在激光器的設計和生產(chǎn)過程中,光束質(zhì)量是衡量激光光束優(yōu)劣的一項重要指標。在激光發(fā)展過程中,針對不同的應用目的,曾用多種參數(shù)來評價光束質(zhì)量,例如聚焦光斑尺寸、遠場發(fā)散角等等。但是由于激光束經(jīng)過光學系統(tǒng)后,束腰尺寸和發(fā)散角均可以發(fā)生改變,減小腰斑半徑必然會使發(fā)散角增大,因此單獨使用發(fā)散角或腰斑尺寸來評價光束質(zhì)量是不科學的。為了克服常用光束質(zhì)量評價方法的局限性,近年來國際光學界發(fā)展出一種表征激光光束質(zhì)量的參量——品質(zhì)因子M2
光束質(zhì)量是激光束可聚焦程度的度量。描寫激光光束品質(zhì)因子的M2定義為:
式中,w 和 w0 分別為實際光東和基橫模高斯光束的束腰半徑;0和00,分別是實際光束和基橫模高斯光束的遠場發(fā)散角。從定義中可以看出M2因子是以理想高斯光束即基橫模TEM00的作為比較標準的。
基橫模高斯光束的束腰半徑和遠場發(fā)散角的表達式如下:
式中,入為光波波長,L為激光器的腔廠,不難看出,基橫模高斯光束的束腰半徑和遠場發(fā)散角的乘積為一個常量
即使采用各種光學變換方法,例如聚焦或準直來減小東腰半徑或者壓縮遠場發(fā)散角,w000也總是個常量,因此束腰半徑與遠場發(fā)散角的乘積反映了基橫模高斯光束的固有特性,這樣就避免了只用光斑尺寸或只用發(fā)散角作為光束品質(zhì)判據(jù)所帶來的不確定性,作為比較的標準,基橫模高斯光束的M2=1。也就是說,基橫模高斯光束有最好的光束品質(zhì)。
由厄密-高斯函數(shù)表征的高階高斯光束用TEMmn來表示,其中,m和n分別表示場在x和y方向的節(jié)線數(shù),不同 m 和n的模具有不同的橫向場分布,稱為橫模,當m=0且n=0時,對應TEM00如模式,稱為基橫模。高階厄密-高斯光束在x和y方向上的M2分別為:
顯然,高階厄密-高斯光束的M2大于基橫模的M2。并且隨著模階數(shù) m 或n的增加,其光腰半徑及發(fā)散角與基橫模高斯光束相比偏差越來越大,光腰半徑與遠場發(fā)散角之積越大,光東質(zhì)量也就越差。
由拉蓋爾-高斯函數(shù)表征的高階高斯光東也用TEMmn來表示,m 表示光束沿徑向的節(jié)線圓的數(shù)目n 表示光束沿福角方向的節(jié)線數(shù)目,其品質(zhì)因子M2=m+2n+1
同樣,隨著模階數(shù) m或n的增加,其光腰半徑及發(fā)散角與基模高斯光束相比偏差越來越大光腰半徑與遠場發(fā)散角之積越大,光束質(zhì)量也就越差。
審核編輯 黃宇
-
激光器
+關注
關注
17文章
2643瀏覽量
61580
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
基于混合集成二極管激光器實現(xiàn)光束操控系統(tǒng)

JCMSuite應用—垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)
安泰高壓放大器在高功率固體板條激光器光束實驗中的應用

VIRTUALLAB FUSION應用:光束切趾建模
VirtualLab Fusion應用:利用空間濾波器“清理”激光束
激光器基礎---激光腔

EastWave應用:垂直腔表面激光器
連續(xù)波激光器介紹

淺談半導體激光器的應用領域
空間光調(diào)制器自適應激光光束整形
高壓放大器在高功率固體板條激光器光束實驗中的應用

高質(zhì)量激光光束光學系統(tǒng)中的空間濾波
激發(fā)專屬躍遷:用于皮膚醫(yī)美和光學研究種子源的DPSS激光器

評論