晶圓制造企業不僅是電力“黑洞”，同時也是用水怪獸。

近段時間以來，中國臺灣地區缺水危機日益嚴峻，也影響到用水大戶臺積電，甚至不少人開始擔心曠日持久的缺芯問題。那么，晶圓制造過程中水的角色到底有多重要？具體到臺積電，用水量又是如何？臺積電缺水會對世界有哪些影響？本文我們將對此逐一分析。

“用水怪獸”，晶圓廠名副其實

半導體產業是名副其實的“水老虎”，在制造過程中需要依賴大量的水源，尤其是半導體制程需要使用超純水（Ultrapure water），而制作超純水的過程要使用幾倍的自來水，用水量相當驚人。

超純水（UPW）是被凈化到高規格水平的水，其干凈程度大約是自來水的1000倍。其標準是，水中僅含有H20，以及適度數量的H+和OH-離子。其電阻率為18.2MΩ.cm、TOC <10 ppb、細菌數<10 CFU/ml。這種水平的純度使其成為實驗室工作的完美試劑，最常用于半導體和制藥行業。

為何晶圓生產要用到如此純凈的水？美國半導體工業協會（SIA）環境健康與安全主管Tom Diamond解釋道：“加工晶圓有很多步驟，其中一個常見的步驟稱為‘chemmech’，是化學機械拋光的縮寫。化學部分是細砂漿，機械部分是拋光墊。表面拋光后，需要用超純水將漿液洗掉。這些電路非常小，在某些情況下只有32納米寬，并且盡可能緊密地塞在一起。用飲用水清洗時，水蒸發后會看到斑點，這些斑點來自溶解在水中的礦物質。這些礦物質分子可能會使數百個電路短路，這就是水必須如此純凈的原因。”

此外，產生超純水所需的處理過程取決于水源的質量和制造過程的要求。“所需的超純水量取決于許多因素，比如200毫米晶圓的用水量少于300毫米晶圓；與邏輯芯片相比，存儲芯片所需的層數更少，而層數越多，所需的水就越多。”Diamond繼續分析。行業統計數據表明，在300mm晶圓上創建集成電路總共需要大約2200加侖的水，其中就有1500加侖是超純水。

正如Diamond所言，半導體制造過程中都需要用水反復清洗芯片基底，蝕刻圖案，拋光層和沖洗組件。其主要原因就在于涉及到晶圓制程的良率問題，而且一旦沒處理好甚至可能讓整座晶圓廠停擺。

臺積電官網也介紹到，半導體零配件的清洗成果對晶圓良率的影響非常大。零配件如果表面脆弱、或者是有細微分子殘留，將會成為晶圓生產過程的污染源，尤其邁入高級制程后，一些過去沒有影響良率的細微分子，也因為制程線徑縮小，成為影響品質的關鍵。

臺灣媒體此前就介紹過，為了提高12英寸晶圓廠的制程良率，以往是每25片晶圓集中清洗，后來就改成一片片單獨清洗，大幅提高良率。

另外，隨著先進制程的提高，超純水用量也會隨之增大。據了解，隨著制作工藝技術越來越先進，對實際制造的幾個環節也提出了新要求，對于晶圓的潔凈度要求也不斷增加，清洗環節的重要性日益凸顯，為了增強清洗效果，最直接的措施是增加清洗的步驟。在90nm工藝節點制程下，只需要90次左右的清洗步驟就可以達到較好的良率。但是在下一代65nm工藝節點時，清洗步驟增加到140步左右。而到22nm/20n節點，清洗步驟增加到210次左右。

如此多次頻繁的清洗，具體用水量如何？數據顯示，在產能在4萬片每月的200mm晶圓廠中，一天用水量約為8000到10000 噸，其中70%是用來生成超純水。但是到16nm，7nm工藝，同樣產能為4萬片的12英寸晶圓廠，每天用水量大概是20000噸。

按照IC Insight數據，如果全球晶圓廠產能增加量按照200mm等效晶圓計算，全球晶圓產能在2020年至2022年三年增加量分別為1790萬片，2080萬片和 1440萬片，按照這個數字計算，用水量將是無比巨大的！

與之相對應，晶圓廠還需為此付出不低的成本。據了解，每個半導體晶圓廠的成本可能高達25億美元，其中很大一部分資本支出是與水相關的系統。UPW系統的成本約為總資本成本的1-1.5％，約為25-40百萬美元。半導體行業每年在水和廢水處理系統和服務上的支出約為10億美元。

臺積電苦“水”久矣

據TrendForce 2021年第一季度全球晶圓代工營收排名，臺積電以56%的份額在市占率方面排名第一。按照這個市占，如果說晶圓廠是“用水怪獸”，那么臺積電就是“超級怪獸”。

目前臺積電卻飽受缺水危機。臺積電的主要工廠處于中國臺灣，該地區本該是全球降雨量最多的地區之一。然而2020年全年都沒有臺風登陸，而且很少下雨，這使中國臺灣陷入56年來最嚴重的干旱，久旱不雨，多數主要水庫蓄水率持續下探，尤以新竹以南最為嚴峻，截至到4月22日的數據，寶山第二水庫蓄水率為5.8%、德基水庫3.9%、鯉魚潭水庫6.4%、曾文水庫9%。

