氬離子拋光技術作為一種前沿的材料表面處理手段，憑借其高效能與精細效果的結合，為眾多領域帶來了突破性的解決方案。它通過低能量離子束對材料表面進行精準加工，不僅能夠快速實現拋光效果，還能在微觀尺度上保留樣品的原始結構和特性。

拋光系統核心

氬離子拋光系統的核心在于其先進的離子槍設計。該系統配備了兩個低能量聚集能力的離子槍，能夠在極低的能量水平（低至100eV）下進行拋光，這使得它特別適合對精細樣品進行處理。這種低能量拋光方式能夠在不損傷樣品內部結構的前提下，快速去除表面缺陷，展現出卓越的拋光效率。

拋光前- 俯視SEM圖樣品 拋光90S后SEM圖樣品

系統的高效性得益于新型低能聚焦電極的運用。這種電極能夠保證離子束直徑的恒定，從而顯著提高了拋光速率。同時，獨立調節的離子槍設計賦予了系統精準對中的能力，確保離子束能夠精確地作用于樣品的指定位置。這種精準性對于制備高質量的分析樣品至關重要，尤其是在電子背散射衍射（EBSD）等對樣品表面質量要求極高的應用中。氬離子拋光系統的操作靈活性也是其顯著優勢之一。操作者可以根據不同的樣品和需求，隨時調整離子槍的角度，并通過10英寸的觸摸屏手動或自動調節氣體流量以及優化工作電流。

技術參數

氬離子拋光系統的性能在多個關鍵參數上得到了充分體現。離子槍采用高性能三元構造，無需耗材，這不僅降低了使用成本，還提高了系統的穩定性和可靠性。離子束能量的可調節范圍從100 V至8.0 kV，覆蓋了從精細拋光到快速去除材料的多種需求。樣品裝載過程得到了優化，特制擋板的設計簡化了裝樣步驟，同時確保了樣品的重復使用性和位置準確性。液氮冷臺的最低溫度可達-120°C，這一低溫環境能夠有效減少樣品在拋光過程中的損傷，尤其適用于對溫度敏感的材料。

氬離子應用領域

氬離子拋光系統的應用領域極為廣泛，涵蓋了材料科學的多個重要分支。在EBSD樣品制備中，該系統能夠提供高質量的樣品表面，確保衍射信號的清晰獲取，從而為材料的微觀結構分析提供了可靠的基礎。對于截面樣品制備，氬離子拋光技術能夠快速去除表面損傷層，展現出樣品的真實內部結構，這對于材料失效分析和質量控制具有重要意義。金鑒實驗室在EBSD樣品制備中，能夠提供高質量的樣品表面分析，確保衍射信號的清晰獲取，為材料的微觀結構分析提供可靠的基礎。

PCB電路版截面拋光SEM圖

1.金屬材料領域

在金屬材料領域，氬離子拋光技術可以用于去除表面氧化層和加工痕跡，為后續的性能測試和微觀分析做好準備。在石油地質巖石礦物的研究中，該技術能夠揭示巖石的微觀結構和礦物組成，為地質勘探和資源開發提供重要依據。

鍍鋅鋼板截面拋光

2.光學、電學和力學領域

光電材料、化工高分子材料、新能源電池材料以及電子半導體器件的表面處理也是氬離子拋光系統的應用重點。通過對這些材料表面的精細加工，可以改善材料的光學、電學和力學性能，從而推動相關技術的發展和應用。