EUV產(chǎn)量到位了,是不是也該考慮良率了?
在當(dāng)前的半導(dǎo)體制程不斷往7nm以下發(fā)展時,EUV光刻機(jī)就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺積電、三星、英特爾和SK海力士等企業(yè)的EUV光刻機(jī)紛紛到位,這些頂級半導(dǎo)體制造廠商和EUV光刻機(jī)的唯一制造者ASML還有另一個問題需要擔(dān)心,那就是光罩防塵膜。
90%透射率這道坎
光刻機(jī)防塵膜 / 三井化學(xué)
光罩防塵膜是一種透明的薄膜,主要用于保護(hù)昂貴的光罩,保持清潔,以此提高半導(dǎo)體生產(chǎn)效率。盡管光刻機(jī)一般都位于相當(dāng)嚴(yán)格的潔凈室內(nèi),EUV光刻機(jī)面世初期也有不少人認(rèn)為EUV不需要防塵膜,因?yàn)椴粫霈F(xiàn)顆粒的存在,但實(shí)際情況下還是難免避免生產(chǎn)過程中雜質(zhì)的出現(xiàn)。據(jù)ASML的說法,EUV每曝光1萬次就會生成一個雜質(zhì)顆粒。通過使用防塵膜,晶圓廠可以有效避免污染而產(chǎn)生的缺陷。
雖然這是一個有效解決晶圓缺陷的辦法,卻影響了光刻機(jī)的光線透射。被防塵膜吸收的紫外光線雖然肉眼看不出,但在光刻機(jī)的表現(xiàn)上就成了功耗損失。當(dāng)前DUV防塵膜的透射率都已經(jīng)做到了99%以上,EUV防塵膜卻始終差強(qiáng)人意。因此,ASML和相關(guān)代工廠商都在研究如何生產(chǎn)出透射率更高的防塵膜。
然而,ASML因?yàn)樾枰獙P娜プ鯡UV光刻機(jī)的生產(chǎn)開發(fā),很難再兼顧防塵膜的生產(chǎn),而且在他們的研究下,透射率一直進(jìn)展緩慢。2016年,ASML推出的首批EUV防塵膜只有78%左右的透射率。2019年時,經(jīng)過了一段時間的持續(xù)研發(fā),平均透射率也僅僅提升了3.5%,達(dá)到83%的水平。
三星更是明確表示,不到90%以上的透射率不會使用EUV防塵膜。畢竟在當(dāng)前半導(dǎo)體缺貨的情況下,透射率下降影響的是產(chǎn)量,而沒用防塵膜最多只能影響小部分良率。因此,當(dāng)前無論是三星和臺積電都沒有在EUV光刻機(jī)上使用防塵膜。
除了透射率之外,EUV的防塵膜還有兩道坎,那就是散熱和成本問題,不過這兩個問題其實(shí)也和透射率一樣,都可能要從材料上解決。
離正式使用還有多久?
