產(chǎn)品介紹：QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)亦稱多槽手動(dòng)超聲波清洗機(jī)，是根據(jù)不同客戶的使用要求設(shè)計(jì)生產(chǎn)的超聲波清洗設(shè)備。多槽超聲波清洗機(jī)主要由粗洗、精洗、漂洗、噴淋、烘干、酸洗等多個(gè)清洗槽等組成
2024-03-20 09:07:01
單槽超聲波清洗機(jī)產(chǎn)品介紹：QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)是由超聲波清洗槽、超聲波發(fā)生器等組成的清洗設(shè)備。此系列清洗機(jī)主要采用水基清洗液作為清洗溶劑。全一公司生產(chǎn)的通用QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)，采用全不
2024-03-13 13:22:48
單槽超聲波清洗機(jī)產(chǎn)品介紹：QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)是由超聲波清洗槽、超聲波發(fā)生器等組成的清洗設(shè)備。此系列清洗機(jī)主要采用水基清洗液作為清洗溶劑。全一公司生產(chǎn)的通用QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)，采用全不
2024-03-13 13:16:10
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產(chǎn)品介紹：全一電子超聲波發(fā)生器是一種將電能轉(zhuǎn)換成超聲波能，向超聲波換能器提供能量的轉(zhuǎn)換裝置，亦稱超聲波電源。產(chǎn)品特點(diǎn)：超聲波發(fā)生器功率輸出采用IGBT-IV逆變（IGBT逆變技術(shù)：是當(dāng)今世界最先
2024-03-12 08:50:56
超聲波清洗四大件：清洗機(jī)、發(fā)生器、換能器、清洗槽在超聲波清洗過程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。它們共同協(xié)作，將電能轉(zhuǎn)換為超聲波能，并通過清洗液的作用，實(shí)現(xiàn)對(duì)物品的高效、環(huán)保清洗。
2024-03-06 10:21:2874 
超聲波清洗機(jī)的三大清洗優(yōu)勢(shì)——高效清洗、節(jié)能環(huán)保和廣泛應(yīng)用，使得它在市場(chǎng)上備受追捧。隨著消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量和環(huán)保要求的不斷提高，超聲波清洗機(jī)有望在未來市場(chǎng)中占據(jù)更大的份額。同時(shí)，隨著技術(shù)的不斷創(chuàng)新和進(jìn)步，超聲波清洗機(jī)也將在清洗效率、環(huán)保性能、應(yīng)用領(lǐng)域等方面實(shí)現(xiàn)更大的突破和提升，
2024-03-05 11:15:0598 
效率和更好的清洗效果。
2. 環(huán)保性：超聲波清洗機(jī)在清洗過程中無需使用化學(xué)清洗劑，只需使用清水或少量專用清洗劑即可。這大大降低了清洗過程對(duì)環(huán)境的污染，符合現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)對(duì)環(huán)保的要求。
3. 適用性
2024-03-04 09:45:59128 
SMT貼片加工焊接后的清洗方法有多種，以下是一些常見的清洗方法： 1.化學(xué)清洗：使用有機(jī)溶劑如酒精、異丙醇或特定清洗劑，通過浸泡或手動(dòng)清洗電路板。用于去除松香助焊劑殘留物等。溶劑清洗需要在通風(fēng)
2024-02-28 14:16:14124 二氧化碳雪清洗作為一種新型的清洗方法，在芯片制造領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。通過將高壓液態(tài)二氧化碳釋放，得到微米級(jí)固相二氧化碳顆粒，并與高壓氣體混合形成動(dòng)能，可以有效地沖擊晶粒表面，去除微米級(jí)和亞微米
2024-02-27 12:14:4693 
PCB（Printed Circuit Board，印刷電路板）焊接后需要進(jìn)行清洗，以去除殘留的焊膏、通孔內(nèi)的雜質(zhì)、金屬離子等，確保電路板表面干凈，并提高電路板的可靠性和性能。以下是一般的 PCB
2024-02-27 11:04:26141 
