本文展示了一種使用連續(xù)濕法化學(xué)表面活化(即SPM→RCAl清洗)結(jié)合硅和石英玻璃晶片的鍵合方法。經(jīng)過(guò)200 ℃的多步后退火，獲得了無(wú)空洞或微裂紋的牢固結(jié)合，基于詳細(xì)的表面和鍵合界面表征，建立
2022-05-13 16:08:32
2356 
在整個(gè)晶圓加工過(guò)程中，仔細(xì)維護(hù)清潔的晶圓表面對(duì)于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此，濕式化學(xué)清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940 
本實(shí)用新型涉及云計(jì)算機(jī)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種新型云計(jì)算機(jī)設(shè)備。背景技術(shù)：云計(jì)算是基于互聯(lián)網(wǎng)的相關(guān)服務(wù)的增加、使用和交互模式，通常涉及通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)來(lái)提供動(dòng)態(tài)易擴(kuò)展且經(jīng)常是虛擬化的資源。通過(guò)云計(jì)算
2021-09-02 07:19:26
一種新型光纖位移傳感器的設(shè)計(jì)
2012-08-14 23:19:19
一種新型單相脈沖整流器
2012-08-20 17:00:38
一種新型多協(xié)作中繼選擇協(xié)議研究
2012-08-06 13:35:31
請(qǐng)求大佬詳細(xì)介紹一下一種新型微弱激光檢測(cè)系統(tǒng)
2021-04-21 06:19:40
一種新型的電梯門(mén)機(jī)控制系統(tǒng)電梯的開(kāi)關(guān)門(mén)過(guò)程是一個(gè)變速運(yùn)動(dòng)過(guò)程 ,需要對(duì)電梯門(mén)系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)進(jìn)行調(diào)速控制；本文提出了一種以高性能單片微機(jī)87C196MC 為核心的電梯門(mén)機(jī)變頻調(diào)速控制系統(tǒng)，功率驅(qū)動(dòng)電路
2009-10-06 08:59:56
一種新型的矩陣鍵盤(pán)掃描方式
2016-10-09 21:37:27
波長(zhǎng)選擇開(kāi)關(guān)(WSS)被認(rèn)為是最重要的波長(zhǎng)引擎技術(shù),已成為運(yùn)營(yíng)商在下一代網(wǎng)絡(luò)部署中的關(guān)鍵器件。提出了一種新型的波長(zhǎng)選擇開(kāi)關(guān)結(jié)構(gòu),用基于一維的微電機(jī)系統(tǒng)(MEMS)轉(zhuǎn)鏡實(shí)現(xiàn)切換的功能和透射式MEMS
2010-06-02 10:05:15
一種新穎的ＺＶＺＣＳＰＷＭ全橋變換器
2012-04-08 12:46:49
新型銅互連方法—電化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究進(jìn)展多孔低介電常數(shù)的介質(zhì)引入硅半導(dǎo)體器件給傳統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械拋光（ＣＭＰ）技術(shù)帶來(lái)了巨大的挑戰(zhàn)，低ｋ 介質(zhì)的脆弱性難以承受傳統(tǒng)ＣＭＰ 技術(shù)所施加的機(jī)械力。一種結(jié)合了
2009-10-06 10:08:07
新型非聯(lián)網(wǎng)2.4GHz技術(shù)為什么會(huì)是一種理想的選擇？
2021-05-28 06:15:05
LabVIEW開(kāi)發(fā)新型電化學(xué)性能測(cè)試設(shè)備
開(kāi)發(fā)了一種基于Arduino和LabVIEW的新型電化學(xué)性能測(cè)試裝置，專(zhuān)門(mén)用于實(shí)驗(yàn)電池，特別是在鋰硫（Li-S）技術(shù)領(lǐng)域的評(píng)估。這種裝置結(jié)合了簡(jiǎn)單、靈活
2023-12-10 21:00:05
1、全自動(dòng)化的在線(xiàn)式清洗機(jī) 一種全自動(dòng)化的在線(xiàn)式清洗機(jī)，該清洗機(jī)針對(duì)SMT/THT的PCBA焊接后表面殘留的松香助焊劑、水溶性助焊劑、免清洗性助焊劑/焊膏等有機(jī)、無(wú)機(jī)污染物進(jìn)行徹底有效的清洗
2021-02-05 15:27:50
