首先，等離子清洗機(jī)主要通過氣體放電產(chǎn)生等離子。氣體放電中含有電子、離子、自由基、紫外線等高能物質(zhì)，具有活化材料表面的作用。例如，低質(zhì)量、快速移動(dòng)的電子可以首先到達(dá)材料表面并帶負(fù)電，同時(shí)在材料表面產(chǎn)生碰撞效應(yīng)，加速氣體解吸或分解。分子也吸附到表面并幫助引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。當(dāng)材料表面帶負(fù)電時(shí)，帶正電的離子會(huì)加速并撞擊，由此產(chǎn)生的濺射會(huì)去除粘附在表面的顆粒物質(zhì)。等離子體中自由基的存在對(duì)于清潔非常重要。自由基容易與物體表面發(fā)生化學(xué)鏈?zhǔn)椒磻?yīng)，因此會(huì)產(chǎn)生新的自由基或進(jìn)一步分解，最終分解成易揮發(fā)的小分子。射線具有很強(qiáng)的光能和傳輸能力，可以穿過物質(zhì)。表面有幾微米深，作用是破壞和破壞附著在表面上的物質(zhì)的分子鍵。

(1)放電壓力：在低壓等離子體的情況下，放電壓力越高，等離子體密度越高，電子溫度越低。等離子體的清潔效果取決于等離子體的密度和電子溫度。例如，密度越高，清洗速度越快，電子溫度越高，清洗效果越高。因此，放電氣體壓力的選擇對(duì)于低壓等離子清洗工藝非常重要。
(2)氣體種類：待處理基材及其表面污染物種類繁多，各種氣體排放產(chǎn)生的等離子清洗速度和清洗效果完全不同。因此，應(yīng)有針對(duì)性地選擇等離子體的工作氣體。例如，使用氧等離子體去除物體表面的油脂和污垢，或使用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。
(3)放電功率：提高放電功率可以增加等離子體的密度和活性粒子的能量，從而提高清洗效果。例如，氧等離子體的密度受放電功率的影響很大。
(4)暴露時(shí)間：待用等離子體清洗材料的暴露時(shí)間對(duì)其表面清洗效果和等離子體工作效率影響很大。曝光時(shí)間越長(zhǎng)，清洗效果越高，但工作效率越低。而且太長(zhǎng)了長(zhǎng)時(shí)間清洗會(huì)損壞材料的表面。
（5）傳輸率：在常壓等離子清洗過程中，處理大型物體時(shí)會(huì)出現(xiàn)連續(xù)傳輸?shù)膯栴}。因此，待清潔物體與電極之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度越慢，治療效果就越高。
(6)其他：等離子清洗過程中的氣體分布、氣體流速、電極設(shè)置等參數(shù)也會(huì)影響清洗效果。因此，需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求，設(shè)定具體合適的工藝參數(shù)。