EUV防塵膜 / 三井化學(xué)
為此,2019年5月31日,ASML與日本三井化學(xué)公司達(dá)成協(xié)議,前者將EUV防塵膜技術(shù)授權(quán)給三井化學(xué),由多年防塵膜生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的后者來負(fù)責(zé)生產(chǎn)。ASML聯(lián)手加拿大企業(yè)Teledyne負(fù)責(zé)EUV防塵膜技術(shù)的開發(fā),而三井則在日本大竹市進(jìn)行防塵膜生產(chǎn)。
今年5月,ASML韓國銷售經(jīng)理提到,經(jīng)過與Teledyne的攜手開發(fā),他們已經(jīng)可以將EUV防塵膜做到90.6%的透射率,可以實(shí)現(xiàn)400W的持久功率。三井化學(xué)也在同月26日發(fā)布消息,正式宣布EUV防塵膜開始商用量產(chǎn)。
生產(chǎn)EUV防塵膜的并不只有三井化學(xué)一家,韓國企業(yè)FST和S&S Tech同樣在生產(chǎn)相關(guān)產(chǎn)品,三星作為這兩家廠商的大客戶,也向他們投資了不少資金。就拿FST來說,利用碳納米管材料,他們也成功將透射率做到了90%以上,還推出了自動安裝和檢測防塵膜的設(shè)備工具。畢竟在運(yùn)用EUV防塵膜的生產(chǎn)過程中,防塵膜上的顆粒檢測和防塵膜清洗與替換也是相當(dāng)耗時耗力的步驟。
不過,別說是保證半導(dǎo)體生產(chǎn)的良率了,這兩家的EUV防塵膜尚在研發(fā)或初期階段,自己的良率還沒保證,雖然EUV防塵膜已經(jīng)變?yōu)樗麄兊难邪l(fā)重心,但與ASML和三井化學(xué)相比,還有一段差距。
然而,韓媒報道,三星這家韓國巨頭很可能還是會用ASML自家的光罩防塵膜。因?yàn)镋UV光刻機(jī)只有ASML一家制造,如果不用他們自己推薦的防塵膜,很可能難以保證后續(xù)的售后維護(hù)工作,十幾億元一臺的機(jī)器,壞了沒處修可就難辦了。
碳納米管EUV防塵膜 / IMEC
比利時微電子研究中心(IMEC)其實(shí)也在研究EUV防塵膜,他們將多片碳納米管防塵膜安裝在NXE:3300 EUV光刻機(jī)上,測得單次極紫外光的透射率可高達(dá)97%,所能承受的功率更是可以達(dá)到600W。
結(jié)語
雖然已有EUV防塵膜開始投入量產(chǎn),但業(yè)內(nèi)人士爆料,三星很可能會在2023年才開始在EUV光刻機(jī)上使用防塵膜。畢竟即便是90.8%的透射率,依然對產(chǎn)量會有一定影響,與DUV光刻機(jī)99%以上的透射率相比,還是有差距。目前基本所有晶圓廠都在滿載運(yùn)行,在產(chǎn)量和良率的抉擇上,影響更小的后者明顯不是首選。
在當(dāng)前的半導(dǎo)體制程不斷往7nm以下發(fā)展時,EUV光刻機(jī)就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺積電、三星、英特爾和SK海力士等企業(yè)的EUV光刻機(jī)紛紛到位,這些頂級半導(dǎo)體制造廠商和EUV光刻機(jī)的唯一制造者ASML還有另一個問題需要擔(dān)心,那就是光罩防塵膜。
90%透射率這道坎
光刻機(jī)防塵膜 / 三井化學(xué)
光罩防塵膜是一種透明的薄膜,主要用于保護(hù)昂貴的光罩,保持清潔,以此提高半導(dǎo)體生產(chǎn)效率。盡管光刻機(jī)一般都位于相當(dāng)嚴(yán)格的潔凈室內(nèi),EUV光刻機(jī)面世初期也有不少人認(rèn)為EUV不需要防塵膜,因?yàn)椴粫霈F(xiàn)顆粒的存在,但實(shí)際情況下還是難免避免生產(chǎn)過程中雜質(zhì)的出現(xiàn)。據(jù)ASML的說法,EUV每曝光1萬次就會生成一個雜質(zhì)顆粒。通過使用防塵膜,晶圓廠可以有效避免污染而產(chǎn)生的缺陷。
雖然這是一個有效解決晶圓缺陷的辦法,卻影響了光刻機(jī)的光線透射。被防塵膜吸收的紫外光線雖然肉眼看不出,但在光刻機(jī)的表現(xiàn)上就成了功耗損失。當(dāng)前DUV防塵膜的透射率都已經(jīng)做到了99%以上,EUV防塵膜卻始終差強(qiáng)人意。因此,ASML和相關(guān)代工廠商都在研究如何生產(chǎn)出透射率更高的防塵膜。
然而,ASML因?yàn)樾枰獙P娜プ鯡UV光刻機(jī)的生產(chǎn)開發(fā),很難再兼顧防塵膜的生產(chǎn),而且在他們的研究下,透射率一直進(jìn)展緩慢。2016年,ASML推出的首批EUV防塵膜只有78%左右的透射率。2019年時,經(jīng)過了一段時間的持續(xù)研發(fā),平均透射率也僅僅提升了3.5%,達(dá)到83%的水平。
三星更是明確表示,不到90%以上的透射率不會使用EUV防塵膜。畢竟在當(dāng)前半導(dǎo)體缺貨的情況下,透射率下降影響的是產(chǎn)量,而沒用防塵膜最多只能影響小部分良率。因此,當(dāng)前無論是三星和臺積電都沒有在EUV光刻機(jī)上使用防塵膜。
除了透射率之外,EUV的防塵膜還有兩道坎,那就是散熱和成本問題,不過這兩個問題其實(shí)也和透射率一樣,都可能要從材料上解決。
離正式使用還有多久?