超聲波清洗機(jī)是一種利用超聲波能量來清洗物品的設(shè)備，其清洗效果顯著，廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域。本文將解密超聲波清洗機(jī)的清洗原理、特點(diǎn)與用途，幫助大家更好地了解這一設(shè)備。
2024-02-26 14:43:11127 TI品牌ADS5474IPFP：宇航級(jí)14位400MSPS模數(shù)轉(zhuǎn)換器的技術(shù)詳解在數(shù)字化世界的浪潮中，模數(shù)轉(zhuǎn)換器（ADC）發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。作為將模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)的關(guān)鍵組件，ADC的性能直接
2024-02-16 15:47:11
隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展，半導(dǎo)體材料在電子工業(yè)中的地位日益凸顯。其中，碳化硅（SiC）因其出色的物理和化學(xué)性質(zhì)，在高溫、高頻、大功率電子器件領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。SiC晶片作為SiC器件
2024-02-05 09:37:27522 
鹽霧試驗(yàn)機(jī)清洗應(yīng)該包括三個(gè)部分：一、箱體外殼和裸露部分；二、內(nèi)箱、鹽水箱、飽和桶、水密封是重要部位；三、電器元器件，比較少見，與維修結(jié)合在一塊，相當(dāng)于小系統(tǒng)的清洗，屬于比較大的“手術(shù)”。關(guān)于
2024-01-26 10:52:5499 
為實(shí)現(xiàn)碳化硅晶片的高效低損傷拋光，提高碳化硅拋光的成品率，降低加工成本，對(duì)現(xiàn)有的碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光 技術(shù)進(jìn)行了總結(jié)和研究。針對(duì)碳化硅典型的晶型結(jié)構(gòu)及其微觀晶格結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，簡(jiǎn)述了化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)對(duì)碳化硅
2024-01-24 09:16:36431 
近年來，國(guó)內(nèi)某知名芯片大廠成功突破了海外對(duì)中國(guó)的芯片制造壟斷，為行業(yè)注入了強(qiáng)大的創(chuàng)新動(dòng)力。其中，克勞斯二氧化碳雪清洗技術(shù)的成功研發(fā)成果，為知名芯片大廠的產(chǎn)品制造提供了重要的助力。在封裝
2024-01-16 14:06:46122 
根據(jù)清洗介質(zhì)的不同，目前半導(dǎo)體清洗技術(shù)主要分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線
2024-01-12 23:14:23769 
激光清洗是一種新型的清洗方式，它利用激光的能量來清除物體表面的污垢、塵埃和附著物。相比傳統(tǒng)的清洗方式，激光清洗具有更高的清洗效率和更低的成本，同時(shí)對(duì)物體表面不會(huì)造成損傷，因此被廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域
2024-01-02 18:33:33302 
進(jìn)行全方位徹底的清潔，但超聲波清洗機(jī)是如何工作的呢？ ? 超聲波清洗機(jī)的發(fā)展歷史 ? 超聲波清洗機(jī)的發(fā)展歷史可以追溯到20世紀(jì)初，自1880年居里兄弟發(fā)現(xiàn)壓電效應(yīng)以來，壓電學(xué)成為現(xiàn)代科學(xué)與技術(shù)的一個(gè)重要領(lǐng)域。然而，壓電換
2023-12-30 00:09:001878 制造過程中，清洗是一個(gè)必不可少的環(huán)節(jié)。這是因?yàn)榘雽?dǎo)體材料表面往往存在雜質(zhì)和污染物，這些雜質(zhì)和污染物會(huì)嚴(yán)重影響半導(dǎo)體的性能和可靠性。半導(dǎo)體清洗機(jī)通過采用先進(jìn)的清洗技術(shù)，如超聲波清洗、化學(xué)清洗等，能夠有效地去除半導(dǎo)體表
2023-12-26 13:51:35255 
