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標簽 > 掩膜
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在正性光刻過程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉移的關鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求: 圖案準...
光刻掩膜(也稱為光罩)和模具在微納加工技術中都起著重要的作用,但它們的功能和應用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術中常用的光刻工藝所使用的...
光刻掩膜版的制作是一個復雜且精密的過程,涉及到多個步驟和技術。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設計與準備 在開始制作光刻掩膜版之前,首先需要...
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側重,但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...
鉻版掩膜版在IC生產中會大量使用,現社會因為LCD生產的檔次提高了,也加大了生產量,鉻板也逐漸由IC行業給推薦至LCD行業。鉻板的優點很多,比如:線條精...
2024-09-05 標簽:掩膜 229 0
光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機藥品,一部分不感光,易溶于有機藥品,以而制得選擇擴散所...
為了成功紫外曝光并且根據所需要的分辨率,光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。 首先,光掩模和晶圓...
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