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      標(biāo)簽　>　光刻機(jī)

      光刻機(jī)

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      2024-07-05 標(biāo)簽：半導(dǎo)體ipo光刻機(jī) 480 0

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      EUV 曝光用光源的輸出功率一直在穩(wěn)步增加，傳統(tǒng)型號為 250W 至 300W，最新型號 3600D 的功率增加到 350W。在研究層面，已經(jīng)做到了60...

      2023-06-19 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV光刻膠 472 0

      日本佳能發(fā)布新型***

      來源：中國半導(dǎo)體論壇 編輯：感知芯視界 Link 10月13日消息，日本佳能宣布推出新型光刻設(shè)備：FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備！ 受此...

      2023-10-17 標(biāo)簽：光刻機(jī) 459 0

      EUV光刻機(jī)機(jī)密文件被盜！

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      1. 三星加速先進(jìn)制程投資 明年Q1 建成月產(chǎn)能7000 片晶圓2nm 產(chǎn)線 ? 據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露，三星電子正在加快建立用于量產(chǎn)2nm工藝的生產(chǎn)設(shè)施。該公...

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      ASML為什么能在EUV領(lǐng)域獲勝？

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      在討論ASML以及為何復(fù)制其技術(shù)如此具有挑戰(zhàn)性時，分析通常集中在EUV機(jī)器的極端復(fù)雜性上，這歸因于競爭對手復(fù)制它的難度。

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      凈化機(jī)與光刻機(jī)：陌路交錯，攜手開創(chuàng)行業(yè)未來

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      股價26年來最大跌幅！ASML后悔了嗎？

      ASML因?yàn)榧夹g(shù)故障提前公布第三季度財報，其股價遭遇了26年來的最大跌幅，ASML后悔了嗎? 北京時間10月15日(周二)晚間22點(diǎn)左右，ASML提前在...

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      2025-01-07 標(biāo)簽：光刻機(jī)矽萬半導(dǎo)體 175 0

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