摘要:闡述了電除塵(霧)油器高壓供電系統(tǒng)中的幾種不同供電技術(shù),及其對電除塵(霧)器的適應(yīng)性;并詳述了恒流供電技術(shù)的理論基礎(chǔ)。
1. 前言
隨著靜電技術(shù)的發(fā)展,電除塵和電除霧廣泛地應(yīng)用在硫酸工業(yè)上,其基本原理是讓塵粒和酸霧以荷電粒子在電場中受力作定向運(yùn)動為基礎(chǔ)的,因此為了提高沉積效率,除研究改進(jìn)電場本體的結(jié)構(gòu)外,供電方式的影響,也是靜電沉積領(lǐng)域的一個研究熱點(diǎn),磁飽和放大器電源、可控硅電源和L-C恒流電源先后均得到了廣泛應(yīng)用,其中磁飽和放大器電源由于其本身的弱點(diǎn)在電源特性、控制特性和功耗等缺陷,目前已很少使用,而L-C恒流電源由于其優(yōu)異的電源特性,從八十年代中期開始廣泛地被使用在電除塵(霧)器上。
2. 恒流源與可控硅電源運(yùn)行特性上的區(qū)別
可控硅電源
圖一 可控硅電源電路原理
如圖一所示,可控硅電源主要是通過兩個反向并聯(lián)的可控硅TH1,TH2控制高壓整流變壓器一次側(cè)電壓,整流變壓器將該電壓升壓后經(jīng)高壓硅堆整流處理得到所要求的直流電壓,改變可控硅的觸發(fā)角來調(diào)節(jié)高壓輸出的平均電壓,反饋控制的基本原理是通過反饋信號綜合放大與預(yù)置值進(jìn)行比較后控制可控硅的觸發(fā)角,達(dá)到控制輸出電壓的目的,其主要功能一是對信號綜合處理后確定輸出相位以決定可控硅的導(dǎo)通角,實(shí)現(xiàn)對負(fù)載的電壓跟蹤,二是在火花放電時,封鎖可控硅,從而達(dá)到熄弧或閃絡(luò)封鎖的目的。
從以上的原理性分析可以看出,可控硅電源是以電壓源供電為基礎(chǔ)的,因此可以用圖二來分析它所需要的反饋特性。由于塵粒和酸霧呈較高的比電阻,所以它的濃度增加將使本體對外的等效阻抗增加,這也是使用靜電沉積技術(shù)進(jìn)行靜電沉積的技術(shù)基礎(chǔ)。 I=U/Z p=UI=U2/Z
圖二 電壓源供電等效原理
如圖二所示U為電源電壓可以通過可控硅的導(dǎo)通角來改變,Z為電除塵器的等效阻抗,I為電除塵器的供電電流。所以根據(jù)歐姆定律得到表一的跟蹤特性。
表一 電壓源供電的負(fù)載跟蹤特性
濃度 |
Z |
I |
功率 |
效率 |
↑ |
↑ |
↓ |
↓ |
↓ |
↓ |
↓ |
↑ |
↑ |
↑ |
另一方面,當(dāng)電除塵油器內(nèi)部發(fā)生火花放電時,則Z為火花通道的等效阻抗,隨著放電的發(fā)展Z是下降的,若發(fā)展到電弧,只有幾個歐姆,但需要不斷注入能量,因此根據(jù)圖二將得到表二的結(jié)果。
表二 電壓源供電的火花抑制特性
放電 | 電阻 | 電流 | 功率 | 效果 |
↑ | ↓ | ↑ | ↑ | 不能抑制 |
由以上的分析可以得出這樣一個結(jié)果,用電壓源供電時電源的輸出功率與塵粒和酸霧濃度的變化成負(fù)反饋,而與火花放電的發(fā)展成正反饋,因此可控硅電源的工作基礎(chǔ)是反饋控制回路的特性,目前由于計(jì)算機(jī)控制技術(shù)的使用,使得可控硅電源的可靠性和運(yùn)行性能得到了很大的發(fā)展,但由于可控硅是被動關(guān)斷器件,在導(dǎo)通周期以內(nèi)是不受控的,所以火花擊穿的臨界電壓較低,電暈電流也難以控制,影響沉積效果。
恒流電源
圖三 HL-Ⅲ 恒流電源電路原理
恒流高壓直流電源的電路包括三個部分,如圖三所示,第一部分L-C變換器,它是由電感L和電容C組成的一個四端網(wǎng)絡(luò),將電壓源轉(zhuǎn)換成電流源,第二部分直流高壓發(fā)生器,主要由高壓變壓器和整流橋組成,第三部分反饋控制主要由半導(dǎo)體器件和接觸器構(gòu)成。
圖四 電流源供電等效原理圖
如圖四所示,是用電流源供電的物理模型,I為電流源的輸出電流,可以通過L-C組的數(shù)量等方式來調(diào)節(jié),Z為電除塵器的等效阻抗,U為電除塵器的供電電壓,所以根據(jù)歐姆定律得到表三的跟蹤特性。
表三 電流源供電的負(fù)載跟蹤特性
濃度 |
Z |
I |
功率 |
效率 |
↑ |
↑ |
↑ |
↑ |
↑ |
↓ |
↓ |
↓ |
↓ |
↓ |
當(dāng)電除塵器內(nèi)部發(fā)生火花放電時,用電流源供電時則得到如表四的火花抑制特性。
表四 電流源供電的火花抑制特性
