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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>電子資料>GaN的應(yīng)用和有什么樣優(yōu)勢(shì)

GaN的應(yīng)用和有什么樣優(yōu)勢(shì)

2020-10-21 | pdf | 0.30 MB | 次下載 | 1積分

資料介紹

  半導(dǎo)體行業(yè)在摩爾定律的“魔咒”下已經(jīng)狂奔了50多年,一路上挾風(fēng)帶雨,好不風(fēng)光。不過(guò)隨著半導(dǎo)體工藝的特征尺寸日益逼近理論極限,摩爾定律對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的加速度已經(jīng)明顯放緩。未來(lái)半導(dǎo)體技術(shù)的提升,除了進(jìn)一步榨取摩爾定律在制造工藝上最后一點(diǎn)“剩余價(jià)值”外,尋找硅(Si)以外新一代的半導(dǎo)體材料,也就成了一個(gè)重要方向。在這個(gè)過(guò)程中,氮化鎵(GaN)近年來(lái)作為一個(gè)高頻詞匯,進(jìn)入了人們的視野。 GaN和SiC同屬于第三代高大禁帶寬度的半導(dǎo)體材料,和第一代的Si以及第二代的GaAs等前輩相比,其在特性上優(yōu)勢(shì)突出。由于禁帶寬度大、導(dǎo)熱率高,GaN器件可在200℃以上的高溫下工作,能夠承載更高的能量密度,可靠性更高;較大禁帶寬度和絕緣破壞電場(chǎng),使得器件導(dǎo)通電阻減少,有利與提升器件整體的能效;電子飽和速度快,以及較高的載流子遷移率,可讓器件高速地工作。因此,利用GaN人們可以獲得具有更大帶寬、更高放大器增益、更高能效、尺寸更小的半導(dǎo)體器件,這與半導(dǎo)體行業(yè)一貫的“調(diào)性”是吻合的。與GaN相比,實(shí)際上同為第三代半導(dǎo)體材料的SiC的應(yīng)用研究起步更早,而之所以GaN近年來(lái)更為搶眼,主要的原因有兩點(diǎn)。首先,GaN在降低成本方面顯示出了更強(qiáng)的潛力。目前主流的GaN技術(shù)廠商都在研發(fā)以Si為襯底的GaN的器件,以替代昂貴的SiC襯底。有分析預(yù)測(cè)到2019年GaN MOSFET的成本將與傳統(tǒng)的Si器件相當(dāng),屆時(shí)很可能出現(xiàn)一個(gè)市場(chǎng)拐點(diǎn)。并且該技術(shù)對(duì)于供應(yīng)商來(lái)說(shuō)是一個(gè)有吸引力的市場(chǎng)機(jī)會(huì),它可以向它們的客戶提供目前半導(dǎo)體工藝材料可能無(wú)法企及的性能。其次,由于GaN器件是個(gè)平面器件,與現(xiàn)有的Si半導(dǎo)體工藝兼容性強(qiáng),這使其更容易與其他半導(dǎo)體器件集成。比如有廠商已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了驅(qū)動(dòng)IC和GaN開(kāi)關(guān)管的集成,進(jìn)一步降低用戶的使用門(mén)檻。正是基于GaN的上述特性,越來(lái)越多的人看好其發(fā)展的后勢(shì)。特別是在幾個(gè)關(guān)鍵市場(chǎng)中,GaN都表現(xiàn)出了相當(dāng)?shù)臐B透力。

  1、GaN在5G方面的應(yīng)用

  射頻氮化鎵技術(shù)是5G的絕配,基站功放使用氮化鎵。氮化鎵(GaN)、砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)是射頻應(yīng)用中常用的半導(dǎo)體材料。與砷化鎵和磷化銦等高頻工藝相比,氮化鎵器件輸出的功率更大;與LDCMOS和碳化硅(SiC)等功率工藝相比,氮化鎵的頻率特性更好。氮化鎵器件的瞬時(shí)帶寬更高,這一點(diǎn)很重要,載波聚合技術(shù)的使用以及準(zhǔn)備使用更高頻率的載波都是為了得到更大的帶寬。與硅或者其他器件相比,氮化鎵速度更快。GaN可以實(shí)現(xiàn)更高的功率密度。對(duì)于既定功率水平,GaN具有體積小的優(yōu)勢(shì)。有了更小的器件,就可以減小器件電容,從而使得較高帶寬系統(tǒng)的設(shè)計(jì)變得更加輕松。射頻電路中的一個(gè)關(guān)鍵組成是 PA(Power Amplifier,功率放大器)。從目前的應(yīng)用上看,功率放大器主要由砷化鎵功率放大器和互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體功率放大器(CMOS PA)組成,其中又以GaAs PA為主流,但隨著5G的到來(lái),砷化鎵器件將無(wú)法滿足在如此高的頻率下保持高集成度。于是,GaN成為下一個(gè)熱點(diǎn)。氮化鎵作為一種寬禁帶半導(dǎo)體,可承受更高的工作電壓,意味著其功率密度及可工作溫度更高,因而具有高功率密度、低能耗、適合高頻率、支持寬帶寬等特點(diǎn)。

  高通公司總裁Cristiano Amon 在2018 高通4G / 5G 峰會(huì)上表示:預(yù)計(jì)明年上半年和年底圣誕新年檔期將會(huì)是兩波5G 手機(jī)上市潮,首批商用5G 手機(jī)即將登場(chǎng)。據(jù)介紹,5G 技術(shù)預(yù)計(jì)將提供比目前的4G 網(wǎng)絡(luò)快10 至100 倍的速度,達(dá)到每秒千兆的級(jí)別,同時(shí)能夠更為有效地降低延遲。在5G的關(guān)鍵技術(shù)Massive MIMO應(yīng)用中,基站收發(fā)信機(jī)上使用大數(shù)量(如32/64等)的陣列天線來(lái)實(shí)現(xiàn)了更大的無(wú)線數(shù)據(jù)流量和連接可靠性,這種架構(gòu)需要相應(yīng)的射頻收發(fā)單元陣列配套,因此射頻器件的數(shù)量將大為增加,器件的尺寸大小很關(guān)鍵,利用 GaN的尺寸小、效率高和功率密度大的特點(diǎn)可實(shí)現(xiàn)高集化的解決方案,如模塊化射頻前端器件。同時(shí)在5G毫米波應(yīng)用上,GaN的高功率密度特性在實(shí)現(xiàn)相同覆蓋條件及用戶追蹤功能下,可有效減少收發(fā)通道數(shù)及整體方案的尺寸。實(shí)現(xiàn)性能成本的最優(yōu)化組合。

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