據媒體報道,光刻機巨頭ASML(阿斯麥)日前宣布,將在中國臺灣的南部科學園區建立自己在海外(荷蘭之外)的首個培訓中心,旨在就近輔導臺積電所領導EUV光刻制造集群。
所謂EUV即極紫外光刻,目前全球有且只有ASML可以生產相關機器。光刻是半導體芯片制造中最費時間也是最費成本的環節之一,而且它決定了芯片的工藝水平,常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平。
臺積電的第一代7nm因為趕進度,沒有使用EUV,而是DUV(深紫外光刻),不過隨著7nm的改良以及5nm量產、3nm風險試產的進行,EUV開始更多導入。
ASML今年二季度的財報顯示,雖然僅僅出貨了9臺光刻機,但凈利潤高達7.51億歐元。畢竟,一臺EUV光刻機的售價就達到約合10億元人民幣左右。
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