為了保證PCBA的高可靠性、電器性能穩(wěn)定性和使用的壽命，提升PCBA組件質(zhì)量及成品率，避免污染物污染及因此產(chǎn)生的電遷移，電化學(xué)腐蝕而造成電路失效。需要對(duì)PCBA焊接工藝后的錫膏殘留、助焊劑殘留、油污
2023-12-24 11:22:08
超聲波清洗機(jī)用于實(shí)驗(yàn)室清洗玻璃器皿、燒杯試管等。與人工清洗相比，超聲波清洗機(jī)具有批量清洗等獨(dú)特優(yōu)勢(shì)，可以清洗燒杯試管內(nèi)表面的污垢，也可用于混合提取等應(yīng)用，因此在實(shí)驗(yàn)室中得到廣泛應(yīng)用。因此，它也被稱為實(shí)驗(yàn)室超聲波清洗機(jī)。
2023-12-24 11:01:29622 
歡迎了解 1 引言 半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步大大提高了芯片晶體管數(shù)量和功能, 這一集成規(guī)模在幾年前是無法想象的。因此, 如果沒有 IC 封裝技術(shù)快速的發(fā)展, 不可能實(shí)現(xiàn)便攜式電子產(chǎn)品的設(shè)計(jì)。在消費(fèi)類
2023-12-14 17:03:21201 
碳化硅晶片薄化技術(shù)，碳化硅斷裂韌性較低，在薄化過程中易開裂，導(dǎo)致碳化硅晶片的減薄非常困難。碳化硅切片的薄化主要通過磨削與研磨實(shí)現(xiàn)。
2023-12-12 12:29:24189 
LabVIEW開發(fā)新型電化學(xué)性能測(cè)試設(shè)備
開發(fā)了一種基于Arduino和LabVIEW的新型電化學(xué)性能測(cè)試裝置，專門用于實(shí)驗(yàn)電池，特別是在鋰硫（Li-S）技術(shù)領(lǐng)域的評(píng)估。這種裝置結(jié)合了簡(jiǎn)單、靈活
2023-12-10 21:00:05
詳解時(shí)域瞬態(tài)分析技術(shù)
2023-12-07 14:45:01216 
半導(dǎo)體制造業(yè)依賴復(fù)雜而精確的工藝來制造我們需要的電子元件。其中一個(gè)過程是晶圓清洗，這個(gè)是去除硅晶圓表面不需要的顆粒或殘留物的過程，否則可能會(huì)損害產(chǎn)品質(zhì)量或可靠性。RCA清洗技術(shù)能有效去除硅晶圓表面的有機(jī)和無機(jī)污染物，是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的晶圓清洗工藝。
2023-12-07 13:19:14235 隨著技術(shù)的不斷變化和器件尺寸的不斷縮小，清潔過程變得越來越復(fù)雜。每次清洗不僅要對(duì)晶圓進(jìn)行清洗，所使用的機(jī)器和設(shè)備也必須進(jìn)行清洗。晶圓污染物的范圍包括直徑范圍為0.1至20微米的顆粒、有機(jī)和無機(jī)污染物以及雜質(zhì)。
2023-12-06 17:19:58562 
，從而達(dá)到潔凈的工藝過程。它是基于激光與物質(zhì)相互作用效應(yīng)的一項(xiàng)新技術(shù)，與傳統(tǒng)的機(jī)械清洗法、化學(xué)腐蝕清洗、液體固體強(qiáng)力沖擊清洗、高頻超聲清洗等傳統(tǒng)清洗方法相比，有明顯的
2023-12-06 10:58:54
我們知道目前市面上按助焊劑的不同分為三種錫膏：松香型錫膏、水洗型錫膏、免洗型錫膏，在無鉛錫膏中，無鉛免清洗錫膏是許多廠的技術(shù)人員比較鐘愛的。那么這種無鉛免清洗錫膏有什么特性呢?下面由深圳
2023-12-02 17:54:17211 
助焊劑是焊接過程中不可缺少的一種物質(zhì)，它的作用是去除焊接部位的氧化物，增加焊點(diǎn)的潤(rùn)濕性，提高焊接質(zhì)量和可靠性。助焊劑分為有機(jī)助焊劑和無機(jī)助焊劑，根據(jù)是否需要清洗，又可以分為可清洗助焊劑和免洗助焊劑。
2023-11-22 13:05:32383 
介紹常見的PCBA清洗方案
2023-11-17 13:08:51415 助焊劑活躍，化學(xué)清洗行動(dòng)開始，水溶性助焊劑和免洗型助焊劑都會(huì)發(fā)生同樣的清洗行動(dòng)，只不過溫度稍微不同。將金屬氧化物和某些污染從即將結(jié)合的金屬和焊錫顆粒上清除。好的冶金學(xué)上的錫焊點(diǎn)要求“清潔”的表面。
2023-11-03 15:13:06204 水清洗技術(shù)是今后清洗技術(shù)的發(fā)展方向，須設(shè)置純清水源和排放水處理車間。它以水作為清洗介質(zhì)，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑。可以除去水溶劑和非極性污染物。
