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硅片射頻和分子量控制產(chǎn)品

星星科技指導(dǎo)員 ? 來源:ADI ? 作者:Bilge Bayrakci ? 2023-01-06 15:05 ? 次閱讀

ADI公司采用先進(jìn)硅工藝的新型RF微波(MW)開關(guān)和衰減器產(chǎn)品,與傳統(tǒng)使用砷化鎵(GaAs)的產(chǎn)品相比,具有硅技術(shù)的固有優(yōu)勢。本文重點介紹了新型開關(guān)和衰減器產(chǎn)品的功能和關(guān)鍵性能參數(shù)。

ADI公司提供1000多種器件,涵蓋所有RF和MW信號鏈和應(yīng)用。RF開關(guān)和衰減器通常用于同一應(yīng)用,并符合類似的系統(tǒng)要求。它們被歸入相同的產(chǎn)品類別,射頻和兆瓦控制產(chǎn)品。圖1所示為通用收發(fā)器。底部是發(fā)射端,頂部是接收端。中間是預(yù)失真反饋環(huán)路,以及時鐘生成。在圖中,開關(guān)用于各種切片。低噪聲放大器前面使用單刀雙擲 (SPDT) 開關(guān),以保證所需的隔離水平,防止在傳輸模式下可能通過雙工器泄漏的過大功率。另一個SPDT開關(guān)用于數(shù)字預(yù)失真反饋環(huán)路,以在發(fā)射或反射信號之間進(jìn)行選擇。然后使用單刀四擲(SP4T)在多個收發(fā)器之間進(jìn)行選擇,以防一個檢波器用于所有收發(fā)器。

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圖1.通用收發(fā)器。底部是發(fā)射端,頂部是接收端。中間是預(yù)失真反饋回路。

另一個SPDT開關(guān)用于在接收端和發(fā)送端之間路由來自本地振蕩器的時鐘信號。數(shù)字衰減器(DATT)和連續(xù)可調(diào)電壓可變衰減器(VVA)用于需要增益調(diào)整的信號鏈。

另一個應(yīng)用是蜂窩中繼器。在圖 2 中,天線接口使用單刀雙擲開關(guān)。這些是專門為此而設(shè)計的高功率發(fā)射和接收開關(guān)。

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圖2.天線接口使用高功率反射發(fā)射/接收單刀雙擲。

圖3顯示了控制產(chǎn)品用于時鐘或LO生成的使用。在這里,信號通過VCO/PLL或振蕩器產(chǎn)生,被放大,然后施加到開關(guān)上。在圖中,單刀三擲 (SP3T) 開關(guān)用于在濾波器組之間切換。在輸出側(cè),使用單刀四擲開關(guān),并增加了一個用于校準(zhǔn)和外部基準(zhǔn)的額外路徑。數(shù)字衰減器或電壓可變衰減器可以包含在需要增益調(diào)整的信號路徑中。

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圖3.使用控制產(chǎn)品生成時鐘或本振(LO)。

最后一個示例是RF測試設(shè)備輸入級的框圖(圖4)。在第一部分,SPDT用于在輸入信號或校準(zhǔn)信號之間進(jìn)行選擇。然后將所選信號饋送到另一個SPDT,以將信號路由到放大路徑或旁路路徑。接下來是包含DATT和VVA的衰減器部分。數(shù)字衰減器用于航向校準(zhǔn),電壓可變衰減器用于精細(xì)增益調(diào)整。

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圖4.在測試設(shè)備輸入階段,信號施加到設(shè)備上,n通過放大路徑或衰減路徑。

在這些應(yīng)用中,需要高性能,低插入損耗、良好回波損耗、高線性度和高功率處理是關(guān)鍵參數(shù)。平坦的頻率特性對于設(shè)備的性能非常重要。此類應(yīng)用中的信號帶寬必須足夠?qū)挘愿采w操作的整個頻率范圍。在此類應(yīng)用中,頻譜和網(wǎng)絡(luò)分析儀的9 kHz低截止頻率至關(guān)重要。

