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中圖儀器

深圳市中圖儀器股份有限公司是一家高新技術(shù)企業(yè),致力于全尺寸鏈精密測(cè)量?jī)x器及設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售。

可獲得潛在客戶(hù)線索數(shù)量120+立即解鎖

国产半导体合作伙伴

3k 內(nèi)容數(shù) 99w+ 瀏覽量 155 粉絲

探針式薄膜厚度臺(tái)階儀

型號(hào): NS系列
品牌: 中圖儀器(中圖儀器)

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

  • 注釋 如有疑問(wèn)或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢(xún)。

--- 產(chǎn)品詳情 ---

中圖儀器NS系列探針式薄膜厚度臺(tái)階儀是一款為高精度微觀形貌測(cè)量設(shè)計(jì)的超精密接觸式儀器,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、MEMS、光學(xué)加工等領(lǐng)域。通過(guò)2μm金剛石探針與LVDC傳感器的協(xié)同工作,結(jié)合亞埃級(jí)分辨率(5 ?)與智能化分析軟件,可精準(zhǔn)測(cè)量臺(tái)階高度(納米至1050μm)、表面粗糙度(Ra、Rz等參數(shù))、膜層厚度及應(yīng)力分布,為材料研發(fā)、工藝優(yōu)化與質(zhì)量管控提供可靠數(shù)據(jù)支持。

探針式薄膜厚度臺(tái)階儀
NS系列臺(tái)階儀實(shí)物圖:緊湊設(shè)計(jì),高效集成

 

性能特點(diǎn)

1.亞埃級(jí)位移傳感器

NS系列探針式薄膜厚度臺(tái)階儀具有亞埃級(jí)分辨率,結(jié)合單拱龍門(mén)式設(shè)計(jì)降低環(huán)境噪聲干擾,確保儀器具有良好的測(cè)量精度及重復(fù)性;

2.超微力恒力傳感器

1-50mg可調(diào),以適應(yīng)硬質(zhì)或軟質(zhì)樣品表面,采用超低慣量設(shè)計(jì)和微小電磁力控制,實(shí)現(xiàn)無(wú)接觸損傷的接觸式測(cè)量;

3.超平掃描平臺(tái)

系統(tǒng)配有超高直線度導(dǎo)軌,杜絕運(yùn)動(dòng)中的細(xì)微抖動(dòng),真實(shí)地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀形貌。

 

產(chǎn)品功能

1.參數(shù)測(cè)量功能

1)臺(tái)階高度:能夠測(cè)量納米到330μm或1050μm的臺(tái)階高度,可以準(zhǔn)確測(cè)量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

2)粗糙度與波紋度:能夠測(cè)量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過(guò)計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等數(shù)十項(xiàng)參數(shù)。

3)應(yīng)力測(cè)量:可測(cè)量多種材料的表面應(yīng)力。

2.測(cè)量模式與分析功能

1)單區(qū)域測(cè)量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖設(shè)置掃描起點(diǎn)和掃描長(zhǎng)度,即可開(kāi)始測(cè)量。

2)多區(qū)域測(cè)量模式:完成Focus后,根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,可根據(jù)橫向和縱向距離來(lái)陣列形成若干到數(shù)十?dāng)?shù)百項(xiàng)掃描路徑所構(gòu)成的多區(qū)域測(cè)量模式,一鍵即可完成所有掃描路徑的自動(dòng)測(cè)量。

3)3D測(cè)量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,并可根據(jù)所需掃描的區(qū)域?qū)挾然驋呙杈€條的間距與數(shù)量完成整個(gè)掃描面區(qū)域的設(shè)置,一鍵即可自動(dòng)完成整個(gè)掃描面區(qū)域的掃描和3D圖像重建。

4)SPC統(tǒng)計(jì)分析:支持對(duì)不同種類(lèi)被測(cè)件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析,針對(duì)批量樣品的測(cè)量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的變化趨勢(shì)。

3.雙導(dǎo)航光學(xué)影像功能

在NS200-D型號(hào)中配備了正視或斜視的500W像素的彩色相機(jī),在正視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可精確設(shè)置掃描路徑,在斜視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可實(shí)時(shí)跟進(jìn)掃描軌跡。

4.快速換針功能

NS系列探針式薄膜厚度臺(tái)階儀采用了磁吸式測(cè)針,當(dāng)需要執(zhí)行換針操作時(shí),可現(xiàn)場(chǎng)快速更換掃描測(cè)針,并根據(jù)軟件中的標(biāo)定模塊進(jìn)行快速標(biāo)定,確保換針后的精度和重復(fù)性,減少維護(hù)煩惱。

探針式薄膜厚度臺(tái)階儀
磁吸針實(shí)物外觀圖(330μm量程)

 

行業(yè)應(yīng)用場(chǎng)景

半導(dǎo)體制造:沉積/蝕刻薄膜厚度測(cè)量、CMP工藝表面平整度檢測(cè)、抗蝕劑臺(tái)階高度分析。

光伏與顯示面板:太陽(yáng)能涂層膜厚、AMOLED屏微結(jié)構(gòu)、觸控面板銅跡線測(cè)量。

MEMS與微納材料:微型傳感器形貌表征、柔性電子器件薄膜厚度檢測(cè)。

科研與高校:材料表面應(yīng)力分析、微加工工藝研發(fā)數(shù)據(jù)支撐。

 