放電 | 電阻 | 電流 | 功率 | 效果 |
↑ | ↓ | ↓ | ↓ | 抑制 |
3. 恒流源的技術(shù)特點(diǎn)及工業(yè)應(yīng)用實(shí)例:
恒流源供電能顯著提高除塵器的運(yùn)行電壓
電場某一局部由電暈放電向火花擊穿過渡是需要時間和功率的,脈沖供電控制電壓脈沖寬度,使得電場還來不及發(fā)展成火花擊穿,電壓脈沖就結(jié)束了,于是提高了火花擊穿的臨界電壓,對可控硅電源來說,可控硅一旦導(dǎo)通切出一塊電壓U以后,向放電區(qū)饋送的功率為U2/Z,由電暈放電向火花擊穿過渡時,放電區(qū)的等效電阻Z隨離子濃度的增加面減小,這就促使U2/Z更大,放電更容易發(fā)展,Z進(jìn)一步降低,這相當(dāng)于一個正反饋的物理過程,于是很容易導(dǎo)致火花擊穿,而電流源供電時,情況正好相反,這時向放電饋送的功率為I2R,R減小I2Z也減小,抑制了放電的進(jìn)一步發(fā)展,這相當(dāng)于一個負(fù)反饋的物理過程,因此火花擊穿的臨界電壓明顯提高。
以吉化公司染料廠為例,在硫酸電除塵器上做了一次典型的對比試驗(yàn),數(shù)據(jù)如表所示,試驗(yàn)所用的電場是該廠自行設(shè)計(jì),上海冶礦廠制造,流通面積約30m2,靜態(tài)空氣介質(zhì)。
表五 不同供電方式的火花擊穿電壓
電源種類 | 電暈電流mA | 火花擊穿電壓kv | 說明 |
可控硅電源(大連) | 90 | 38 | 頻繁火花擊穿 |
可控硅電源(福建) | 110 | 40 | 頻繁火花擊穿 |
可控硅電源(日本) | 120 | 40 | 頻繁火花擊穿 |
HL-Ⅱ恒流電源 | 200 | 56 | 尚未擊穿 |
恒流供電能保證足夠的電暈電流而不容易轉(zhuǎn)化為貫穿性的火花擊穿,實(shí)現(xiàn)電壓自動跟蹤。
可控硅電源供電時,控制量實(shí)際上是電壓,而電流是隨機(jī)量。在阻抗?jié)舛容^大,集塵極積塵較厚時,電暈電流往往變得很小。電流源供電時,控制量是電流。不論工況如何,電暈電流是可以根據(jù)需要來確定的,而電壓是隨機(jī)量,與前者正好形成對偶關(guān)系。
電源源供電可以輕而易舉地實(shí)現(xiàn)電壓自動跟蹤,而不需要任何反饋控制電路。例如含塵(霧)濃度增加時,宏觀體現(xiàn)為放電區(qū)的等效電阻增大。由于外電路提供的電流不變,所以電場上的電壓就自然上升了。此外,能有效克服電暈電流"閉塞"現(xiàn)象,對電極肥大的適應(yīng)性也較強(qiáng),電極肥大或集塵極積塵加厚時,電壓同樣會自動上升,而可控硅電源供電時,在上述情況下,電壓需要通過反饋來控制可控硅的導(dǎo)通角來提高電壓,這就必然帶來幾個工頻周期的延時,若電源和本體配置不當(dāng),導(dǎo)通角已到最大,則控制無法進(jìn)行,只能是電流下降的結(jié)果。
因此,恒流供電能大大提高沉積效率,由于采用恒流供電技術(shù),注入到電場的電功率增加,所以除塵除霧效率得到了明顯的提高。這可以從表六中數(shù)據(jù)得到反映。
表六 一級電霧主風(fēng)機(jī)出口含量(mg/m2)
使用廠家 | HL-Ⅱ恒流電源 | 可控硅電源 | 說明 |
河北井陘磷肥廠 | 0.00-0.10 | ? | 南化研究院測試 |
山東來茜磷肥廠 | 3.67 | 24.76 | ? |
上海吳涇化工總廠硫酸廠 | 3.10 | 29.00 | 二個月的統(tǒng)計(jì)平均值 |
廣西靈川化肥廠 | 7.00 | ? | ? |
吉化公司染料廠 | 2.00 一級電霧 | ≥6.00二級電霧 | ? |
運(yùn)行可靠性高
我廠恒流源沒有復(fù)雜的電子線路,無接插件,允許高壓持續(xù)短路和突發(fā)短路(相當(dāng)于電場的頻繁火花放電),不會燒壞任何元件。
對于除酸霧的塑料電場本體來說恒流還有一個重要意義,當(dāng)火花擊穿時,不易燒穿塑料陽極筒壁。
節(jié)電效果明顯
功率因素高,COSφ=0.9~1 。而且不隨運(yùn)行的功率水平變化,可以顯著降低前級供電變壓器的容易并節(jié)能。
高壓發(fā)生器的體積重量比可控硅電源小得多,在一些無防爆要求的場合,高壓發(fā)生器可以直接裝在電場本體頂部。
具有過電壓、持續(xù)欠電壓和過氧保護(hù)電路,能自動報(bào)警和跳閘。
