FET通過影響導(dǎo)電溝道的尺寸和形狀,控制從源到漏的電子流(或者空穴流)。溝道是由(是否)加在柵極和源極的電壓而創(chuàng)造和影響的(為了討論的簡便,這默認體和源極是相連的)。導(dǎo)電溝道是從源極到漏極的電子流。
耗盡模式
在一個n溝道“耗盡模式”器件,一個負的柵源電壓將造成一個耗盡區(qū)去拓展寬度,自邊界侵占溝道,使溝道變窄。如果耗盡區(qū)擴展至完全關(guān)閉溝道,源極和漏極之間溝道的電阻將會變得很大,F(xiàn)ET就會像開關(guān)一樣有效的關(guān)閉(如右圖所示,當柵極電壓很低時,導(dǎo)電溝道幾乎不存在)。類似的,一個正的柵源電壓將增大溝道尺寸,而使電子更易流過(如右圖所示,當柵極電壓足夠高時,溝道導(dǎo)通)。
增強模式
相反的,在一個n溝道“增強模式”器件中,一個正的柵源電壓是制造導(dǎo)電溝道所必需的,因為它不可能在晶體管中自然的存在。正電壓吸引了體中的自由移動的電子向柵極運動,形成了導(dǎo)電溝道。但是首先,充足的電子需要被吸引到柵極的附近區(qū)域去對抗加在FET中的摻雜離子;這形成了一個沒有運動載流子的被稱為耗盡區(qū)的區(qū)域,這種現(xiàn)象被稱為FET的閾值電壓。更高的柵源電壓將會吸引更多的電子通過柵極,則會制造一個從源極到漏極的導(dǎo)電溝道;這個過程叫做“反型”。
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