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電子發燒友網>今日頭條>一種在單個晶片清潔系統中去除后處理殘留物的方法

一種在單個晶片清潔系統中去除后處理殘留物的方法

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半導體制造工藝中澆口蝕刻后的感光膜去除方法

通過使半導體制造工藝中澆口蝕刻后生成的聚合物去除順暢,可以簡化后處理序列,從而縮短前工藝處理時間,上述感光膜去除方法是:在工藝室內晶片被抬起的情況下,用CF4+O2等離子體去除聚合物的步驟;將晶片安放在板上,然后用O2等離子體去除感光膜的步驟;和RCA清洗步驟。
2022-04-11 17:02:43783

一種澆口蝕刻后的感光膜去除方法

本發明涉及一種感光膜去除方法,通過使半導體制造工藝中澆口蝕刻后生成的聚合物去除順暢,可以簡化后處理序列,從而縮短前工藝處理時間,上述感光膜去除方法是:在工藝室內晶片被抬起的情況下,用CF4+O2等離子體去除聚合物的步驟; 將晶片安放在板上,然后用O2等離子體去除感光膜的步驟; 和RCA清洗步驟。
2022-04-12 16:30:26356

一種半導體制造用光刻膠去除方法

本發明涉及一種去除光刻膠的方法,更詳細地說,是一種半導體制造用光刻膠去除方法,該方法適合于在半導體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導體裝置的制造工藝中,將殘留晶片上的光刻膠,在H2O
2022-04-13 13:56:42872

一種用濕式均勻清洗半導體晶片方法

本發明公開了一種用濕式均勻清洗半導體晶片方法,所公開的本發明的特點是:具備半導體晶片和含有預定清潔液的清潔組、對齊上述半導體晶片的平坦區域,使其不與上述清潔組的入口相對、將上述對齊的半導體晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604

使用單晶片自旋處理器的背面清潔研究

在這項研究中,我們華林科納使用經濟特區單晶片自旋處理器開發了一種單一背面清潔解決方案,能夠通過蝕刻晶片背面的幾埃來去除任何金屬或外來污染物,無論其涂層如何(無涂層、Si3N4或SiO2)。選擇H2O
2022-05-06 14:06:45339

用于光刻膠去除的單晶片清洗技術

本文的目標是討論一種新技術,它可以在保持競爭力的首席運營官的同時改善權衡。 將開發濕化學抗蝕劑去除溶液的能力與對工藝和工具要求的理解相結合,導致了用于光刻膠去除的單晶片清洗技術的發展。 該技術針對
2022-05-07 15:11:11621

開發一種低成本的臭氧去離子水清洗工藝

摘要 本研究開發了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機蠟膜和顆粒。僅經過商業脫蠟處理后,仍殘留有厚度超過200的蠟殘留物。由于臭氧的擴散限制反應,代替脫蠟
2022-05-07 15:49:26920

刻蝕后殘留物去除方法

(BCB)。蝕刻工藝的固有副產物是形成蝕刻后殘留物,該殘留物包含來自等離子體離子、抗蝕劑圖案、蝕刻區域的物質混合物,以及最后來自浸漬和涂覆殘留物的蝕刻停止層(Au)的材料。普通剝離劑對浸金的蝕刻后殘留物無效,需要在去除殘留物
2022-06-09 17:24:132320

使用清洗溶液實現蝕刻后殘留物的完全去除

我們華林科納半導體開發了一種新的濕法清洗配方方法,其錫蝕刻速率在室溫下超過30/min,在50°c下超過100/min。該化學品與銅和低k材料兼容,適用于銅雙鑲嵌互連28 nm和更小的技術節點
2022-06-14 10:06:242210

BEOL應用中去除蝕刻后殘留物的不同濕法清洗方法

)開口的低k圖案化中,觀察到兩個主要問題。首先,MHM開口后的干剝離等離子體對暴露的低k材料以及MHM下面的低k材料造成一些損傷。受損低k是非常易碎的材料,不應該被去除,否則將獲得一些不良的輪廓結構。其次,連續的含氟低k蝕刻等離子體導致聚合物
2022-06-14 16:56:371355

適用于清潔蝕刻后殘留物的定制化學成分(1)

引言 介紹了一種蝕刻后殘留物清洗配方,該配方基于平衡氫氟酸的腐蝕性及其眾所周知的殘留物去除特性。在最初由基于高k電介質的殘留物提供的清潔挑戰所激發的一系列研究中,開發了一種配方平臺,其成功地清潔
2022-06-23 15:56:541073

晶片背面和斜面清潔(上)

介紹 在IC制造中,從晶圓背面(BS)去除顆粒變得與從正面(FS)去除顆粒一樣重要。例如,在光刻過程中,; BS顆粒會導致頂側表面形貌的變化。由于焦深(DOF)的處理窗口減小,這可能導致焦點故障
2022-06-27 18:54:41796

金屬加工液機床表面殘留物的解決方法

  金屬加工液的主要功能之一是為零件提供工序間的防銹性,這通過在金屬表面留下的防銹膜來完成。所以,這里要討論的不是金屬加工液是否留下殘留物,而是殘留物是否是有目的地留下的。
2022-11-25 09:17:091024

PCBA殘留物的影響及清洗,助焊劑殘留物怎么樣清除

發現PCBA 上的殘留物對PCBA 的可靠性水平影響極大,而在殘留物中,無機殘留物會減小絕緣電阻,增加焊點或導線間的漏電流,在潮濕空氣條件下,還會使金屬表面腐蝕;有機殘留物(如松香、油脂等)會形成絕緣膜,從而影響連接器、開關和繼電器等元器件表面之
2023-09-22 11:05:221122

焊后錫膏殘留物帶來的危害有哪些?

也帶來腐蝕和漏電等問題。一般的電子產品可以使用免洗錫膏極少有殘留物出現。焊后錫膏殘留物帶來的危害:1、顆粒性污染物易造成電短路;2、極性玷污物會造成介質擊穿、漏電和元
2023-07-25 19:18:26715

倒裝晶片的組裝工藝流程

相對于其他的IC元件,如BGA和CSP等,倒裝晶片裝配工藝有其特殊性,該工藝引入了助焊劑工藝和底部填充工 藝。因為助焊劑殘留物(對可靠性的影響)及橋連的危險,將倒裝芯片貼裝于錫膏上不是一種可采用的裝配方法
2023-09-22 15:13:10352

免洗錫膏之殘留物腐蝕性機理分析

層的作用,只會留下少量酸性離子殘留物。免洗錫膏的焊后殘留物雖少,但對于某些高精密器件仍不可忽視。因此,免洗錫膏的殘留物腐蝕性仍舊是熱議問題。
2024-01-08 09:04:56143

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