硅與砷化鎵

這種比較主要在設(shè)計特征上進(jìn)行。如果產(chǎn)品需要快速凝固時間和快速開關(guān)時間,硅工藝比GaAs更具優(yōu)勢。硅工藝提供了更大的集成能力,對于低頻操作,硅比GaAs具有優(yōu)勢。如果功率處理、插入損耗、隔離度和線性度是設(shè)計參數(shù),硅和砷化鎵都可以滿足要求。硅提供更高的ESD魯棒性。對于高溫操作,砷化鎵仍然是優(yōu)于硅的平臺。在砷化鎵耗盡模式下,通常使用可實現(xiàn)故障安全操作等功能的器件。

砷化鎵器件會受到所謂的柵極滯后效應(yīng)的影響。當(dāng)晶體管切換時,與開關(guān)時間相比,溝道中的殘余電荷衰減需要更長的時間。RF設(shè)計人員通常的做法是預(yù)計建立時間有10×裕量,但如果需要高精度,這可能還不夠。柵極滯后取決于過程變化、偏置條件和控制電壓電平。

硅器件具有可靠的快速開關(guān)和建立特性。設(shè)備特性已得到很好的定義和建模。對過程變異和偏差條件的依賴性得到了很好的控制和限制。

在時分多路復(fù)用通信系統(tǒng)中,快速建立時間對于實現(xiàn)良好的性能非常重要。在大多數(shù)測試和測量設(shè)備中,快速建立時間對于提高精度和縮短測試時間至關(guān)重要。

圖5顯示了兩種產(chǎn)品之間的比較:采用砷化鎵制造的HMC540和采用硅工藝設(shè)計的HMC540S。由于柵極滯后效應(yīng),GaAs積需要~8 μs才能建立到最終RF功率電平。硅產(chǎn)品在不到 ~1 μs 的時間內(nèi)穩(wěn)定到相同的射頻電平。

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圖5.砷化鎵(左)和硅的建立時間測量值比較。

由于器件特性,砷化鎵工藝具有集成限制。在GaAs中,pHEMT器件閾值電壓在–1 V和–3 V之間變化,設(shè)計低壓CMOS接口等復(fù)雜接口電路是不可行的,因此GaAs器件需要外部電路。在硅工藝中,閾值電壓要低得多,并且符合標(biāo)準(zhǔn)CMOS接口電壓。可以在同一芯片上實現(xiàn)與控制產(chǎn)品或衰減器開關(guān)相同的接口,并且該器件可以與標(biāo)準(zhǔn)CMOS器件接口。

高集成度為設(shè)計人員提供了簡化設(shè)計、減少PCB面積和所用元件數(shù)量以及節(jié)省成本的機會。硅工藝中的集成可以擴(kuò)展為包含復(fù)雜的功能和功能豐富的產(chǎn)品。

例如,GaAs數(shù)字衰減器被設(shè)計為多芯片模塊,在同一封裝中集成了一個CMOS驅(qū)動器。另一方面,在硅數(shù)字衰減器中,整個器件被設(shè)計為單片單芯片。

硅工藝的另一個優(yōu)點是ESD魯棒性。在砷化鎵工藝中,可用于實現(xiàn)ESD結(jié)構(gòu)的組件有限。二極管和布局技術(shù)用于達(dá)到一定程度的ESD保護(hù)。在硅工藝中,可以實現(xiàn)專用保護(hù)電路,如鉗位和一次性觸發(fā)電路。

圖6左側(cè)的圖表顯示了一個典型的砷化鎵ESD單元,該單元基于二極管。右側(cè)是硅中典型的ESD單元。有一個專用的ESD結(jié)構(gòu),以提供更高水平的保護(hù)。強大的 ESD 保護(hù)可確保器件在 ESD 敏感環(huán)境(如汽車、軍事以及測試和測量應(yīng)用)下可靠運行。

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圖6.在測試設(shè)備輸入階段,信號施加到設(shè)備上,n通過放大路徑或衰減路徑。

