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標(biāo)簽 > 光刻工藝
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該工序使用涂膠裝置(涂膠機(jī))。為了去除光刻膠中含有的溶劑,在70 ~ 90°C的溫度下進(jìn)行前烘(Pre -Bake)。在曝光裝置上“繪制”掩膜圖形。接下...
2022-12-09 標(biāo)簽:光刻工藝 8800 0
如今,光刻技術(shù)已成為一項(xiàng)容錯(cuò)率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強(qiáng)大的商用...
埃瑞微半導(dǎo)體前道套刻設(shè)備總部項(xiàng)目簽約無(wú)錫高新區(qū)
據(jù)了解,無(wú)錫埃瑞微半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司以集成電路的全會(huì)工程正在專心研發(fā)制造量測(cè)量設(shè)備,為光刻工藝的大量生產(chǎn)誤差為代表的夾注測(cè)量設(shè)備和其他缺陷正在致力提...
2023-12-04 標(biāo)簽:集成電路光刻工藝半導(dǎo)體設(shè)備 631 0
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