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摘要：有機電致發光器件(OLED)具有自發光、低功耗、響應快、亮度高、可視角度大等特點, 是下一代理想的顯示技術及面光源. 當前OLED 廣泛采用氧化銦錫(ITO)透明陽極兼出光窗口, 然而, ITO 表面功函數與器件內層有機材料最高電子占有軌道(HOMO)之間的勢壘較高, 器件工作電壓高, 導致能效偏低以及穩定性差等問題. 射頻等離子體處理ITO 可獲得一定幅度功函數提高(約0.4 eV), 但仍未達到與有機材料最高電子占有軌道匹配程度, 而且, 處理效果時效性很短, 只有數小時. 而采用等離子體浸沒式氧離子注入(PIII)技術修飾ITO 表面, 可精確控制氧離子注入劑量及深度, 改變ITO 表層氧、銦、錫3 種元素原子比例. 在不改變ITO 薄膜主體透明性及導電性的基礎上, 表面功函數提高幅度達0.8 eV, 與主要的OLED 空穴輸運有機材料的HOMO 能級匹配, 并且, 處理效果經過50 h 后未見明顯衰退跡象。
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