標簽 > 納米光刻
納米光刻是納米技術中涉及納米級結(jié)構(gòu)工程的技術領域中一個不斷發(fā)展的領域，納米光刻領域的誕生是出于增加集成電路中晶體管數(shù)量以維持摩爾定律的需要，光刻已成為最成功的商業(yè)技術，能夠產(chǎn)生100 nm以下的圖案。
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