在嚴重缺水的情況下還要面對現實用水問題，中國臺灣人口較多且有大量的工業，特別是半導體代工企業如臺積電等用水大戶。據悉，匯集半導體、面板等科技大廠的新竹科學園區（竹科），年產值逾一萬億元新臺幣，每日用水量約十五萬噸，占新竹地區每日用水量近三成。

這其中，臺積電是中國臺灣地區科學園區產值最高的廠商，也是用水超級大戶。據臺積電2019年度企業社會責任報告書顯示，臺積電在新竹、中部與南部科學園區三大園區內的廠區每日用水量約15.6萬噸，約占供應園區的主要水庫每日供水量的5%。換算成比較直觀的數據，這么大的用水量足以滿足60多個奧林匹克規模的游泳運動池。

據悉，臺積電每年需消耗約160億噸淡水，目前臺積電已經實現了86%的廢水回收利用率，平均每升水可重復利用3-4次，但仍然消耗巨大。

對于半導體制造廠商來說，每天的用水量巨大，如果供水出現問題，恐影響生產。為了減少用水量同時也為了緩解缺水危機，中國臺灣也同步采取了多項措施。一是相關部門要求產業界提出節水計劃，臺積電被要求將用水量減少7%以上。臺積電發言人還表示，“臺當局”將撥款170億元新臺幣（約合39億元人民幣），在2026年之前建造11座水回收廠。

臺積電正面臨著嚴峻的缺水危機，據臺媒經濟日報最新消息，市場傳出，考量中國臺灣缺水缺電，臺積電計劃轉移產能，將中國臺灣大約2萬片的12英寸28納米以下成熟型制程設備，移至中國大陸南京廠，等于南京廠產能將擴增一倍。雖然此消息并未得到證實，但也從側面說明缺水對臺積電的影響。

臺積電“水”荒，全球“芯”荒

臺積電的生產要看“水”，全球半導體產業則要看臺積電。如前文所述，臺積電這一家企業就占據了全球過半的晶圓代工市場。另外，在目前已生產的全球最先進制程節點中，臺積電幾乎占據了90% 的市場占有率。在2020年，美國老牌芯片廠商英特爾以及高通紛紛將更先進制程工藝的芯片代工訂單交給了臺積電。

除了手握大量訂單，臺積電也掌握著最先進的制程工藝。目前其在7nm、5nm方面已經領先全球，3nm制程的研發和量產也日益臨近。可以預期的是，隨著科技創新，5G、智能手機、IoT 等對先進制程需求也愈加旺盛，而離開臺積電，很多公司是“玩不轉”的。

美國金融研究公司InvestorPlace甚至曾撰文指出：“毫不夸張地說，臺積電是世界上最重要的公司——因為它的制造優勢，造就這樣的地位。”

事實確實如此，現如今全球“缺芯潮”的席卷之下，更突顯臺積電的重要地位。始于2020年上半年的“缺芯潮”，最早在汽車領域爆發，并在汽車、消費電子等行業引發了一系列連鎖反應，停產停工、出貨延期、產品漲價等問題不斷擴大。為了緩解缺芯的壓力，作為全球晶圓產能最高的地區，中國臺灣已受到來自美、日、歐等汽車大國的多方壓力，要求確保芯片的穩定供應，而臺積電更是成為全球產業的戰略焦點。消息報道稱，在中國臺灣“經濟部長”王美花與臺積電高層交談之后，臺積電表態，如果能夠進一步增加產能，該公司將優化芯片生產流程，提高效率，并優先考慮生產汽車芯片。

禍不單行，此次的缺水危機無疑加重了“缺芯”危機。臺媒“聯合報”報道稱，為不耽誤生產，包括臺積電、聯電、世界先進在內的中國臺灣半導體大廠已從2月23日起先后宣布啟動水車供水，提高水資源的利用效率。臺積電在回復彭博社的郵件中確認，公司已經開始削減用水量。

缺水導致芯片生產出現問題，可能加劇全球各行業芯片供應緊張局面。臺積電CEO魏哲家在第一季度財報會上就表示，全球“缺芯”局面可能延續到2022年。

此外，如果干旱缺水的狀態長期持續，還可能限制臺灣晶圓廠擴產計劃。根據擴建方案，臺積電計劃新建4座2nm芯片加工廠，每天新增用水量達12萬噸，但眼下整個新竹園區的用水量顯然無法滿足其需求，擴建計劃或要推遲一到兩年。也就是說，臺積電領先全球的2nm芯片量產可能要被推遲到2024年之后。

為了緩解缺水危機，臺積電已經啟動水車的辦法。但這方法也只能起到“杯水車薪”的效果，據了解，臺積電全臺廠區日用水量達15.89萬噸，若全以水車載水，每天要達近8000車次。另外，最新的消息稱臺積電正在建設一座能夠處理工業用水的工廠，以便將水可以再利用，用于制造半導體。無論是哪種方式，勢必都將增加臺積電的運營成本，我們不得不從長遠思考，如果缺水問題遲遲未解，這成本是否會讓客戶買單？

結語：按照往年規律，中國臺灣將在5～6月迎來梅雨季節，因此目前全球對于缺水問題也存在樂觀看法。但世事難料，風云難測，如果今年也像2020年一樣少雨的話，勢必會對全球范圍內的半導體不足問題帶來進一步影響。無論如何，臺積電和其他芯片制造商都需要為最壞的情況做準備了。

編輯：jq