盡管2019年Intel已經(jīng)量產(chǎn)了10nm工藝,但是因為多年延期,導(dǎo)致10nm工藝進度沒跟上,目前還處于產(chǎn)能爬坡階段,以致于Intel的處理器出現(xiàn)供應(yīng)短缺的問題。為了徹底解決這些問題,Intel還在努力推進7nm工藝,最快2021年量產(chǎn)。
7nm是Intel下一代工藝的重要節(jié)點,而且是高性能工藝,其地位堪比現(xiàn)在的14nm工藝,而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝,意義重大。
根據(jù)Intel之前公布的信息,其7nm EUV工藝相比10nm工藝晶體管密度翻倍,每瓦性能提升20%,設(shè)計復(fù)雜度降低了4倍。
7nm工藝的首款產(chǎn)品就是Xe架構(gòu)的GPU加速芯片,主要應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心AI及高性能計算,最快2021年量產(chǎn),也就是2年后7nm EUV就能擔大梁了。
目前Intel正在加速7nm EUV工藝的步伐,今年8月份就訂購用于7nm EUV工藝節(jié)點的材料和設(shè)備,比預(yù)期速度更快。
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