2023-11-02 15:01:44186 銳族手持式激光除銹機(jī)具有無研磨、非接觸特點(diǎn)，不但可以用來清洗有機(jī)的污染物，也可以用來清洗無機(jī)物，包括金屬的輕度銹蝕、金屬微粒、灰塵等，應(yīng)用功效包括：除銹、脫漆、去油污、文物修復(fù)、除膠、去涂層、去鍍層
2023-10-31 10:39:49
、環(huán)保、節(jié)能等特點(diǎn)，已成功應(yīng)用于輪胎模具清洗、飛機(jī)機(jī)體除漆、文物修復(fù)等領(lǐng)域。傳統(tǒng)清洗技術(shù)包括機(jī)械摩擦清洗（噴砂清洗、高壓水槍清洗等）、化學(xué)腐蝕清洗、超聲波清洗、干
2023-10-29 08:07:49883 
電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解
2023-10-27 15:28:22373 
電阻器是電子電路中常見的被動(dòng)元件，用于限制電流、調(diào)整電壓和執(zhí)行其他電阻性功能。在電阻器的制造中，有兩種常見的類型：厚膜晶片電阻和薄膜晶片電阻。這兩種類型的電阻器在結(jié)構(gòu)、性能和應(yīng)用方面都有一些顯著的區(qū)別。本文將介紹厚膜晶片電阻和薄膜晶片電阻的區(qū)別，以幫助讀者更好地理解它們的特性和用途。
2023-10-23 09:00:17840 
等離子體工藝是干法清洗應(yīng)用中的重要部分，隨著微電子技術(shù)的發(fā)展，等離子體清洗的優(yōu)勢(shì)越來越明顯。文章介紹了等離子體清洗的特點(diǎn)和應(yīng)用，討論了它的清洗原理和優(yōu)化設(shè)計(jì)方法。最后分析了等離子體清洗工藝的關(guān)鍵技術(shù)及解決方法。
2023-10-18 17:42:36447 
隨著科技的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體技術(shù)在全球范圍內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體設(shè)備在制造過程中需要經(jīng)過多個(gè)工藝步驟，而每個(gè)步驟都需要使用到各種不同的材料和設(shè)備。其中，華林科納的PFA管在半導(dǎo)體清洗工藝中扮演著
2023-10-16 15:34:34258 的可靠性和品質(zhì)。清洗方法可以使用機(jī)械清洗、化學(xué)清洗或超聲波清洗等技術(shù)，具體選擇取決于PCB的特點(diǎn)和要求。清洗可以確保電路板上的元件和導(dǎo)線之間沒有任何污染物，以提高電路的可靠性和性能。 捷多邦小編還整理了一些清洗PCB板子的優(yōu)點(diǎn)： 去除污垢
2023-10-16 10:22:52215 服務(wù)內(nèi)容廣電計(jì)量是國(guó)內(nèi)鹽霧試驗(yàn)?zāi)芰^完善的權(quán)威檢測(cè)認(rèn)證服務(wù)機(jī)構(gòu)之一，為您提供專業(yè)的耐化學(xué)試劑試驗(yàn)和產(chǎn)品評(píng)價(jià)。服務(wù)范圍本商品可提供針對(duì)汽車零部件、電動(dòng)工具、家用電器、信息技術(shù)設(shè)備、醫(yī)療設(shè)備、電源設(shè)備
2023-09-21 16:55:57
BGA和CSP封裝技術(shù)詳解
2023-09-20 09:20:14951 
性能和速度上同時(shí)滿足了圓片圖形加工的要求。CMP 技術(shù)是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù) , 它借助超微粒子的研磨作用以及漿料的化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面上形成光潔平坦表面[2、3] 。CMP 技術(shù)對(duì)于
2023-09-19 07:23:03
多功能超聲波清洗振動(dòng)棒操作簡(jiǎn)單直觀，外殼簡(jiǎn)約時(shí)尚，多功能超聲波清洗振動(dòng)棒使清洗的物品28KHZ頻率的清洗，克服了清洗的死角。多功能超聲波清洗振動(dòng)棒穿透力較強(qiáng)，宜清洗表面形狀復(fù)雜或有盲孔的工件
2023-09-12 16:06:09247 
工業(yè)清洗用超聲波振動(dòng)棒具有高頻率、高振幅、高能量密度等特點(diǎn)，可以快速而徹底地清洗各種物體表面；清洗各種難以清洗的物體，如微小孔隙、細(xì)小縫隙等。工業(yè)清洗用超聲波振動(dòng)棒在清洗時(shí)不需要加熱，因此可以