L-C 電源的出現(xiàn),給靜電沉積技術(shù)帶來了新的特點(diǎn),在化工、冶金、建材、紡織和發(fā)電等行業(yè)的實(shí)際應(yīng)用中,取得了始料未及的效果,運(yùn)行效率明顯提高。現(xiàn)列出幾個廠家使用恒流源除酸霧實(shí)測數(shù)據(jù)。
工業(yè)應(yīng)用實(shí)例:
貴州平壩化肥廠1989年籌建4萬噸/年硫酸裝置,1992底峻工投產(chǎn),電除霧器的高壓整流采用我廠HL-Ⅱ恒流高壓直流電源自92年投運(yùn)至今通過短路、開路、噴水試驗(yàn)均達(dá)到技術(shù)要求。1993年測得平均酸霧含量見表
表七 貴州平壩化肥廠硫酸電除霧月平均酸霧含量統(tǒng)計(jì)表
月份 |
3 |
4 |
5 |
9 |
10 |
11 |
12 |
平均酸霧含量(g/m3) |
0.00229 |
0.0053 |
0.00169 |
0.0068 |
0.0032 |
0.0047 |
0.0032 |
無錫硫酸廠在三廢綜合治理改造中,硫酸生產(chǎn)能力擴(kuò)大到80ht/a為節(jié)省投資,凈化工序采用一級電除霧器(塑料集束管型216管)選用我廠HL-Ⅲ型靜電沉積用恒流高壓直流電源,用戶反映自1994年5月上旬硫酸生產(chǎn)系統(tǒng)投產(chǎn)后電源運(yùn)行情況十分良好,操作方便,穩(wěn)定性好,抗電暈閉塞能力強(qiáng),當(dāng)系統(tǒng)含塵較高和出現(xiàn)升華硫時,二次電壓自動升高,防止了礦塵和升華硫在電暈極上粘結(jié)。
表八 無錫硫酸廠95、96兩年月平均酸霧濃度
95年硫酸電除霧月平均出口酸霧統(tǒng)計(jì)表(g/m3)
1月 |
2月 |
3月 |
4月 |
5月 |
6月 |
7月 |
8月 |
9月 |
10月 |
11月 |
12月 |
0.0087 |
0.011 |
0.011 |
0.0073 |
0.0074 |
0.0080 |
0.0065 |
0.013 |
0.022 |
/ |
0.0099 |
0.0095 |
1月 |
2月 |
3月 |
4月 |
5月 |
6月 |
7月 |
8月 |
9月 |
10月 |
11月 |
12月 |
0.014 |
0.011 |
0.011 |
0.0085 |
0.011 |
0.0093 |
0.016 |
0.014 |
0.0075 |
0.0095 |
0.0061 |
0.011 |
韶關(guān)冶煉廠以生產(chǎn)精鉛、精鋅為主,年產(chǎn)量約20萬噸,硫酸14萬噸在鉛鋅礦的燒結(jié)過程中產(chǎn)生大量金屬粉塵和二氧化硫,在96年改造中采用HL-Ⅲ型恒流源用于二個系統(tǒng)的電除霧上,經(jīng)一年多運(yùn)行性能穩(wěn)定,出口酸霧量低于國家標(biāo)準(zhǔn)。
表九 九七年月平均出口酸霧含量統(tǒng)計(jì)表(g/m3)
1月 |
2月 |
3月 |
4月 |
5月 |
6月 |
7月 |
8月 |
9月 |
10月 |
11月 | |
一系統(tǒng) |
0.0031 |
0.0045 |
0.0032 |
0.0024 |
0.003 |
0.004 |
0.0028 |
0.0037 |
0.0038 |
0.0024 |
0.0016 |
二系統(tǒng) |
0.0054 |
0.005 |
0.0037 |
0.0039 |
0.0061 |
0.0037 |
0.0034 |
0.0053 |
0.0062 |
0.0028 |
0.0032 |
結(jié)束語
作為恒流技術(shù)本身是來自于中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所的一項(xiàng)軍工項(xiàng)目的單元技術(shù),作為這一技術(shù)拓展到靜電沉積領(lǐng)域是由該所創(chuàng)辦的上海激光電源設(shè)備有限公司開展的,經(jīng)過十年的發(fā)展,該產(chǎn)品已經(jīng)從最初的I型發(fā)展成目前約Ⅲ型,并形成了相關(guān)的多項(xiàng)專利,是1997年國家環(huán)保局最佳實(shí)用技術(shù)的依托單位,1994年的國家級重點(diǎn)新產(chǎn)品。
通過三千多臺套的工業(yè)應(yīng)用,我們得到了諸多領(lǐng)域的應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),并取得了顯著的社會效益和環(huán)境效益。