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Intel重申未來(lái)將重新回到2年一個(gè)周期的工藝升級(jí)路線 5nm工藝研發(fā)也已經(jīng)開始

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來(lái)源:快科技 ? 作者:憲瑞 ? 2019-12-25 09:50 ? 次閱讀

Intel的聯(lián)合創(chuàng)始人戈登·摩爾是半導(dǎo)體業(yè)界黃金定律“摩爾定律”的提出者,Intel公司50多年來(lái)也是這一定律最堅(jiān)定的捍衛(wèi)者。但是這幾年來(lái),Intel自己反而在制程工藝上掉隊(duì)了,甚至被小兄弟AMD用7nm超越了,今年的場(chǎng)面一度十分尷尬。

不過AMD對(duì)工藝趕超Intel一事也很意外,而且他們很清楚地知道Intel公司會(huì)搞定眼前的困難的,CPU架構(gòu)及工藝上絕不可能輕敵,Intel現(xiàn)在只是在進(jìn)度上落后了,并不代表他們沒技術(shù)。

日前Intel也給自己的2019年做了一個(gè)總結(jié),其中多次提到了摩爾定律及自家的工藝進(jìn)展。Intel指出2019年他們供應(yīng)了更多的芯片以滿足市場(chǎng)需求,其中10nm工藝的就有Ice Lake及Agilex FPGA兩款產(chǎn)品進(jìn)入了HVM大規(guī)模量產(chǎn)階段。

此外,Intel還重申他們?cè)谖磥?lái)會(huì)重新回到2年一個(gè)周期的工藝升級(jí)路線上來(lái),7nm工藝將在2021年推出,目前進(jìn)展順利,而5nm工藝研發(fā)也已經(jīng)開始,這些先進(jìn)的工藝將使得晶體管越來(lái)越小,集成度更高。

不過Intel依然沒有公布7nm及5nm工藝的具體細(xì)節(jié),我們現(xiàn)在知道的是7nm會(huì)是Intel首個(gè)使用EUV光刻技術(shù)的工藝,2021年首發(fā)于7nm Xe架構(gòu)的數(shù)據(jù)中心芯片Ponte Vecchio,至于5nm工藝的進(jìn)度及技術(shù)就欠奉了。

對(duì)Intel來(lái)說(shuō),2021年倒是好期待,但是難題在于2020年,10nm芯片今年只是出貨了面向移動(dòng)市場(chǎng)的低功耗版Ice Lake,高性能版的桌面版、服務(wù)器版Ice Lake要到明年下半年,在這之前14nm處理器還要再維持一兩代。
責(zé)任編輯:wv

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