不足之處在于廢液和廢水處理是一個(gè)較為復(fù)雜和尚待徹底解決的問(wèn)題?！ ?、免清洗技術(shù) 在焊接過(guò)程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏，焊接后直接進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種替代技術(shù)，尤其是
2018-09-14 16:39:40
抄板之免清洗技術(shù) 在焊接過(guò)程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏，焊接后直接進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種替代技術(shù)，尤其是移動(dòng)通信產(chǎn)品基本上都是采用免洗方法來(lái)替代ODS.目前國(guó)內(nèi)
2018-09-13 15:47:25
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-9 08:22 編輯
1、免清洗技術(shù) 在焊接過(guò)程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏，焊接后直接進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種
2012-07-23 20:41:56
定義的CSP分類(lèi)中。晶片級(jí)CSP是多種應(yīng)用的一種低成本選擇,這些應(yīng)用包括EEPROM等引腳數(shù)量較少的器件，以及ASIC和微處理器。CSP采用晶片級(jí)封裝(WLP)工藝加工，WLP的主要優(yōu)點(diǎn)是所有裝配
2018-08-27 15:45:31
什么是綠色無(wú)線(xiàn)通信的新型基站架構(gòu)？基于軟件無(wú)線(xiàn)電技術(shù)的新型基站架構(gòu)是怎樣設(shè)計(jì)的？
2021-05-27 06:27:18
分享一種Bluetooth 2.1+EDR版本的藍(lán)牙技術(shù)
2021-05-26 06:45:04
分享一種CameraCube新型圖像傳感技術(shù)
2021-06-08 09:29:49
本文根據(jù)國(guó)內(nèi)外線(xiàn)纜測(cè)試技術(shù)的發(fā)展及生產(chǎn)企業(yè)的實(shí)際要求，設(shè)計(jì)了一種新型便攜式線(xiàn)纜組快速測(cè)試系統(tǒng)。該測(cè)試系統(tǒng)采用兩塊CPLD 用于接口電路，從而實(shí)現(xiàn)多組線(xiàn)纜（內(nèi)有多條導(dǎo)線(xiàn)）同時(shí)測(cè)試，檢測(cè)線(xiàn)纜的通斷、短路和錯(cuò)接情況，進(jìn)而達(dá)到快速檢測(cè)線(xiàn)纜連通性能的目的。
2021-05-08 06:04:28
有機(jī)物光纖的特點(diǎn)是什么？一種新型有機(jī)物光纖的全光交換系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
2021-06-03 06:45:33
新型車(chē)載影音系統(tǒng)的工作原理是什么？如何去設(shè)計(jì)一種新型車(chē)載影音系統(tǒng)？
2021-05-12 06:46:11
為什么要提出一種新型AC-PDP驅(qū)動(dòng)電路？新型AC-PDP驅(qū)動(dòng)電路的設(shè)計(jì)思想及其計(jì)算機(jī)仿真新型AC-PDP驅(qū)動(dòng)電路的具體實(shí)現(xiàn)
2021-04-21 07:00:47
本文重點(diǎn)剖析了全橋模擬型D類(lèi)功放設(shè)計(jì)要素，實(shí)現(xiàn)了一種基于NXP公司新型綠色能效模擬D類(lèi)功放TFA9810T電路設(shè)計(jì)，并重點(diǎn)對(duì)綠色節(jié)能高效、高輸出功率、低溫升效應(yīng)、PCB布局、EMI抑制幾個(gè)方面進(jìn)行總結(jié)分析。
2021-04-22 06:20:52
在深亞微米工藝條件下設(shè)計(jì)了一種新型電流靈敏放大器，該電流靈敏放大器的優(yōu)勢(shì)在于響應(yīng)速度快，并且可以在較低電源電壓和惡劣環(huán)境下正常工作。
2021-04-20 06:08:25
在本設(shè)計(jì)中，設(shè)計(jì)了一種新型的應(yīng)用pin diodes的射頻開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換電路，實(shí)現(xiàn)的功能是4路RF輸入信號(hào)選擇其中任意2路RF信號(hào)輸出。