EUV防塵膜 / 三井化學(xué)
為此,2019年5月31日,ASML與日本三井化學(xué)公司達(dá)成協(xié)議,前者將EUV防塵膜技術(shù)授權(quán)給三井化學(xué),由多年防塵膜生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的后者來負(fù)責(zé)生產(chǎn)。ASML聯(lián)手加拿大企業(yè)Teledyne負(fù)責(zé)EUV防塵膜技術(shù)的開發(fā),而三井則在日本大竹市進(jìn)行防塵膜生產(chǎn)。
今年5月,ASML韓國銷售經(jīng)理提到,經(jīng)過與Teledyne的攜手開發(fā),他們已經(jīng)可以將EUV防塵膜做到90.6%的透射率,可以實(shí)現(xiàn)400W的持久功率。三井化學(xué)也在同月26日發(fā)布消息,正式宣布EUV防塵膜開始商用量產(chǎn)。
生產(chǎn)EUV防塵膜的并不只有三井化學(xué)一家,韓國企業(yè)FST和S&S Tech同樣在生產(chǎn)相關(guān)產(chǎn)品,三星作為這兩家廠商的大客戶,也向他們投資了不少資金。就拿FST來說,利用碳納米管材料,他們也成功將透射率做到了90%以上,還推出了自動安裝和檢測防塵膜的設(shè)備工具。畢竟在運(yùn)用EUV防塵膜的生產(chǎn)過程中,防塵膜上的顆粒檢測和防塵膜清洗與替換也是相當(dāng)耗時耗力的步驟。
不過,別說是保證半導(dǎo)體生產(chǎn)的良率了,這兩家的EUV防塵膜尚在研發(fā)或初期階段,自己的良率還沒保證,雖然EUV防塵膜已經(jīng)變?yōu)樗麄兊难邪l(fā)重心,但與ASML和三井化學(xué)相比,還有一段差距。
然而,韓媒報道,三星這家韓國巨頭很可能還是會用ASML自家的光罩防塵膜。因?yàn)镋UV光刻機(jī)只有ASML一家制造,如果不用他們自己推薦的防塵膜,很可能難以保證后續(xù)的售后維護(hù)工作,十幾億元一臺的機(jī)器,壞了沒處修可就難辦了。
碳納米管EUV防塵膜 / IMEC
比利時微電子研究中心(IMEC)其實(shí)也在研究EUV防塵膜,他們將多片碳納米管防塵膜安裝在NXE:3300 EUV光刻機(jī)上,測得單次極紫外光的透射率可高達(dá)97%,所能承受的功率更是可以達(dá)到600W。
結(jié)語
雖然已有EUV防塵膜開始投入量產(chǎn),但業(yè)內(nèi)人士爆料,三星很可能會在2023年才開始在EUV光刻機(jī)上使用防塵膜。畢竟即便是90.8%的透射率,依然對產(chǎn)量會有一定影響,與DUV光刻機(jī)99%以上的透射率相比,還是有差距。目前基本所有晶圓廠都在滿載運(yùn)行,在產(chǎn)量和良率的抉擇上,影響更小的后者明顯不是首選。
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