2023-09-11 14:45:57261 
微弧氧化技術(shù)工藝流程
主要包含三部分：鋁基材料的前處理，微弧氧化，后處理三部分
其工藝流程如下：鋁基工件→化學(xué)除油→清洗→微弧氧化→清洗→后處理→成品檢驗(yàn)。
2023-09-01 10:50:341235 
新型大功率超聲波發(fā)生器電源為使超聲清洗設(shè)備射頻輸出功率最大,要求超聲換能器始終工作在諧振狀態(tài)下.新型大功率超聲波發(fā)生器電源采用頻率自動(dòng)跟蹤技術(shù),并引入數(shù)字鎖相環(huán)具體實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)頻率自動(dòng)跟蹤.仿真結(jié)果表明
2023-08-29 16:19:43355 什么是超聲波鏡頭清洗技術(shù)？
2023-08-24 15:34:09573 
早些時(shí)期半導(dǎo)體常使用濕式清洗除塵方法，濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學(xué)藥水來清洗除塵，優(yōu)點(diǎn)就是價(jià)格低廉，缺點(diǎn)是有時(shí)化學(xué)藥水或者超純水會(huì)把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進(jìn)步，人們對(duì)半導(dǎo)體的清洗除塵要求越來越高，不僅要保證產(chǎn)品的良率達(dá)到一定的標(biāo)準(zhǔn)，還需要清洗除塵的程度達(dá)到不錯(cuò)的水平
2023-08-22 10:54:45681 棒式超聲波清洗機(jī)清洗工具發(fā)出強(qiáng)烈的聚焦超聲波并輻射在待清洗的工件上，從而可以在待清洗工件周圍發(fā)生強(qiáng)烈的超聲空化作用，將工件上的盲孔和狹縫清洗干凈，清洗效率高。棒式超聲波清洗機(jī)克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足
2023-08-21 10:59:39320 
小型超聲波清洗棒產(chǎn)生強(qiáng)勁的空化超聲波沖擊波，輕松解決不易清洗、攪拌不均勻的缺點(diǎn)。小型超聲波清洗棒內(nèi)置多個(gè)超聲波清洗換能器，大功率的超聲波換能器能夠產(chǎn)生足夠大的超聲波功率，功率輸出穩(wěn)定均勻。 小型
2023-08-17 22:40:43274 
電路板沾污物的危害：顆粒性污染物——電短路。極性沾污物—介質(zhì)擊穿、漏電、元件/電路腐蝕。非極性沾污—影響外觀、白色粉點(diǎn)、粘附灰塵、電接觸不良。線路板的清洗方式： 普通清洗主要使用單個(gè)清洗槽，需要清洗的PCB放在清洗劑液體里浸泡清洗。
2023-08-17 15:29:371344 
實(shí)驗(yàn)室用大功率超聲清洗棒提供一種新型超聲波清洗儀，具備可對(duì)清洗溶劑進(jìn)行循環(huán)利用的優(yōu)點(diǎn)，解決了現(xiàn)有的超聲波清洗器不具備對(duì)清洗溶劑進(jìn)行循環(huán)使用的效果，造成了大量清洗溶劑的浪費(fèi)，大幅提高了清洗
2023-08-16 14:26:09258 
超聲振動(dòng)棒管道清洗的超聲振動(dòng)棒工具頭發(fā)射頭的前端緊貼在釜體外壁上或伸入釜體的釜腔內(nèi)，超聲波換能器可以對(duì)釜腔內(nèi)的化學(xué)反應(yīng)物發(fā)送超聲波，被處理的液體由于超聲波的空化作用可造成反應(yīng)體系活性的變化。 超聲
2023-08-16 10:16:59260 半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體製造過程中使用的設(shè)備。 化學(xué)溶液通過將晶片浸入化學(xué)溶液（蝕刻劑）中來選擇性地去除半導(dǎo)體晶片的特定層或區(qū)域，化學(xué)溶液溶解并去除晶片表面所需的材料。
2023-08-15 15:51:58319 . 數(shù)字PWM的新型超聲波清洗電源發(fā)生器主件上對(duì)應(yīng)設(shè)有靠近兩組主機(jī)左右兩側(cè)散熱網(wǎng)孔的散熱片,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是該新型一種基于芯片的超聲波清洗電源式的超聲波清洗電源,有防水,防塵,防潮以及節(jié)能的特點(diǎn),通過芯片控制器的輔助作用
2023-08-09 11:22:12318 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《STM32H7技術(shù)詳解.pdf》資料免費(fèi)下載
