技術和網絡通信技術的發展，光學測徑儀被廣泛的應用于外徑檢測當中，測徑儀隨著傳感器技術的愈加成熟，測量精度更高，測量更準確，更適合現代化的生產工藝
2018-11-02 09:24:10
性化，可于不同倍率/不同光源下精密量測，知名度享譽世界及同業，且為美國第一大視覺量測制造廠。 2、光學影像檢測系統的作用 光學影像測量系統為現代制造機械的關鍵性設備，并廣泛應用于機器視覺應用領域，如
2012-08-07 22:14:19
成都力得納光科技有限公司本公司本著“誠信，創新”的原則，長期從事光學微結構產品的研發、設計及生產制作 ，擁有專業的研發設計團隊及良好的社會資源。公司承接業務范圍：光刻復制、激光直寫、微納結構刻蝕傳遞
2016-06-23 16:14:13
光學測試技術光學測試技術
2012-11-20 16:47:57
現象在 1946 年由 Frank 和 Ginzburg 從理論上給予了預言[ 1] , 隨著測試技術的進步、測量設備的更新和加速器研制的需要, 1975 年光學渡越輻射開始被用來測量和診斷電子束的束
2018-03-14 09:25:53
CCD光學測量系統原理
2012-07-20 22:57:56
在DDRx里面經常會被一些縮寫誤擾，如OCD、OCT和ODT，我想有同樣困擾的大有人在，今天還是繼續上一篇的關鍵技術來介紹一下大家的這些困擾吧。片外驅動調校OCD（Off-Chip Driver
2016-08-31 11:36:41
希望使用matlab對攝像機實時獲得的圖像進行尺寸測量，用什么模塊或者算法，跪求啊
2012-09-05 16:45:05
在PCB測量完尺寸后，留有黃色尺寸標注，怎么讓其不顯示？
2019-05-22 02:13:51
利用CCD進行光學測量，想知道ccd拍攝圖像的灰度值與相面上的照度和曝光時間有什么關系？知道了想灰度值、曝光時間等參數怎樣求得相面上的照度
2013-07-08 19:54:50
的關鍵。這包括使用新的材料讓沉積過程變得更為精準的創新技術。光刻膠涂覆晶圓隨后會被涂覆光敏材料“光刻膠”（也叫“光阻”）。光刻膠也分為兩種——“正性光刻膠”和“負性光刻膠”。正性和負性光刻膠的主要
2022-04-08 15:12:41
三種常見的光刻技術方法根據暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
測物體通過物鏡成像在CCD目標表面上，而信號則由物鏡輸出，適當地處理CCD，提取測量對象的幾何信息，結合光學系統的變換特性，最后計算出測量尺寸。與普通的測量方法相比，使用CCD視覺檢測技術進行測量
2021-04-10 11:38:28
什么是光學模數轉換器？光學模數轉換器的主要技術指標光學模數轉換器的研究進展光學模數轉換器的應用
2021-04-20 06:52:52
什么是RF MEMS？有哪些關鍵技術與器件？微電子機械系統(MicroElectroMechanicalSystem)，簡稱MEMS，是以微電子技術為基礎而興起發展的，以硅、砷化鎵、藍寶石等為襯底
2019-08-01 06:17:43
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協同通信的方式有哪些？ 4大數據及認知無線電（名詞解釋） 4半導體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導體光刻技術基本原理 4給出4個全球著名的半導體設備制造商并指出其生產的設備核心技術： 5衛
2021-07-26 08:31:09
中國科學院大學（以下簡稱國科大）微電子學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院，國科大微電子學院開設的《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》課程是國內少有的研究討論光刻技術的研究生課程，而開設課程
2021-10-14 09:58:07
尺寸測量儀適用于哪些零部件？
1、圖像尺寸測量儀適用于各類機械零部件。
采用機器視覺技術，結合高精度圖像分析算法，并融入一鍵閃測原理。
不管是金屬制品還是塑料制品，無論是復雜的結構零部件還是簡單
2023-09-11 16:44:36
光電容積脈搏波描記術（Photoplethysmography，PPG）是一種用于心率監測儀（HRM）和外周毛細血管氧飽和度（SpO2）測量的流行光學技術。它簡易方便，因為只需將LED和光電探測器（PD）連接到身體上即可。
2019-08-02 06:48:17
微型光學***模組，集感應測量光路、微型機械構造和數字/模擬微電子集成電路于一體，是高度微型化的機電一體化人機輸入模塊，其核心技術是光學***OFN（Optical Finger