在進(jìn)一步比較GaAs和硅時,硅可以在同一設(shè)計中集成多個功能。例如,ADI公司的硅數(shù)字衰減器具有可以管理狀態(tài)轉(zhuǎn)換的串行接口。安全狀態(tài)轉(zhuǎn)換可確保在狀態(tài)轉(zhuǎn)換期間限制RF信號的過沖。無毛刺操作可確保在狀態(tài)轉(zhuǎn)換期間限制RF信號功率的波動。可靠的狀態(tài)轉(zhuǎn)換可簡化設(shè)計,并保護(hù)信號鏈中的其他組件免受過沖或額外功率的影響。

硅工藝的另一個優(yōu)點是能夠設(shè)計用于低頻操作的組件。由于柵極漏電流,砷化鎵工藝具有局限性,幾乎不可能在低頻下使用砷化鎵器件。采用硅工藝,由于柵極完全隔離,因此不會出現(xiàn)柵極泄漏,并且可以使用高值電阻器。該設(shè)計可以針對低頻段進(jìn)行優(yōu)化。低頻端覆蓋 9 kHz 工作頻率,使硅成為測試和測量應(yīng)用的理想選擇。

硅片新開關(guān)產(chǎn)品

ADI提供三種新的硅片開關(guān)產(chǎn)品:

HMC1118,一款高隔離硅單刀雙擲非反射開關(guān),工作頻率范圍為9 kHz至13 GHz

HM8038,一款高隔離硅單刀雙擲非反射開關(guān),工作頻率范圍為 0.1 GHz 至 6 GHz

HMC7992,緊湊型硅SP4T非反射開關(guān),工作頻率為0.1 GHz至6 GHz

HMC1118針對低頻工作進(jìn)行了優(yōu)化。對于0.05 dB裕量,其建立時間為7.5 μs,在8 GHz時具有出色的56 dB隔離度,在8.0 GHz時具有0.6 dB的低插入損耗。它提供 36 dBm 直通路徑和 27 dBm 端接路徑的高功率處理能力。

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HM8038具有60 dB(典型值)的高隔離度、0.8 dB(典型值)的低插入損耗以及170 ns的快速建立時間(0.1 dB裕量)。它提供 34 dBm 通過路徑和 29 dBm 端接路徑的高功率處理能力,對于 0.1 dB 壓縮點,具有 34 dBm 的高線性度。

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HMC7992在2 GHz時具有45 dB(典型值)的高隔離度,在2 GHz時具有0.6 dB的低插入損耗,0.1 dB裕量時具有320 ns的快速建立時間。它具有33 dBm通過路徑和27 dBm端接路徑的高功率處理能力,以及1 dB壓縮點(P1 dB)的高線性度,典型值為35 dBm。

硅片新數(shù)字衰減器產(chǎn)品

硅片新數(shù)字衰減器產(chǎn)品包括:

HMC1119,0.25 dB、LSB、7位硅數(shù)字衰減器(0.1 GHz至6 GHz)

HMC1122,0.5 dB、LSB、6位硅數(shù)字衰減器(0.1 GHz至6 GHz)

HMC305S,0.5 dB、LSB、5位硅數(shù)字衰減器(0.4 GHz至7.0 GHz)

HMC540S,1 dB、LSB、4位硅數(shù)字衰減器(0.1 GHz至8 GHz)

在 www.analog.com 了解有關(guān)這些產(chǎn)品以及ADI所有產(chǎn)品的更多信息

HMC1119和HMC1122專為高精度而設(shè)計,步進(jìn)誤差小于0.1 dB。兩款器件的衰減范圍均為30 dB,插入損耗為1.3 dB,典型開關(guān)時間約為150 ns。它們具有具有安全狀態(tài)轉(zhuǎn)換功能的串行控制接口。

HMC305S的衰減范圍為15.5 dB,2 GHz時插入損耗為1.1 dB。該器件具有串行控制接口,并具有無毛刺狀態(tài)轉(zhuǎn)換功能。

HMC540S是一款寬帶、1 dB步進(jìn)、4位數(shù)字衰減器,針對0.7 dB的低插入進(jìn)行了優(yōu)化。該器件具有出色的線性度,壓縮點為0.1 dB(31 dBm)。HMC540采用緊湊的3 mm×3 mm封裝,并具有并行控制功能。

審核編輯:郭婷

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