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在7月4日這一天,荷蘭半導體行業迎來了一個重大轉折點。由荷蘭半導體行業的領軍者組成的利益集團ChipNL,正式向新任首相迪克·斯霍夫領導的新一屆荷蘭內閣...
ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機,將芯片密度限制再縮小
ASML再度宣布新光刻機計劃。據報道,ASML預計2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(EUV),將縮小最高電晶體密度芯片的設計限制。 ASML前...
當地時間6月11日,光刻機巨頭ASML在 領英 平臺發文悼念公司創始人之一Wim Troost(維姆·特羅斯)離世。 據百能云芯電.子元器.件商.城了解...
2024-06-14 標簽:ASML 914 0
圈內突發噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創始人維姆?特羅斯特去世。 據外媒報道,在當地時間11日晚,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML...
來源:EETOP,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 從ASML社交帳號得知,ASML創始人之一維姆·特羅斯(Wim Troost) 離世。 ASML 在...
2024-06-13 標簽:ASML 318 0
阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用
近日,全球領先的半導體制造設備供應商阿斯麥(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實驗室正式...
今日看點丨ASML今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機質疑 LCC,產品經理回應
1. ASML 今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據報道,芯片制造設備商ASML今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數值...
近日,比利時微電子研究中心(IMEC)與全球光刻技術領軍企業阿斯麥(ASML)共同宣布,在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯合High-NA EUV光刻實驗室。
ASML創下新的EUV芯片制造密度記錄,提出Hyper-NA的激進方案
ASML在imec的ITF World 2024大會上宣布,其首臺High-NA(高數值孔徑)設備已經打破了之前創下的記錄,再次刷新了芯片制造密度的標準。
臺積電魏哲家與ASML高層會面,是否有意購買高數值孔徑極紫外光機臺?
此前,該公司首席執行官魏哲家曾明確表示,過早引入High-NA EUV并無太大經濟效益,直到日前其秘密訪問ASML總部,使市場猜測臺積電是否因此事發生重大轉變。
宿敵英特爾則積極投身于新興高數值孔徑超紫外光刻領域,已有數臺設備投入其芯片制造部門使用。據透露,英特爾正計劃在即將推出的18A(1.8納米)工藝節點中試...
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
來源:國芯網,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執行遠程...
ASML聯手荷蘭埃因霍溫理工大學投入1.8億歐元研發半導體技術
自成立以來,ASML一直在尋求新的發展機會,并不斷審視荷蘭埃因霍溫總部的人才資源及基礎設施是否能滿足其擴張需求。因此,ASML與埃因霍溫理工大學的合作不...
范登布林克指出,更高的數值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說,Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產流程,避免因使用 High NA 光刻機進行雙...
阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機 據彭博社爆料稱,有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔憂。對此,光刻機制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官...
歐洲芯片行業應強化研究與關鍵設備制造,避免過度追求尖端芯片制造
他進一步指出,全球最大設備制造商ASML的成功離不開德國光學及imec的研究貢獻。此外,歐洲還擁有諸如ASM International等小型卻重要的設備企業。
臺積電張曉強:ASML High-NA EUV成本效益是關鍵
據今年2月份報道,荷蘭半導體制造設備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價,高達3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)...
今日看點丨臺積電稱無需ASML新光刻機即可制造下一代A16芯片;傳比亞迪進軍越南受阻
1. 本田裁減中國員工1700 人 或將減少6 月工廠運營天數 ? 由于銷量下滑,本田汽車正在縮減其在中國的全職生產員工隊伍,目前已有約1700名員工同...
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