繼半導體后 韓國將顯示專利申請指定為優先審查對象
知識產權機構韓國特許廳31日表示，從11月1日開始的一年時間里，將國內研究開發和生產的顯示器領域的專利申請指定為優先審查對象。
其中包括與顯示器材料、配件、裝備、制造、設計技術直接相關的申請、在國內生產或準備生產顯示器相關產品、裝備等的企業的申請、與顯示器相關的國家研究開發（r&d）事業的成果相關的申請等。
專利廳預計，通過該制度，平均需要16個月左右的一般專利審查周期將減少到平均2個月以內。
與此同時，將于10月31日結束的半導體領域的優先審查對象的指定也將延長1年。如果申請與半導體材料、零部件、裝備、制造、設計技術直接相關的專利，就可以優先接受審查。
另外，考慮到在申請優先審查時，很難預測專利分類（cpc）是否合適的情況較多，決定刪除現有的半導體相關專利分類條件。
據悉，在顯示器領域的國際專利糾紛不斷深化的情況下，此舉是為了支援韓國企業盡快獲得專利。
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