部分技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

NS200

測(cè)量技術(shù)探針式表面輪廓測(cè)量技術(shù)
探針傳感器超低慣量,LVDC傳感器
平臺(tái)移動(dòng)范圍X/Y電動(dòng)X/Y(150mm*150mm)(可手動(dòng)校平)

樣品R-θ載物臺(tái)

電動(dòng),360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)
單次掃描長(zhǎng)度

55mm

樣品厚度
 
50mm
載物臺(tái)晶圓尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)
尺寸(L×W×H)mm

640*626*534

重量40kg
儀器電源100-240 VAC,50/60 Hz,200W

使用環(huán)境

相對(duì)濕度:濕度 (無(wú)凝結(jié))30-40% RH

溫度:16-25℃ (每小時(shí)溫度變化小于2℃)

地面振動(dòng):6.35μm/s(1-100Hz)

音頻噪音:≤80dB

空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動(dòng))

 

懇請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

如有疑問(wèn)或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢(xún)。

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    顯微測(cè)量是利用顯微鏡對(duì)微小尺寸和形狀進(jìn)行高精度測(cè)量的技術(shù),在先進(jìn)制造業(yè)中具有重要意義。它為制造業(yè)提供了準(zhǔn)確、可靠的測(cè)量手段,幫助企業(yè)實(shí)現(xiàn)更高水平的制造和更高質(zhì)量的產(chǎn)品。隨著科技的不斷進(jìn)步,顯微測(cè)量技術(shù)有望在未來(lái)取得更大的突破和應(yīng)用。
  • VX9000系列光學(xué)掃描成像測(cè)量機(jī),滿(mǎn)足PCB行業(yè)多樣化尺寸測(cè)量需求2023-12-01 09:29

    VX9700光學(xué)掃描成像測(cè)量機(jī)紅、藍(lán)、綠三色光源滿(mǎn)足不同顏色PCB測(cè)量需求。高遠(yuǎn)心度雙側(cè)遠(yuǎn)心鏡頭提升數(shù)倍精度,一鍵測(cè)量新能源車(chē)PCB輪廓度、位置度、外形尺寸。
  • 激光干涉儀檢測(cè)機(jī)床的方法(以線性檢測(cè)為例)2023-10-27 15:21

    激光干涉儀檢測(cè)機(jī)床的方法(以線性檢測(cè)為例)1.進(jìn)行線性測(cè)量的一般步驟(1)安裝設(shè)置激光干涉儀(2)將激光束與被測(cè)量的軸校準(zhǔn)(3)啟動(dòng)測(cè)量軟件,并輸入相關(guān)參數(shù)(如材料膨脹系數(shù))。(4)在機(jī)床上輸入測(cè)量程序,啟動(dòng)干涉儀測(cè)量,并記錄數(shù)據(jù)。(5)用測(cè)量軟件分析測(cè)量數(shù)據(jù),生產(chǎn)補(bǔ)償文件。線性測(cè)量應(yīng)用2.光束快速準(zhǔn)直步驟(1)沿著運(yùn)動(dòng)軸將反射鏡與干涉鏡分開(kāi)。(2)移動(dòng)機(jī)床工作臺(tái),當(dāng)光束離開(kāi)光靶外圓時(shí)停止移動(dòng),垂
  • 白光干涉儀(光學(xué)輪廓儀):揭秘測(cè)量坑的形貌的利器!2023-10-26 10:47

    SuperViewW1白光干涉儀結(jié)合數(shù)字圖像處理技術(shù)和三維重建算法來(lái)提高測(cè)量的精度和效率,揭秘并測(cè)量坑的形貌,為科學(xué)研究和工程實(shí)踐提供更有力的支持。
  • 納米級(jí)測(cè)量?jī)x器:窺探微觀世界的利器2023-10-11 13:49

    納米級(jí)測(cè)量?jī)x器在納米科技研究領(lǐng)域中扮演著重要的角色。通過(guò)共聚焦顯微鏡、光學(xué)輪廓儀等的運(yùn)用,科研人員們能夠更加深入地了解納米世界的奧秘。
  • 微納共聚焦顯微鏡:檢測(cè)摩擦學(xué)研究的重難點(diǎn)2023-09-22 09:13

    針對(duì)磨損區(qū)域較大、坡度也較為陡峭的生物摩擦和流體摩擦領(lǐng)域,采用中圖VT6000系列共聚焦顯微鏡更加匹配,其遠(yuǎn)勝于光學(xué)3D表面輪廓儀的大角度測(cè)量能力和超景深觀察功能,能夠輕松勝任磨損較為嚴(yán)重的表面形貌檢測(cè),從而幫助研究人員更加精準(zhǔn)的掌握磨損量評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)。
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  • 先進(jìn)封裝廠關(guān)于Bump尺寸的管控2023-09-06 14:26

    BumpMetrologysystem—BOKI_1000在半導(dǎo)體行業(yè)中,Bump、RDL、TSV、Wafer合稱(chēng)先進(jìn)封裝的四要素,其中Bump起著界面互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用。Bump是一種金屬凸點(diǎn),從倒裝焊FlipChip出現(xiàn)就開(kāi)始普遍應(yīng)用,Bump的形狀有多種,常見(jiàn)的為球狀和柱狀,也有塊狀等其他形狀,下圖所示為各種類(lèi)型的Bump。Bump起著界面之間的電氣互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用,從Bondwire
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