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電子發燒友網>制造/封裝>工藝綜述>研發進度落后,商業化進程緩慢 - 光刻技術領域的期盼與黯淡

研發進度落后,商業化進程緩慢 - 光刻技術領域的期盼與黯淡

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2021-04-26 08:47:5826

恩智浦攜手OPPO在VOOC閃充技術領域技術拓展

在剛剛結束的MWC上海展上,恩智浦攜手OPPO,宣布將進一步助力其在VOOC閃充技術領域技術拓展。作為VOOC閃充技術生態圈的新伙伴,恩智浦將為OPPO提供40W車載無線快充方案,讓消費者能夠在車
2021-05-18 11:34:312070

光刻機原理介紹

光刻機,是現代光學工業之花,是半導體行業中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

光刻機干啥用的

光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產的光刻機,有用于LED制造領域光刻機,還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術,然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

印刷電子制造中的厚膜光刻技術

“厚膜光刻”工藝是一種通過厚膜金屬化技術(簡稱“厚膜技術”)與光刻技術相結合,達到高精度、低成本、高效率、高靈活性,并已開始成熟商用化的新型微納量產制造技術
2022-01-17 16:51:091400

2022年半導體最具發展潛力技術領域Top10進展報告

面面俱到的全景式分析會有千頭萬緒的紛雜之感。為理清半導體行業的發展脈絡,芯八哥選取了最具應用前景、最能產生實用價值和商用價值的十大技術領域,按上榜理由、應用前景、進展情況等多個維度來分別介紹這十大技術領域,幫
2022-01-20 16:17:231706

光刻工藝中使用的曝光技術

根據所使用的輻射,有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻光刻和離子束光刻。在光學光刻技術中,有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:533169

沉浸式光刻技術是什么 原理是什么

沉浸式光刻技術是在傳統的光刻技術中,其鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣,而所謂浸入式技術是將空氣介質換成液體。實際上,浸入式技術利用光通過液體介質后光源波長縮短來提高分辨率,其縮短的倍率即為液體介質的折射率。
2022-10-13 16:51:383044

計算光刻技術的發展

計算光刻 (Computational Lithography)技術是指利用計算機輔助技術來增強光刻工藝中圖形轉移保真度的一種方法,它是分辦率增強技術(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:222274

半導體光刻技術的起源與發展

光刻是半導體工業的核心技術。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發明單片集成電路以來,光刻一直是主要的光刻技術
2022-11-14 11:36:462288

聯網技術領域的“GaN 行動”態度

聯網技術領域的“GaN 行動”態度
2022-12-26 10:16:26345

前沿開源技術領域的開源大數據一一解讀

近日,OSCHINA 和 Gitee 聯合發布了《2022 中國開源開發者報告》。 其中?“前沿開源技術領域解讀” 部分,多位在其領域有所建樹的一線開發者和開源商業化公司創始人,對目前國內
2023-02-21 15:19:50786

GTC 2023:NVIDIA cuLitho將加速計算引入計算光刻技術領域的突破性成果

GTC 大會:NVIDIA cuLitho將加速計算引入計算光刻技術領域的突破性成果 在摩爾定律接近物理極限之際,半導體行業要怎么做?借助AI? 現在半導體開始采用NVIDIA在計算光刻技術領域
2023-03-22 19:29:3110234

GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍

為2nm及更先進芯片的生產提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載,每年消耗數百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術實現計算光刻,可以極大的降低功耗、節省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥,以及EDA巨頭新思科技都已經導入
2023-03-23 18:55:377489

智能發電主要涉及什么技術領域

智能發電主要涉及什么技術領域 智能變電涉及的技術領域主要包括變電站信息采集技術、智能傳感技術、實時監測技術、狀態診斷技術、自適應/自優化保護技術、廣域保護技術、協調控制技術和站內智能一次設備技術
2023-04-11 18:11:15636

什么是光刻技術

光刻技術簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術,CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

淺談光刻技術

在整個芯片制造過程中,幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術,占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033

一文講透光刻膠及芯片制造關鍵技術

在集成電路制造領域,如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”,光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381122

光學光刻技術有哪些分類 光刻技術的原理

光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發生化學反應,從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關,而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271

繞開EUV光刻,下一代納米壓印光刻技術從存儲領域開始突圍

電子發燒友網報道(文/李寧遠)提及芯片制造技術,首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業,光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:153009

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