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標簽 > 光刻技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細加工技術(shù)。
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阿斯麥(ASML)近日發(fā)布了其2024年第四季度及全年財報,數(shù)據(jù)顯示公司業(yè)績繼續(xù)保持強勁增長態(tài)勢。 在2024年第四季度,ASML實現(xiàn)了93億歐元的凈銷...
本文介紹了7納米工藝面臨的各種挑戰(zhàn)與解決方案。 一、什么是7納米工藝? 在談?wù)?納米工藝之前,我們先了解一下“納米”是什么意思。納米(nm)是一個長度單...
隨著科技的飛速發(fā)展,CMOS技術(shù)也在不斷進步,以滿足日益增長的性能需求。從最初的簡單邏輯門到現(xiàn)在的復(fù)雜集成電路,CMOS技術(shù)已經(jīng)成為推動數(shù)字革命的關(guān)鍵力...
美投資8.25億美元建設(shè)NSTC關(guān)鍵設(shè)施,重點發(fā)展EUV光刻技術(shù)
拜登政府已宣布一項重大投資決策,計劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元,用于建設(shè)國家半導(dǎo)體技術(shù)中心(NSTC)的核心設(shè)施。據(jù)美國商務(wù)部透露,奧爾巴尼...
日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)
近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體...
來源: ASML阿斯麥光刻 人類每天都在推動技術(shù)進步,不斷拓展可到達的技術(shù)邊界,而這些新科技的實現(xiàn)背后離不開芯片技術(shù)的支持。如今風(fēng)靡全世界的人工智能、數(shù)...
近日,比利時微電子研究中心(IMEC)與全球光刻技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)阿斯麥(ASML)共同宣布,在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室。
臺積電轉(zhuǎn)變態(tài)度?秘密訪問ASML總部引發(fā)行業(yè)關(guān)注
宿敵英特爾則積極投身于新興高數(shù)值孔徑超紫外光刻領(lǐng)域,已有數(shù)臺設(shè)備投入其芯片制造部門使用。據(jù)透露,英特爾正計劃在即將推出的18A(1.8納米)工藝節(jié)點中試...
據(jù)彭博社3月15日報道,三星電子有望從美國政府獲得逾60億美元的《CHIP》法案補貼。該公司目前正在美國得克薩斯州新建一座工廠,此前計劃于今年7月開始...
納米壓印光刻技術(shù)應(yīng)用在即,能否掀起芯片制造革命?
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李寧遠)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻機和光刻技術(shù)。而眾所周知,EUV光刻機產(chǎn)能有限而且成本高昂,業(yè)界一直都在探索不完全依賴于...
2024-03-09 標簽:光刻技術(shù) 4462 0
近期的演示會上,美光詳細闡述了其針對納米印刷與DRAM制造之間的具體工作模式。他們提出,DRAM工藝的每一個節(jié)點以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程變得...
英特爾:預(yù)計2027年末10A節(jié)點投產(chǎn),投資千億美元擴大晶圓制造
根據(jù)先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術(shù)的首批主要節(jié)點之后的第二例,預(yù)計可呈現(xiàn)出超過10%的每瓦性能改善。
英特爾擬斥資20億美元擴建愛爾蘭半導(dǎo)體工廠,采用先進技術(shù)
Fab 34是英國在歐洲如今唯一運用-極紫外線(EUV)光刻技術(shù)的芯片制作基地,負責(zé)生產(chǎn)英特爾第四代Intel 4工藝的生產(chǎn)力工具如Meteor Lak...
Imec 與三井化學(xué)公司簽署戰(zhàn)略合作協(xié)議,將用于 EUV 光刻技術(shù)的 CNT 薄膜技術(shù)商業(yè)化
來源:半導(dǎo)體芯科技 SiSC編譯 魯汶(比利時),2023 年 12 月 14 日 — 世界領(lǐng)先的納米電子和數(shù)字技術(shù)研究和創(chuàng)新中心 Imec 與日本領(lǐng)先...
ASML即將上任的首席執(zhí)行官Christophe Fouquet面臨的最大挑戰(zhàn)將是帶領(lǐng)公司進入一個新時代,救火員工程文化必須改變。
光刻技術(shù)涉及操縱光線將特征精確蝕刻到表面上,通常用于制造計算機芯片和透鏡等光學(xué)器件。但是制造過程中的微小偏差往往導(dǎo)致這些器件達不到設(shè)計者的預(yù)期。
臺積電因部分制程設(shè)備可共享,加上部分遞延預(yù)算將在今年動用,2024年資本支出恐降至280億~300億美元,較今年減少約6.3%~12.5%。外界預(yù)期,一...
高數(shù)值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV的下一步發(fā)展以及高數(shù)值孔徑EUV的時間表和技術(shù)要求上。ASML戰(zhàn)略營銷高級總監(jiān)Michael Lerce...
東方晶源開啟上市輔導(dǎo),擬科創(chuàng)板IPO
據(jù)資料顯示,東方晶源成立于2014年,專注于集成電路制造收率管理領(lǐng)域,成立初期確立了電子束圖像檢測、尺寸測量及計算光刻技術(shù)為主要研究方向。經(jīng)過多年的攻關(guān)...
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