2021-06-04 06:55:00
什么是DPGA（數(shù)字可編程增益放大器）？如何設(shè)計(jì)一種采用發(fā)散指數(shù)曲線(xiàn)理念的新型DPGA？
2021-04-23 07:05:37
接近傳感器是如何定義的？接近傳感器有哪些應(yīng)用？接近傳感器的一種新型應(yīng)用是什么？
2021-06-16 07:37:50
本文根據(jù)國(guó)內(nèi)外線(xiàn)纜測(cè)試技術(shù)的發(fā)展及生產(chǎn)企業(yè)的實(shí)際要求，設(shè)計(jì)了一種新型便攜式線(xiàn)纜組快速測(cè)試系統(tǒng)。該測(cè)試系統(tǒng)采用兩塊CPLD 用于接口電路，從而實(shí)現(xiàn)多組線(xiàn)纜（內(nèi)有多條導(dǎo)線(xiàn)）同時(shí)測(cè)試，檢測(cè)線(xiàn)纜的通斷、短路和錯(cuò)接情況，進(jìn)而達(dá)到快速檢測(cè)線(xiàn)纜連通性能的目的。
2021-05-14 06:19:16
根據(jù)供電企業(yè)的實(shí)際需要，采用無(wú)線(xiàn)技術(shù)設(shè)計(jì)了一種新型電纜接頭溫度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)終端。
2021-04-09 06:05:47
本文介紹了一種新型UHF頻段RFID讀寫(xiě)器設(shè)計(jì)方案。
2021-06-01 06:33:21
基于FPGA的新型數(shù)字微鏡芯片測(cè)試系統(tǒng)是由哪些部分組成的？怎樣去設(shè)計(jì)一種基于FPGA的新型數(shù)字微鏡芯片測(cè)試系統(tǒng)？
2021-11-10 06:05:57
怎樣去設(shè)計(jì)一種基于STM32的負(fù)壓式玻璃清洗機(jī)器人呢？有哪些操作流程？
2021-10-14 08:47:00
怎樣去設(shè)計(jì)一種基于電磁感應(yīng)定律的化學(xué)污水流量計(jì)選擇電路呢？其有哪些功能？
2021-11-10 07:21:00
的保潔維護(hù)。由停電作業(yè)轉(zhuǎn)變?yōu)閹щ娋S護(hù)，是對(duì)全社會(huì)設(shè)備維護(hù)技術(shù)的一次革新，是對(duì)社會(huì)發(fā)展和文明進(jìn)步的積極貢獻(xiàn)。傳統(tǒng)清洗維護(hù)傳統(tǒng)的清洗維護(hù)方法相當(dāng)落后：用“皮老虎”吹拂，用小毛刷撣刷，用酒精棉球擦拭等等，效率
2020-09-10 08:45:55
求一種新型WCDMA直放站PA的設(shè)計(jì)方案
2021-05-26 06:14:52
求一種新型低溫科里奧利質(zhì)量流量計(jì)
2021-05-06 06:56:40
請(qǐng)求大佬分享一種新型光電定向系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
2021-04-22 06:16:37
求一種新型系統(tǒng)級(jí)可編程芯片的設(shè)計(jì)方案
2021-05-06 07:44:32
求一種DSP+CPLD新型的智能儀器的設(shè)計(jì)方案
2021-05-08 07:54:25
求一種可以讓汽車(chē)中電容傳感器的應(yīng)用數(shù)量大幅增長(zhǎng)的新型測(cè)量技術(shù)？
2021-05-11 07:04:26
本文以傳統(tǒng)的電磁式系統(tǒng)為基礎(chǔ)，研制一種使用紅外輻射技術(shù)的新型轉(zhuǎn)速測(cè)量?jī)x，安裝方便，對(duì)周?chē)h(huán)境要求不高，可以很容易地完成轉(zhuǎn)速的測(cè)量。具有較寬的動(dòng)態(tài)測(cè)量范圍，測(cè)量精度較高。
2021-05-08 06:46:34
進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種替換技術(shù)，尤其是移動(dòng)通訊產(chǎn)品基本上都是采用免洗方法來(lái)替換ODS。目前海內(nèi)外已經(jīng)開(kāi)發(fā)出良多種免洗焊劑，海內(nèi)如北京晶英公司的免清洗焊劑。免清洗焊劑大致
2018-09-13 15:50:54
怎么設(shè)計(jì)一種新型射頻開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換電路？射頻開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換電路設(shè)計(jì)步驟有哪些？
