晶體管交直流參數對電路設計的影響
在電子類產品中,半導體器件和電阻電容電感一樣,已經成為電路中最基礎的組成部分;同時也成為各種電路不可缺少的組成部分。隨著科學技術的快速發(fā)展,半導體器件的規(guī)模化、復雜化趨勢越來越明顯,其形式更加多樣,用途也更加廣泛。而作為半導體器件基礎組成部分的晶體管,它的正確應用一再被大家忽略。許多產品,經歷了長時間的試驗或應用后,才發(fā)現最初的晶體管選型或應用存在著問題,改進的方法也許很簡單,但對已出廠產品進行更改的代價卻無法衡量。所以,仔細查看晶體管的各種參數,正確選擇和應用晶體管,是設計人員應該重視的問題。
晶體管的直流參數和交流參數
對只有直流工作電路或直流交流均工作的電路,許多設計者投入了大量的精力去設計交流電路,而對最基本的直流工作電路不屑一顧,對相應的晶體管直流參數選擇也很隨意。這樣便會出現開始沒有對晶體管進行正確選擇,到對電路進行復雜的調試、運行、功能聯試的時候,很難想到、也很難發(fā)現開始的器件選擇和應用存在問題。所以,晶體管直流參數的確定是最基礎的,直流電路工作正常也是很重要的。
晶體管的直流參數很多,最常見也最常用的參數有直流工作電壓(VCC)、擊穿電壓(VCEO和VEBO)、直流放大倍數(HFE)、最大工作電流(ICM)、最大功耗(PCM)等。
在電路中,不管晶體管是工作在直流工作狀態(tài)還是交流工作狀態(tài),正確選擇晶體管的直流參數是很重要的。也就是說,應根據工作環(huán)境中直流電路的工作狀態(tài)要求,對晶體管進行最基礎的選擇,確定晶體管的工作電壓,工作電流和功耗,來計算電路中應用的晶體管直流工作電壓(VCC)、最大工作電流(ICM)和功耗(PCM)等。
在交流工作狀態(tài)下,晶體管的交流工作狀態(tài)當然很重要了。如輸出功率(PL)、交流增益(GP)、效率(η)、特征頻率(fT)、極間電容(CCE和CBE)等。
對交流參數,我們一般查看晶體管的輸出功率、交流增益和特征頻率就可以了。特征頻率決定晶體管是否滿足電路工作頻率要求,交流增益和輸出功率決定了電路的放大級數和輸入功率。
現在的許多晶體管,特別是大功率晶體管參數中,有些參數已經很難查到了。如我們常用的集電極輸出電容CC和Cob,是非常重要的參數,結電容越小,寬頻帶電路的頻率響應越好。但對應用時間長的產品,我們希望選用結電容比較大的晶體管。雖然設計初期有一定的難度,但在以后的產品生產中,再用其它種類晶體管替代時選擇余地比較大。
在交流放大電路中,同種類型的晶體管,我們更愿意選用基極到地阻抗小的器件,因為同樣的輸入功率、產生同樣的輸出功率,輸入阻抗越小,晶體管工作越穩(wěn)定。
直流參數和交流參數的綜合應用及關系
在某些情況下,直流參數和交流參數是不能分開的。如我們常說的擊穿電壓VEBO和VCEO。一般情況下,擊穿電壓VEBO指標大于等于4V。當晶體管處于完全導通狀態(tài),晶體管基極和發(fā)射極之間的電壓最大不會超過0.7V(硅晶體管),也就是說,在直流工作狀態(tài)下,擊穿電壓遠遠不足4V的電壓。但對交流信號電路,特別是輸入功率大、輸入阻抗較高的晶體管,電路在非穩(wěn)定狀態(tài)時,基極的交流信號幅度有時會大于4V。在一次偶然的實驗中我們發(fā)現,晶體管在調試和低溫試驗時,各種指標均正常,但在長時間高溫工作時,晶體管基極和發(fā)射極擊穿。經過反復的檢查發(fā)現,所有器件均合格,電路調試狀態(tài)正常;唯一不同的是,電路反射功率較大,使晶體管的基極信號幅度長時間處于VEBO擊穿電壓的臨界狀態(tài),造成晶體管的基極發(fā)射極擊穿。所以,應該選擇VEBO偏大的晶體管。
晶體管的增益有直流放大倍數(HFE)和交流增益(GP)兩種。一般情況下,直流放大倍數越大,電路直流工作的電流就越大,一般根據電路實際需要選擇不同的直流放大倍數。而交流增益和直流放大倍數之間沒有任何關系,交流增益一般只給出范圍,如≥12dB,而沒有給出具體的最大增益,同時晶體管手冊只給出最大工作頻率,不會給出工作頻率范圍內的頻響。交流增益不會因為直流放大倍數的改變而變化(很小的變化可以忽略),有些晶體管直流的增益變大時交流增益反而變小。
對于晶體管的直流放大倍數,可以通過簡單的測試方法便可得到,但對于交流增益,必須通過專門的電路進行測試才能知道。一般的晶體管手冊中,給出交流增益的同時,會給出交流增益測試電路圖。
根據功率的不同,晶體管的增益范圍不同,同種功率的晶體管,增益范圍越窄,晶體管芯片制作的工藝一致性越好;同樣,晶體管在工作頻帶內交流增益變化越小,晶體管的交流參數越穩(wěn)定,晶體管的一致性越好,電路的互換性越好。
其它參數
通過晶體管的輸出特征曲線圖,不僅可以計算出晶體管的直流放大倍數,同時也可以測出晶體管的飽和壓降VCES,這也是一個非常重要的參數。許多小功率管可以查到這個參數,如小于等于0.7V或1V,現在大功率晶體管已經沒有這個參數了。我們對許多大功率晶體管測試時發(fā)現,好的晶體管VCES仍小于等于1V,但差的晶體管VCES遠遠大于1 V,有的竟然在2.5 V~3 V之間。具體見圖1。
對比圖1和圖2的曲線圖,我們發(fā)現好的晶體管曲線分布均勻,曲線之間相互平行,基極的電流穩(wěn)定后集電極電流基本不變,飽和壓降VCES小(見圖1中紅線對應的VCE電壓,小于等于1V);而差的晶體管曲線分布不均勻,曲線之間相互不平行,基極電流穩(wěn)定后集電極電流變化很大,飽和壓降VCES大(約2.8V)。
根據實際應用得知,曲線分布不均勻、VCES大的晶體管線性差、功耗大、輸出指標不好。應用這種晶體管進行設計,電路是很難達到高指標的,否則設計者花費了很大精力,卻總不能滿足要求,還一直苦于找不到原因。
晶體管的參數很多,本文只對常用的、容易忽略的幾個參數的應用進行了簡單說明,還有許多常用參數都沒有進行論述。在電路設計時,應根據電路的不同要求,選擇最適合的晶體管,為整個電路和系統(tǒng)的可靠工作奠定基礎。
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