SK海力士在半導體領域再次邁出創新步伐，計劃在其第6代（1c工藝，約10nm）DRAM的生產中，首次采用Inpria的下一代金屬氧化物光刻膠（MOR）。這一突破性的應用標志著MOR技術正式進入DRAM量產工藝。
據悉，SK海力士即將量產的1c DRAM將包含五個極紫外（EUV）層，其中一層將使用MOR進行繪制。這不僅展現了SK海力士在先進制造技術上的領先實力，也預示了半導體制造行業的新趨勢。
值得注意的是，不僅SK海力士，三星電子也對該類無機PR材料表現出濃厚興趣，預計將加入MOR技術的探索與應用行列。這一技術的廣泛應用，有望為半導體行業帶來更多的創新與突破。
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