2021-04-21 07:06:21
怎樣去設(shè)計(jì)一種全高清H264視頻硬解碼系統(tǒng)？如何對(duì)全高清H264視頻硬解碼系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)試？
2021-06-01 07:12:58
怎樣去設(shè)計(jì)一種新型寬帶圓極化微帶天線(xiàn)？
2021-05-31 06:10:06
為什么要設(shè)計(jì)一種新型電壓基準(zhǔn)電路？怎樣去設(shè)計(jì)一種新型電壓基準(zhǔn)電路？
2021-04-22 06:37:20
為什么要提出一種基于AVR的新型防汽車(chē)追尾安全裝置設(shè)計(jì)？怎樣去設(shè)計(jì)一種新型防汽車(chē)追尾安全裝置？
2021-05-12 06:02:32
ADXL202工作原理是什么？ADXL202的抗干擾設(shè)計(jì)思想是什么？車(chē)載電子羅盤(pán)中的一種新型抗干擾設(shè)計(jì)
2021-05-13 07:01:36
研究人員開(kāi)發(fā)了一種新型的無(wú)線(xiàn)充電發(fā)射器，它可以以90% 的高效率在近距離為多個(gè)設(shè)備充電。無(wú)線(xiàn)充電技術(shù)不再依賴(lài)于插頭、插座和充電板來(lái)充電，使得人們的生活更加輕松。世界各地的研究人員都在嘗試制造真正
2022-03-03 11:10:26
敘述了凝汽器銅管化學(xué)清洗的優(yōu)點(diǎn)和在清洗過(guò)程中必須注意的幾個(gè)問(wèn)題，并且用實(shí)例進(jìn)一步說(shuō)明化學(xué)清洗還能夠有效防止凝汽器銅管的腐蝕。
2010-02-03 11:43:55
8 本發(fā)明的工藝一般涉及到半導(dǎo)體晶片的清洗。更確切地說(shuō)，本發(fā)明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機(jī)殘留物、金屬雜質(zhì)和其它特定的沾污物的清洗處理步驟的順序。 集成電路制造中所用的半導(dǎo)體晶片
2020-12-29 14:45:211999 近日，中國(guó)科學(xué)院微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所第八研究室宓現(xiàn)強(qiáng)課題組通過(guò)同時(shí)引入電化學(xué)生物傳感器、DNA四面體探針和微流控芯片，開(kāi)發(fā)了一種新型的微流控-電化學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)
2021-05-30 08:58:412748 
一種新型的多智能體深度強(qiáng)化學(xué)習(xí)算法
2021-06-23 10:42:4736 [技術(shù)領(lǐng)域] 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體地說(shuō)是一種酸性化學(xué)品供應(yīng)控制系 統(tǒng)。 由于半導(dǎo)體行業(yè)中芯片生產(chǎn)線(xiàn)的工作對(duì)象是硅晶片，而能在硅晶片上蝕刻圖形 以及清洗硅晶片上的雜質(zhì)、微粒子的化學(xué)
2023-04-20 13:57:0074 索引術(shù)語(yǔ)—清洗、化學(xué)機(jī)械拋光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氫。 摘要 本文為后化學(xué)機(jī)械拋光工藝開(kāi)發(fā)了新型清洗液，在稀釋的氫氧化銨(NH4OH+H2O)堿性水溶液中加入表面活性劑四甲基氫氧化銨
2022-01-26 17:21:18550 
半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過(guò)使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來(lái)去除晶片上的顆?；蛉毕荨U(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉(zhuǎn)擦洗之前有預(yù)清潔作為濕法清潔/蝕刻
2022-02-22 13:47:511696 
和極低溫的關(guān)于向粒子噴射氮?dú)馊苣z等“清洗能力相關(guān)技術(shù)”進(jìn)行了大量研究;另一方面，關(guān)于通過(guò)清洗暫時(shí)遠(yuǎn)離晶片的粒子，重新附著到晶片上，進(jìn)行葉片式清洗，在干燥時(shí)晶片和保持晶片的轉(zhuǎn)盤(pán)高速旋轉(zhuǎn)。
