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標簽 > 半導體設備
半導體設備泛指用于生產各類半導體產品所需的生產設備，屬于半導體行業產業鏈的關鍵支撐環節。半導體設備是半導體產業的技術先導者，芯片設計、晶圓制造和封裝測試等需在設備技術允許的范圍內設計和制造，設備的技術進步又反過來推動半導體產業的發展。
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隨著國際產能不斷向我國大陸地區轉移，英特爾（Intel）、三星（Samsung）等國際大廠陸續在我國大陸地區投資建廠，同時在集成電路產業投資基金的引導下...
光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程：涂膠、對準和曝光以及光...
刻蝕設備的重要性僅次于光刻機。而隨著NAND閃存進入3D、4D時代，要求刻蝕技術實現更高的深寬比，刻蝕設備的投資占比顯著提升，從25%提至50%。
相信大家現在也都知道了，由于美國今年第三輪打壓制裁的原因，很多華為的供應鏈企業，需要在9月15日之后，獲得美國的許可，才能繼續供貨華為，其中主要還是芯片...
第九步退火，離子注入后也會產生一些晶格缺陷，退火是將離子注入后的半導體放在一定溫度下進行加熱，使得注入的粒子擴散，恢復晶體結構，修復缺陷，激活所需要的電學特性。
設備功能：與光刻機聯合作業，首先將光刻膠均勻地涂到晶圓上，滿足光刻機的工作要求；然后，處理光刻機曝光后的晶圓，將曝光后的光刻膠中與紫外光發生化學反應的部...
對于芯片制造來講，光刻是一個必不可少的環節，可以說，沒有光刻機，就沒有現代芯片產業。在集成電路制造過程中，光刻工藝的費用約占制造成本的1/3 左右，耗費...
IP核具有知識產權核的集成電路的總稱。經反復驗證,具有特定功能的宏模塊。可移植到不同半導體工藝中。
日本和荷蘭對美國限令的附和，意味著未來很長一段時間內，我國很難從海外半導體設備企業中順利進口先進設備。
"LD"通常指的是"激光二極管"（Laser Diode），這是一種半導體設備，能夠將電能轉換為光能。在光電領域，激光二極管被廣泛應用于各種設備和系統中...
晶圓廠內半導體設備按照類型可大致分為薄膜沉積、光刻、刻蝕、過程控制、自動化制造和控制、清洗、涂布顯影、去膠、化學機械研磨（CMP） 、快速熱處理/氧化擴...
2022-08-26 標簽：半導體設備 795 0
功率墻：將功率引入芯片并從芯片封裝中提取熱量變得越來越具有挑戰性，因此我們必須開發改進的功率傳輸和冷卻概念。
沒有半導體設備的支持，芯片制造的任何一個環節都難以完成芯片的交付，但目前國產化率在全球市場中所占的比例很低。
滾柱導軌因其具有高承載、高精度、高穩定性和長壽命等特點，被廣泛應用在重型設備、精密設備、自動化生產線、航空航天和半導體設備等領域。
半導體產業作為現代電子工業的核心，其產品的全生命周期測試對于確保產品質量、提高生產效率和降低成本具有重要意義。半導體全生命周期測試設備涵蓋了從原材料檢測...
應用范圍之廣，如：IC制造設備、半導體設備、高速移載的設備、精密測量、檢測儀器設備、醫療設備、X-Y table平臺、高速皮帶驅動 的等等小型化的設備，...
微型導軌具有高精度、低摩擦和高速直線運動特性，在精密機械設備中運用廣泛，尤其在小型化設備領域更有不可替代的地位。微型導軌在半導體設備中扮演者重要角色。
在安裝防震基座之前，需要對安裝場地進行精確測量。使用高精度的水準儀、經緯儀或全站儀等測量儀器，測量地面的平整度和水平度，確保地面的平整度誤差在允許范圍內...
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