隨著硅材料在半導(dǎo)體和光電子領(lǐng)域的應(yīng)用日益廣泛,痕量金屬元素對材料性能和質(zhì)量的影響越來越大,高精度的硅材料痕量金屬檢測方法顯得尤為重要。
季豐電子基于ICP-MS的硅材料痕量金屬檢測方法,具有高分辨率、高靈敏度和元素范圍廣泛的優(yōu)勢,能夠同時檢測多種金屬元素,檢出限達(dá)到ppt(parts per trillion)級別,相當(dāng)于從100萬立方米的水中測出1g物質(zhì)。
季豐電子實驗室設(shè)備先進(jìn),擁有千級潔凈度的實驗環(huán)境,實驗員操作經(jīng)驗豐富,實驗室體系運(yùn)轉(zhuǎn)良好。
在樣品前,實驗室會使用G5級別超純酸前處理,金屬雜質(zhì)含量低于10ppt以此保證前處理過程不受污染,確保樣品分析準(zhǔn)確性。
在痕量金屬檢測方面,季豐電子CA實驗室能夠提供以下服務(wù):
多晶硅、硅片表金屬及體金屬
雜質(zhì)檢測
多晶硅、硅片是半導(dǎo)體制造的重要原材料,其中的金屬雜質(zhì)對半導(dǎo)體器件的性能和穩(wěn)定性有著重要影響。我們實驗室能夠?qū)Χ嗑Ч琛⒐杵斫饘僖约绑w金屬雜質(zhì)進(jìn)行高靈敏度、高精度的檢測,可達(dá)到ppt級別的金屬雜質(zhì)含量。
超純酸金屬雜質(zhì)檢測
超純酸是半導(dǎo)體制造中常用的重要化學(xué)試劑,其中的金屬雜質(zhì)會直接影響半導(dǎo)體器件的性能。我們實驗室能夠?qū)Τ兯嶂械慕饘匐s質(zhì)進(jìn)行檢測,檢測精度達(dá)到ppt級別。
其他半導(dǎo)體相關(guān)材料痕量金屬檢測
除了多晶硅、硅片和超純酸,我們實驗室還能夠?qū)E袋、手套、特種氣體等相關(guān)材料中的其他金屬雜質(zhì)進(jìn)行痕量分析,如鎢、銅、鐵、鎳等,檢測精度同樣可以達(dá)到ppt級別。
審核編輯:劉清
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原文標(biāo)題:高精度ICP-MS技術(shù)在硅材料痕量金屬檢測中的應(yīng)用
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