2022-02-22 16:01:08904 
清洗都是開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體電子器件的首要和基本步驟。清洗過(guò)程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學(xué)物質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。 介紹 半導(dǎo)體是一種固體物質(zhì)，其導(dǎo)電性介于絕緣體和導(dǎo)體之間。半導(dǎo)體材料的定義性質(zhì)是，它可以摻雜
2022-02-23 17:44:201426 摘要 該公司提供了一種用于清洗半導(dǎo)體晶片的方法和設(shè)備 100，該方法和方法包括通過(guò)從裝載端口 110 中的盒中取出兩個(gè)或多個(gè)晶片來(lái)填充化學(xué)溶液的第一罐將晶片放入。將晶片放入裝滿(mǎn)液體的第一槽(137
2022-02-28 14:56:03927 
摘要 研究了泵送方法對(duì)晶片清洗的影響。兩種類(lèi)型的泵，例如隔膜泵和離心泵，用于在濕浴和單晶片工具中循環(huán)和供應(yīng)用于晶片清潔的去離子水。清洗研究表明，泵送方法對(duì)清洗性能有很大影響。實(shí)驗(yàn)研究表明，在 MLC
2022-03-02 13:56:46521 
摘要 本文介紹了半導(dǎo)體晶片加工中為顆粒去除(清洗)工藝評(píng)估而制備的受污染測(cè)試晶片老化的實(shí)驗(yàn)研究。比較了兩種晶片制備技術(shù):一種是傳統(tǒng)的濕法技術(shù)，其中裸露的硅晶片浸泡在充滿(mǎn)顆粒的溶液中，然后干燥；另一種
2022-03-04 15:03:502588 
殘留物由不同量的聚乙二醇或礦物油(切削液)、鐵和銅的氧化物、碳化硅和研磨硅，這些殘留物可以通過(guò)鋸切過(guò)程中產(chǎn)生的摩擦熱燒到晶片表面，為了去除這些殘留物，需要選擇正確的化學(xué)物質(zhì)來(lái)補(bǔ)充所使用的設(shè)備。 在晶片清洗并給予
2022-03-15 16:25:37320 
本文介紹了新興的全化學(xué)晶片清洗技術(shù)，研究它們提供更低的水和化學(xué)消耗的能力，提供了每種技術(shù)的工藝應(yīng)用、清潔機(jī)制、工藝效益和考慮因素、環(huán)境、安全和健康(ESH)效益和考慮因素、技術(shù)狀態(tài)和供應(yīng)商信息的可用信息。
2022-03-16 15:24:57308 
單片SPM系統(tǒng)使用了大量的化學(xué)物質(zhì)，同時(shí)滿(mǎn)足28nm以下的清潔規(guī)格。 本文描述了在集成系統(tǒng)Ultra-C Tahoe中使用批量SPM系統(tǒng)和單晶片清洗，結(jié)果達(dá)到了技術(shù)規(guī)范，使用了不到單晶片系統(tǒng)中使用的80%的SPM化學(xué)物質(zhì)。
2022-04-01 14:22:551155 
在許多半導(dǎo)體器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半導(dǎo)體材料。 在半導(dǎo)體器件制造中，各種加工步驟可分為四大類(lèi)，即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。 在每一步中，晶片清洗都是開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體電子器件的首要和基本步驟。 清洗過(guò)程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學(xué)物質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。
2022-04-01 14:25:332948 
法與添加臭氧的超純水相結(jié)合的新清洗法，與以往的方法相比，具有更好的清洗能力，在抑制自然氧化膜生成的同時(shí)，可以在短時(shí)間內(nèi)完全除去晶片表面的有機(jī)物。
2022-04-13 15:25:211593 
本文利用CZ、FZ和EPI晶片，研究了濕式化學(xué)清洗過(guò)程對(duì)硅晶片表面微粒度的影響。結(jié)果表明，表面微粗糙度影響了氧化物的介電斷裂~特性：隨著硅基底的微粗糙度的增加，氧化物的微電擊穿會(huì)降解。利用
2022-04-14 13:57:20459 
