Meco公司研發(fā)出高效率晶硅太陽(yáng)能電池金屬鍍膜設(shè)備

?產(chǎn)品簡(jiǎn)介：Meco 工程設(shè)備公司(Meco Equipment Engineers)已研發(fā)出可為晶硅太陽(yáng)能電池進(jìn)行金屬鍍膜的電池柵線電鍍?cè)O(shè)備(Cell Plating Line，簡(jiǎn)稱(chēng)CPL)。該設(shè)備可通過(guò)超薄銀漿精細(xì)種子層提高電池效率，以便于批量生產(chǎn)。

????針對(duì)問(wèn)題：業(yè)內(nèi)生產(chǎn)商目前大都通過(guò)絲印厚膜銀漿為晶硅太陽(yáng)能電池進(jìn)行正面電鍍。通常情況下，為了獲得足夠的導(dǎo)電能力，絲網(wǎng)印刷接觸指寬達(dá)120微米。為提高電池效率，則需增大電池的活性面積(包括半導(dǎo)體層和接觸層)，即減少底紋，這就要求要減少接觸指的寬度。但是若絲網(wǎng)印刷接觸指長(zhǎng)寬比不當(dāng)，將導(dǎo)致接觸指電阻增大，從而限制電池效率的提高。

????解決方案：Meco公司CPL工藝使用超薄銀漿精細(xì)種子層，可以通過(guò)電鍍銀或者鎳-銅-錫來(lái)進(jìn)一步增強(qiáng)接觸指的導(dǎo)電能力。這既能形成精細(xì)的接觸指，又能有效減少電阻。該工藝不僅能將電池效率提高0.3-0.5%，還能大幅減少銀漿的使用量。新一代太陽(yáng)能電池中已通過(guò)激光燒穿接觸工藝對(duì)氮化硅(SiN)薄膜進(jìn)行處理，鑒于此CPL工藝十分適用于對(duì)晶硅進(jìn)行直接電鍍處理。這就使得進(jìn)一步提高電池效率的想法具有可行性。

????產(chǎn)品應(yīng)用：硅太陽(yáng)能電池的金屬鍍膜；正面或反面電鍍；同時(shí)進(jìn)行正反面電鍍過(guò)程(如雙面電池)

????相關(guān)信息：Meco公司CPL設(shè)備是一套完整的銀漿/鎳-銅-錫金屬鍍膜交鑰匙生產(chǎn)線。目前輸出功率有1500和3000塊/小時(shí)兩種，并可根據(jù)客戶(hù)有求進(jìn)行調(diào)整。每套CPL設(shè)備都配有自動(dòng)電池裝載系統(tǒng)(棧式及槽式均可)。由于電池在CPL生產(chǎn)線上進(jìn)行傳送時(shí)始終保持豎直狀態(tài)，其所受化學(xué)阻力的損害顯著小于水平傳送狀態(tài)下所受損害。CPL設(shè)備優(yōu)勢(shì)極為明顯，降低化學(xué)原料使用量的同時(shí)，大幅減少生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的廢水量。

?????上市時(shí)間：已上市