2023-08-01 14:49:06
2 隨著晶體管尺寸的不斷微縮，晶圓制造工藝日益復(fù)雜，對(duì)半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來越高。
2023-08-01 10:01:561639 
統(tǒng)清洗方式分為物理清洗和化學(xué)清洗，物理清洗一般用高壓水射流將設(shè)備上的垢清理出來；化學(xué)清洗多為酸洗，因?yàn)樗嵯葱枰獓?yán)格控制用量及清洗時(shí)間，如不嚴(yán)格控制，很容易對(duì)設(shè)備造成腐蝕，但是由于清洗是個(gè)動(dòng)態(tài)的不是
2023-07-31 16:03:57479 
手持式連續(xù)激光清洗機(jī)是表面清理的高科技產(chǎn)品，易于安裝、操控和實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。操作簡(jiǎn)單，接通電，打開設(shè)備，即可進(jìn)行無化學(xué)試劑、無介質(zhì)、無塵、無水的清洗，可自動(dòng)對(duì)焦，貼合曲面清洗，清洗表面潔凈度高等優(yōu)勢(shì)，能夠清洗物件表面樹脂、油污、污漬、污垢、銹蝕、涂層、鍍層、油漆。
2023-07-25 14:10:31
WAT技術(shù)詳解
2023-07-17 11:40:44628 
在本文中，將介紹超聲波鏡頭清洗 (ULC) 技術(shù)以及該項(xiàng)技術(shù)如何幫助實(shí)現(xiàn)自清洗攝像頭應(yīng)用。
2023-07-08 15:27:20335 
手持激光清洗機(jī) 金屬除銹除漆除氧化層 工業(yè)級(jí)激光清洗機(jī)工作原理 所謂激光清洗是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、銹斑或涂層發(fā)生瞬間蒸發(fā)或剝離，高速有效地清除清潔對(duì)象
2023-07-03 10:58:40
手持式激光清洗機(jī)可移動(dòng)便攜式工業(yè)激光清洗機(jī) 激光清洗除銹設(shè)備工作原理 所謂激光清洗除銹是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、銹斑或涂層發(fā)生瞬間蒸發(fā)或剝離，高速有效地清除
2023-07-03 10:46:30
? 摘? 要： ? 提高膠球清洗裝置的收球率可以提高膠球清洗裝置對(duì)凝汽器鈦管的清洗效率，進(jìn)而增強(qiáng)機(jī)組運(yùn)行的經(jīng)濟(jì)性。現(xiàn)通過對(duì)某電廠膠球清洗裝置中膠球的受力分析，找出了影響膠球清洗裝置收球率高低的具體
2023-06-30 15:01:10500 
/R-5000)
以上便是高品質(zhì)抗硫化汽車級(jí)晶片電阻器NS系列的相關(guān)介紹。阻容1號(hào)網(wǎng)站將繼續(xù)不斷更新文章，為廣大用戶提供最新的技術(shù)資訊和產(chǎn)品信息，幫助用戶了解和選擇最適合自己需求的元器件。
2023-06-10 11:11:56
PMT-2清洗劑液體顆粒計(jì)數(shù)器，采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃
2023-06-08 15:50:31
電化學(xué)清洗及電拋光和超聲波清洗方法。不僅需要拆卸鍍膜機(jī)內(nèi)零件，耗費(fèi)大量時(shí)間精力，同時(shí)拆裝過程也有不可避免的污染，而且需要消耗一定的清洗材料，尤其是清洗體積大的物件時(shí)，及其不便。
2023-06-08 14:35:37542 
超聲波清洗機(jī)是一種用超聲波振動(dòng)水和溶劑以清洗粘附在待清洗物體（工件）上的油污、粉塵、污垢等的技術(shù)
2023-06-07 09:43:501503 
清洗工藝先要評(píng)估PCBA組件,包含尺寸大小結(jié)構(gòu)特征、基本功能、電子元器件等部件材料、零部件特別要求及清洗設(shè)備與清洗要求的兼容性。幾何尺寸與結(jié)構(gòu)會(huì)影響清洗空間,從而影響助焊劑殘余物清洗難度;體積小
2023-06-06 14:58:57906 
硅的堿性刻蝕液：氫氧化鉀、氫氧化氨或四甲基羥胺（TMAH）溶液，晶片加工中，會(huì)用到強(qiáng)堿作表面腐蝕或減薄，器件生產(chǎn)中，則傾向于弱堿，如SC1清洗晶片或多晶硅表面顆粒，一部分機(jī)理是SC1中的NH4OH