本發(fā)明公開(kāi)了一種用濕式均勻清洗半導(dǎo)體晶片的方法,所公開(kāi)的本發(fā)明的特點(diǎn)是:具備半導(dǎo)體晶片和含有預(yù)定清潔液的清潔組、對(duì)齊上述半導(dǎo)體晶片的平坦區(qū)域，使其不與上述清潔組的入口相對(duì)、將上述對(duì)齊的半導(dǎo)體晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604 本文的目標(biāo)是討論一種新技術(shù)，它可以在保持競(jìng)爭(zhēng)力的首席運(yùn)營(yíng)官的同時(shí)改善權(quán)衡。 將開(kāi)發(fā)濕化學(xué)抗蝕劑去除溶液的能力與對(duì)工藝和工具要求的理解相結(jié)合，導(dǎo)致了用于光刻膠去除的單晶片清洗技術(shù)的發(fā)展。 該技術(shù)針對(duì)
2022-05-07 15:11:11621 
引言 描述了溢流晶片清洗工藝中的流場(chǎng)。該信息被用于一項(xiàng)倡議，其主要目的是減少晶片清洗中的用水量。使用有限元數(shù)值技術(shù)計(jì)算速度場(chǎng)。大部分的水無(wú)助于晶片清洗。 介紹 清洗步驟占工廠(chǎng)中使用的ulaa純水
2022-06-06 17:24:461044 
表面和亞微米深溝槽的清洗在半導(dǎo)體制造中是一個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。在這項(xiàng)工作中，使用物理數(shù)值模擬研究了使用脈動(dòng)流清洗毯式和圖案化晶片。毯式晶片清洗工藝的初步結(jié)果與文獻(xiàn)中的數(shù)值和實(shí)驗(yàn)結(jié)果吻合良好。毯式和圖案化晶片的初步結(jié)果表明，振蕩流清洗比穩(wěn)定流清洗更有效，并且振蕩流的最佳頻率是溝槽尺寸的函數(shù)。
2022-06-07 15:51:37291 
華林科納使用多步清洗工藝清洗晶片的半導(dǎo)體襯底表面，其中清洗工藝的最后一步包括用HMSO和HCO的溶液清洗，由此在晶片表面上形成化學(xué)氧化物初始層。此后，晶片的表面被氧化以形成熱氧化層，其中在集成電路的制造中，化學(xué)氧化
2022-06-17 17:20:40783 
本文講述了我們?nèi)A林科納的一種在單個(gè)晶圓清洗工藝中使用新型清洗溶液的方法，該方法涉及在單一晶片模式下使用清洗溶液，并且清洗溶液包括至少包括氫氧化銨（NH-OH）、過(guò)氧化氫(HO)、水(HO)和螯合劑
2022-06-30 17:22:112101 
雖然聽(tīng)起來(lái)可能沒(méi)有極紫外(EUV)光刻那么性感，但對(duì)于確保成功的前沿節(jié)點(diǎn)、先進(jìn)半導(dǎo)體器件制造，濕法晶片清洗技術(shù)可能比EUV更重要，這是因?yàn)槠骷目煽啃院妥罱K產(chǎn)品的產(chǎn)量都與晶片的清潔度直接相關(guān)，因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">晶片要經(jīng)過(guò)數(shù)百個(gè)圖案化、蝕刻、沉積和互連工藝步驟。
2022-07-07 16:24:231578 
的實(shí)驗(yàn)和理論分析來(lái)建立晶片表面清潔技術(shù)。本文解釋了金屬和顆粒雜質(zhì)在硅片表面的粘附機(jī)理，并提出了一些清洗方法。 介紹 LSI(大規(guī)模集成電路)集成密度的增加對(duì)硅片質(zhì)量提出了更高的要求。更高質(zhì)量的晶片意味著晶體精度、成形質(zhì)量和
2022-07-11 15:55:451025 
在半導(dǎo)體和太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中，清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù)，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機(jī)械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液，會(huì)產(chǎn)生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問(wèn)題。
2023-06-02 13:33:211021 
激光清洗技術(shù)是激光技術(shù)在工程領(lǐng)域的一種成功應(yīng)用，其基本原理是利用激光能量密度高的特點(diǎn)，使激光與工件基底上附著的污染物相互作用，以瞬間受熱膨脹、熔化、氣體揮發(fā)等形式與工件基底分離。激光清洗技術(shù)具有高效
2023-10-29 08:07:49883 
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論