2020-03-10 07:49:47
求一款大尺寸LCD光學量測系統的應用方案
2021-06-01 07:14:32
系統，被測物體通過物鏡成像在CCD目標表面上，而信號則由物鏡輸出，適當地處理CCD，提取測量對象的幾何信息，結合光學系統的變換特性，最后計算出測量尺寸。那么深圳CCD視覺檢測技術在測量時有哪些優點？相信
2021-08-31 15:03:04
【作者】：王艷茹;李斌成;劉明強;【來源】：《強激光與粒子束》2010年02期【摘要】：采用格林函數法,考慮徑向邊界條件和對流熱損失,理論上求解了有限尺寸高反射光學元件在激光作用下的熱傳導方程
2010-04-22 11:40:34
耳塞式光學心率測量
2021-01-21 06:56:41
我想使用 L6474 STATUS 寄存器的 OCD 標志來檢測步進電機受阻時機構運動的結束。但是我們在這樣做時遇到了一些麻煩。如果 OCD_TH 中的電流小于 TVAL 中的電流，則在運動開始時
2022-12-07 07:54:35
期間內外良好的光學對準性。 光譜-物理獨特的腔外倍頻技術是全固體Q激光里面的最高品質。另外激光器關鍵器件諸如泵浦二極管、光纖、shutter、輸出窗口等是可以簡單的現場維修更換的，這就使得光譜-物理
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”，根據之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
投影儀、影像測量儀等在效率上難以滿足用戶的測量需求。 全自動尺寸測量儀器將高精度遠心光學鏡頭與智能化圖像處理技術相結合，并融入一鍵閃測原理，精度達到微米級
2022-06-14 15:26:37
中圖儀器基于3D光學成像測量非接觸、操作簡單、速度快等優點，以光學測量技術創新為發展基礎，研發出了常規尺寸光學3D測量儀、微觀尺寸光學3D測量儀、大尺寸光學3D測量儀等，能提供從納米到百米的精密測量
2023-04-21 11:32:11
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
主要介紹了集成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術。IGCT器件的光刻次數多，精度要求高，如何保證光刻質量是關鍵。根據IGCT光刻的特點，從光刻機的性能、光刻膠的選用以及刻
2010-06-24 16:48:43
14 用光學技術測量三維非對稱溫度場
2010-07-26 15:54:4611 提要：本文討論了光學光刻中的離軸照明技術。主要從改善光刻分辨率、增大焦深、提高空間像對比度等方面對離軸照明與傳統照明作了比較，并用 仿真軟件進行了模擬分析。研
2010-11-11 15:45:020 LED光學參數的測量技術和國家光度標準
2010-12-27 17:14:47115 簡單的說用一定波長的波刻蝕材料就是光刻技術,集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:085368 在當今國內工業中對尺寸的測量大多還是采用千分尺等落后的接觸式的方法，不但效率不高而且精確度不高。文中討論了線陣CCD用于尺寸測量的非常有效的非接觸檢測技術。本測量系統
2012-03-20 11:27:50153 對先進光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預知光刻模擬的必做工作。
2012-05-04 16:28:416685 
從第一個晶體管問世算起，半導體技術的發展已有多半個世紀了，現在它仍保持著強勁的發展態勢，繼續遵循 Moore 定律即芯片集成度18個月翻一番，每三年器件尺寸縮小0.7倍的速度發展。大尺寸、細線
2017-09-29 16:57:405 OCD TMS570 CortexR4
2017-10-26 09:14:0317 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-04-17 16:07:4133630 光刻技術是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-06-27 15:43:5011776 關鍵詞：光學防抖 , 模糊邏輯控制器 , 音圈馬達 , 智能手機 研究機構開發出具有最佳補償效果的手抖動信號估測算法，以及運算負載低且易實作的模糊邏輯(Fuzzy Logic)控制器，可大幅提高
2018-12-14 22:23:01592 的新型光學及掩模襯底材料是該波段技術的主要困難。光科技束是很多學科的綜合，任何一門學科的突破就能對光刻技術的發展做出巨大貢獻。