2023-06-05 15:10:011597 在半導(dǎo)體和太陽能電池制造過程中，清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù)，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機(jī)械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液，會(huì)產(chǎn)生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問題。
2023-06-02 13:33:211021 
使用化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)方法對(duì)碳化硅晶片進(jìn)行了超精密拋光試驗(yàn)，探究了滴液速率、拋光頭轉(zhuǎn) 速、拋光壓力、拋光時(shí)長(zhǎng)及晶片吸附方式等工藝參數(shù)對(duì)晶片表面粗糙度的影響，并對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化，最終 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子級(jí)光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062215 
全自動(dòng)水清洗機(jī)工作方式:配比后的清洗液通過清洗腔內(nèi)噴嘴以一定的壓力和流量噴射在待洗的PCBA上,以軟化和沖刷PCBA表面的松香等助焊劑殘留液,然后通過去離子水對(duì)PCBA漂洗,最后對(duì)PCBA沖洗
2023-05-25 11:48:341460 工業(yè)PCBA清洗設(shè)備是一種專門用于清洗印刷電路板組裝(PCBA)的設(shè)備。在電子制造過程中，PCBA需要接受大量的焊接工藝，而這些焊接工藝可能會(huì)使得PCBA表面殘留有化學(xué)物質(zhì)或者金屬粉塵等污染物
2023-05-22 11:45:16438 
拋光硅晶片是通過各種機(jī)械和化學(xué)工藝制備的。首先，硅單晶錠被切成圓盤（晶片），然后是一個(gè)稱為拍打的扁平過程，包括使用磨料清洗晶片。通過蝕刻消除了以往成形過程中引起的機(jī)械損傷，蝕刻之后是各種單元操作，如拋光和清洗之前，它已經(jīng)準(zhǔn)備好為設(shè)備制造。
2023-05-16 10:03:00584 
晶圓清洗工藝的目的是在不改變或損壞晶圓表面或基板的情況下去除化學(xué)雜質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。晶圓表面必須保持不受影響，這樣粗糙、腐蝕或點(diǎn)蝕會(huì)抵消晶圓清潔過程的結(jié)果
2023-05-11 22:03:03783 上海銳族激光設(shè)備是上海專業(yè)生產(chǎn)手持式激光清洗機(jī)的廠家。銳族手持式激光清洗機(jī)采用輕便型的手持清洗激光器，具有無研磨、非接觸特點(diǎn)，不但可以用來清洗有機(jī)的污染物，也可以用來清洗
2023-05-09 13:28:12
減薄晶片有四種主要方法，(1)機(jī)械研磨，(2)化學(xué)機(jī)械平面化，(3)濕法蝕刻(4)等離子體干法化學(xué)蝕刻(ADP DCE)。四種晶片減薄技術(shù)由兩組組成：研磨和蝕刻。為了研磨晶片，將砂輪和水或化學(xué)漿液結(jié)合起來與晶片反應(yīng)并使之變薄，而蝕刻則使用化學(xué)物質(zhì)來使基板變薄。
2023-05-09 10:20:06979 激光清洗不僅可用于清洗有機(jī)污染物質(zhì)，還可以用來清洗無機(jī)化合物。激光清洗的原理是利用激光束的高能量密度，使污垢或涂層等物質(zhì)發(fā)生蒸發(fā)或剝離，從而清洗表面。這個(gè)過程并不依賴于物質(zhì)的化學(xué)性質(zhì)，因此激光清洗
2023-05-08 17:11:07571 
激光清洗設(shè)備是一種利用激光束對(duì)表面進(jìn)行清洗的設(shè)備。它可以通過高能量密度的激光束將表面的污垢、油漬、涂層等物質(zhì)蒸發(fā)或剝離，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)表面的清潔。相比傳統(tǒng)的清洗方法，激光清洗設(shè)備具有高效、無損、環(huán)保
2023-05-08 17:10:07678 SIC晶體具有與GaN材料高匹配的晶格常數(shù)和熱膨脹系數(shù)以及優(yōu)良的熱導(dǎo)率，是GaN基的理想襯底材料，如LED,LD。因此，SiC襯底加工技術(shù)是器件制作的重要基礎(chǔ)，其表面加工的質(zhì)量和精度，直接會(huì)影響外延