2019-01-02 16:32:2323711 子站，同時利用激光跟蹤儀及相關坐標變換算法，完成對各個CCD相機測量子站的全局標定；各個測量子站利用立體空間球檢測技術，對局部關鍵尺寸進行測量；同時構建了基于小波分析的神經網絡溫度誤差補償模型，使空間距離補償后的精度能達到
2019-01-03 11:10:064 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-03-03 10:00:314088 光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來制作電子電路的技術。
2020-08-13 15:09:2217949 
作為光刻工藝中最重要設備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術飛速向前發展。了解提高光刻機性能的關鍵技術以及了解下一代光刻技術的發展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機（Mask
2020-08-28 14:39:0411746 
（CCL）中。而這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計算光刻技術軟件和5nm 生產精加工芯片的技術，兩條直指了對芯片的制造的封鎖。 據了解，目前受到出口管制的新興技術總數已經達到了37項。美國商務部在官網發布公告中寫道：此舉是為了支持關鍵及新
2020-10-27 10:49:102285 導讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關鍵技術，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。 光刻機的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:547273 膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等數十道工序才得以最終完成。 正因如此，集數學、光學、物理、化學等眾多學科技術于一身的光刻機，被稱之為半導體工業皇冠上的明珠，占據晶圓廠設備投資總額的約25%。 在中美關系緊
2020-11-26 16:19:192472 光刻技術的進步使得器件的特征尺寸不斷減小，芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領下,光學光刻技術經歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進投影、步進掃描投影等曝光方式的變革。
2020-12-14 15:06:446628 EUV光刻機，一直是中國芯片制造無法進一步升級的掣肘。去年9月份，時任中國科學院院長白春禮公開表態稱，將集中精力攻克光刻機難題。不到半年時間，中國科學家就在這一“卡脖子”技術取得了關鍵性突破。
2021-02-26 09:06:185287 OCD ICE 修復說明
2022-06-26 09:46:280 對更窄間隙尺寸和獨立于平臺的測量解決方案的需求，光學測量系統可以測量迄今為止未知的精度，以及在汽車車身生產的所有階段普遍使用一個相同的測量設備。”
2022-06-27 14:01:44626 機可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 根據所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學光刻技術中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:533169 
光刻是半導體工藝中最關鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業最熱門的關鍵詞，也是光刻技術。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術。
2022-10-18 12:54:053180 Technology，RET)的延伸，其關鍵技術主要包括光學成像物理仿真、光學鄰近效應校正 (Optical Proximity Correction,OPC)、光源-掩模協同優化 (Source-Mask Optimization， SMO） 等。三種計算光刻技術的對比見表。
2022-10-26 15:46:222274 介紹了測量精度為±0 .04 mm 的線陣 CCD 尺寸自動檢測系統的工作原理, 著重介紹了 尺寸測量信號的提取方法, 給出了實現電路, 并論述了電路實現中的關鍵技術.經實際應用發現, 該電路簡單、可靠、精度高, 有實用價值.