2023-05-05 07:15:001154 
在當(dāng)今的器件中，最小結(jié)構(gòu)的尺寸接近于需要從晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破壞脆弱設(shè)備的情況下，在工藝步驟之間去除納米顆粒的清洗過程的重要性正在不斷增長(zhǎng)。兆波清洗可用于單晶片或批量晶片處理。
2023-05-02 16:32:11865 
?VGT—907FS立方基準(zhǔn)棱鏡超聲波清洗機(jī)是本公司根據(jù)用戶要求，吸收業(yè)界最新工業(yè)技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)上，設(shè)計(jì)生產(chǎn)的一款全新型超聲波清洗機(jī)。清洗原理主要是通過換能器，將大于20000Hz的超聲頻源聲能
2023-04-26 17:41:540 清洗硅片（Wafer Clean）
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性
基本步驟：化學(xué)清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403859 
現(xiàn)狀：目前，新型儲(chǔ)能技術(shù)正在迅速發(fā)展。鋰離子電池、納米流體電池、鈉離子電池、燃料電池和超級(jí)電容器等新型儲(chǔ)能技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于新能源汽車、家庭能源儲(chǔ)存等領(lǐng)域。尤其是鋰離子電池，已成為了主流的新型儲(chǔ)能技術(shù)
2023-04-21 16:28:194330 [技術(shù)領(lǐng)域] 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種酸性化學(xué)品供應(yīng)控制系 統(tǒng)。 由于半導(dǎo)體行業(yè)中芯片生產(chǎn)線的工作對(duì)象是硅晶片，而能在硅晶片上蝕刻圖形 以及清洗硅晶片上的雜質(zhì)、微粒子的化學(xué)
2023-04-20 13:57:0074 】 濕法清洗 有機(jī)藥液 槽式 單片式 滾筒式在集成電路生產(chǎn)過程中，WET ?濕法工藝主要是指使用超純水及超純酸堿 , 有機(jī)等化學(xué)藥液 , 完成對(duì)晶圓的清洗刻蝕及光刻膠剝離等工藝 ??[1]。伴隨著集成電路設(shè)計(jì)線寬越來越窄，使得集成電路高
2023-04-20 11:45:00823 
陶瓷晶片、預(yù)應(yīng)力螺桿、電極片、和絕緣套管組成。超聲波清洗換能器參數(shù)：型號(hào)諧振頻率靜態(tài)電容諧振阻抗外型尺寸功率絕緣阻抗（KHz）(PF)(Ω)直徑×高度（Ｗ）(25
2023-04-09 02:45:225 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆粒或污染物的過程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對(duì)器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告?zhèn)戎赜诎雽?dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的不同部分（產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域）。
2023-04-03 09:47:511643 
清洗過程在半導(dǎo)體制造過程中，在技術(shù)上和經(jīng)濟(jì)上都起著重要的作用。超薄晶片表面必須實(shí)現(xiàn)無顆粒、無金屬雜質(zhì)、無有機(jī)、無水分、無天然氧化物、無表面微粗糙度、無充電、無氫。硅片表面的主要容器可分為顆粒、金屬雜質(zhì)和有機(jī)物三類。
2023-03-31 10:56:19314 
在整個(gè)晶圓加工過程中，仔細(xì)維護(hù)清潔的晶圓表面對(duì)于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此，濕式化學(xué)清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940 
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