2022-11-22 17:39:020 劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，通過光刻成像系統，將設計好的圖形轉移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產生畸變。
2022-11-28 09:49:56690 自動化光學測量系統
2022-12-05 14:45:57701 中圖儀器影像測量儀、共聚焦顯微鏡、白光干涉儀基于3D光學成像測量非接觸、操作簡單、速度快等優點，能提供常規尺寸光學測量儀器、微觀尺寸光學測量儀器、大尺寸光學測量儀器等精密測量解決方案！
2023-04-20 17:11:44396 
光刻技術簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光學計量學是當今制造業的關鍵技術之一。它通常可以被定義為用光進行測量的科學，被廣泛用于評估產品（或其某些部件或組件）的物理特性
2023-04-28 11:19:101022 
葉片是發動機關鍵零件，屬于薄壁易變形零件。如何控制其變形并高效、高質量地加工是目前葉片制造行業研究的重要課題之一。 為了確保發動機葉片的質量和可靠性，需要使用高精度的測量技術進行檢測。下面將介紹
2023-05-23 10:45:02468 
中圖儀器VX系列閃測儀采用雙遠心高分辨率光學鏡頭對圖像進行捕捉，結合高精度圖像分析算法，精準測量出電機沖片所有尺寸。VX系列閃測儀顛覆傳統測量模式，開創快速影像尺寸測量時代，只需一鍵，瞬間測量電機沖片所有尺寸，繁瑣的測量任務變得無比輕松。
2021-11-02 10:15:30651 
除了常見的尺寸測量儀器，近些年又出現了一種新型的測量儀器——閃測儀，也叫一鍵式測量儀和圖像尺寸測量儀，VX3000系列閃測儀采用雙遠心高分辨率光學鏡頭，結合高精度圖像分析算法，并融入一鍵閃測原理。只需按下啟動鍵，儀器即可實現一鍵式快速精準測量。
2021-11-08 16:55:121521 
VX3000系列圖像尺寸測量儀具有測量范圍更大、承重更高、并可擴展高度測量等優勢。可以滿足各類零部件輪廓尺寸快速測量需求，工件無需定位，任意擺放，一鍵完成二維平面尺寸測量，搭載光學非接觸式測頭實現高度尺寸、平面度等參數的精密快速測量。
2022-09-20 15:04:27770 
。照明系統是光刻機的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統光學設計為研究方向，對照明系統關鍵單元進行了光學設計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
閃測儀是一種常用的測量工具，可用于測量工件的尺寸。它是一種利用圖像處理、數據分析等技術進行尺寸測量的儀器。具有的高精度測量能力，能夠準確地測量工件的長度、寬度、高度等尺寸參數。儀器具有高精度、高效率
2023-08-15 10:31:45628 
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
基礎和重要的項目。目前常用的微結構表面形貌測量方法分為接觸式和非接觸式。運用非接觸式測量技術的3D光學檢測儀器，大多是基于光學方法（干涉顯微法、自動聚焦法、激光干涉法、光學顯微干涉法等），可對精密零部件
2023-07-06 13:24:240 電蜂優選工程師說道測量M12線束的尺寸是確保插頭與相應的測量設備或接口兼容的關鍵任務。尺寸測量包括測量插頭的長度、直徑、螺紋規格、引腳間距等參數。
2023-11-02 14:09:22499 
光學測量儀器結合鏡頭防撞保護技術、精密雙重隔振技術以及環境噪聲評價技術，具有高精度、自動化程度高、實時反饋和范圍廣等優勢，可以實現自動化測量和高效調整，可對精密零部件的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸實現微納級測量
2023-11-30 09:13:110 PCB外形尺寸全檢的神器-VX9000系列光學掃描成像測量機，獲得了客戶的廣泛認可和一致好評。VX9000系列光學掃描成像測量機以光學成像測量系統為基礎，配合高精度運
2023-12-01 08:08:15156 
傳統的幾何尺寸測量儀器設備包括千分尺、角度尺、游標卡尺等，這些儀器能夠滿足一般的幾何量測量需求。但是隨著科技的發展，越來越多高精度測量儀器被應用于幾何量測量領域。從納米級光學3D表面輪廓儀通過光學
2023-12-26 17:16:39361 
光學三維測量技術是一種重要的非接觸式測量方法，廣泛應用于工程、制造、設計等領域。
2024-02-22 10:40:42277 閃測儀可以快速完成尺寸測量，一鍵即可測量二維平面尺寸測量，或是搭載光學非接觸式測頭實現高度尺寸、平面度等參數的精密快速測量。不僅能夠大大提高測量效率，還能減少人為因素對測量結果的影響，保證測量的準確性和穩定性。
2024-02-26 13:40:0197 
采集卡、圖像處理軟件等組件構成。閃測儀就是利用先進的光學原理和圖像處理技術，高速獲取并分析產品的尺寸信息。中圖閃測儀基于機器視覺的自動測量技術，采用雙遠心高分辨率光
2024-03-04 13:40:010 PCB外形尺寸全檢的神器-VX9000系列光學掃描成像測量機，獲得了客戶的廣泛認可。 VX9000系列光學掃描成像測量機以光學成像測量系統為基礎，配合高精度
2023-12-01 09:29:55
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